l小時(shí)加熱后的0· 2%耐力為370MPa以 上的高的物理特性。
[0030] 作為本申請(qǐng)的電解銅箔，常態(tài)延伸率為2. 5%以上，具有實(shí)用上可靠的延伸率。
[0031] 本申請(qǐng)的電解銅箔中，作為微量成分，C含量為100 μ g/g~450 μ g/g的范圍， N含量為50 μ g/g~620 μ g/g的范圍，O含量為400 μ g/g~3200 μ g/g的范圍，S含量 為110yg/g~720 yg/g的范圍，Cl含量為20yg/g~115yg/g的范圍，且滿足[Cl/ (C+N+O+S+Cl)] X 100彡5質(zhì)量％的關(guān)系，由此顯示了穩(wěn)定的高溫耐熱特性，因而是優(yōu)選的。
[0032] 電解銅箔的制造方法：本申請(qǐng)的電解銅箔的制造方法是上述電解銅箔的制造方 法，其特征在于，作為銅電解液，使用以20mg/L~100mg/L的濃度含有分子量為10000~ 70000的聚乙烯亞胺、且氯濃度為0. 5mg/L~2. 5mg/L的硫酸酸性銅電解液。
[0033] 表面處理銅箔：本申請(qǐng)的表面處理銅箔的特征在于，其是用上述電解銅箔得到的。
[0034] 發(fā)明的效果
[0035] 本申請(qǐng)的電解銅箔同時(shí)具有如"常態(tài)拉伸強(qiáng)度為600MPa以上"、且"350°C Xl小 時(shí)加熱后的拉伸強(qiáng)度為470MPa以上"的物理特性。即，作為本申請(qǐng)的電解銅箔，"常態(tài)的物 理特性"及"高溫加熱后的物理特性"兩者均優(yōu)異。從而，即使是薄的電解銅箔也可以具有 褶皺的發(fā)生少、良好的操作特性。并且，將這種電解銅箔用作為鋰離子二次電池的負(fù)極集電 體時(shí)，附著負(fù)極活性物質(zhì)時(shí)的拉伸強(qiáng)度的降低少，因此，對(duì)于進(jìn)行充電、放電時(shí)的膨脹、收縮 的抵抗力高，能夠延長(zhǎng)電池壽命。
[0036] 進(jìn)而，作為該電解銅箔，可以制成根據(jù)用途實(shí)施了粗糙化處理、防銹處理等的表面 處理銅箔，可以廣泛地用于印刷線路板、鋰離子二次電池等領(lǐng)域。
[0037] 并且，在本申請(qǐng)的電解銅箔的制造方法中，與制造現(xiàn)有的電解銅箔時(shí)使用的硫酸 酸性銅電解液相比，可以采用簡(jiǎn)單的浴組成，因此，溶液穩(wěn)定性優(yōu)異，廢液處理的負(fù)擔(dān)也得 以減輕，電解銅箔制造時(shí)的浴管理及管理成本的削減變得容易。
【具體實(shí)施方式】
[0038] 以下，依次對(duì)本申請(qǐng)的"電解銅箔的實(shí)施方式"、"電解銅箔的制造方式"、"用電解 銅箔得到的表面處理銅箔的實(shí)施方式"進(jìn)行闡述。
[0039] 電解銅箔的實(shí)施方式：本申請(qǐng)的電解銅箔是沒有實(shí)施防銹處理、粗糙化處理等表 面處理的銅箔，對(duì)于其厚度沒有特別的限定。此外，這里需要說明的是，以下闡述的本申請(qǐng) 的電解銅箔是根據(jù)物理特性加以確定的。作為該物理特性的值，在"電解銅箔"和實(shí)施了下 述的表面處理的"表面處理銅箔"之間顯示幾乎相同的值。
[0040] 本申請(qǐng)的電解銅箔的特征在于，同時(shí)具有如"常態(tài)拉伸強(qiáng)度為600MPa以上"、 "350°C Xl小時(shí)加熱后的拉伸強(qiáng)度為470MPa以上"的物理特性。類似的如"常態(tài)拉伸強(qiáng)度 為600MPa以上"的電解銅箔以往也是存在的。但是，同時(shí)顯示如"350°C Xl小時(shí)加熱后的 拉伸強(qiáng)度為470MPa以上"的物理特性的電解銅箔并不存在。為了得到具有如該"350°C Xl 小時(shí)加熱后的拉伸強(qiáng)度為470MPa以上"的物理特性的電解銅箔，使用具有如"常態(tài)拉伸強(qiáng) 度為600MPa以上"的物理特性的電解銅箔。
[0041] 電解銅箔如果是"常態(tài)拉伸強(qiáng)度為600MPa以上"，即使厚度為9 μπι以下的電解銅 箔在操作時(shí)也難以發(fā)生褶皺、操作性提高，因而是優(yōu)選的。進(jìn)而，將同時(shí)具有如"350°C Xl 小時(shí)加熱后的拉伸強(qiáng)度為470MPa以上"的物理特性的電解銅箔用作為鋰離子二次電池的 負(fù)極集電體時(shí)，能夠提供電池壽命長(zhǎng)的高品質(zhì)的鋰離子二次電池，因而是優(yōu)選的。這是由 于，將具有這種物理特性的電解銅箔用于負(fù)極集電體時(shí)，能夠負(fù)載合金類負(fù)極活性物質(zhì)，因 而即使在300°C以上的溫度進(jìn)行粘合劑的聚合反應(yīng)，該電解銅箔的強(qiáng)度降低也變少的緣故。 進(jìn)而，就"350°C Xl小時(shí)加熱后的拉伸強(qiáng)度"而言，更優(yōu)選的是"350°C Xl小時(shí)加熱后的拉 伸強(qiáng)度超過500MPa"。這是由于，熱處理時(shí)間即使變得更長(zhǎng)，也可以穩(wěn)定地具有高的拉伸強(qiáng) 度的緣故。并且，利用具有這種高溫耐熱特性的電解銅箔，還可以實(shí)現(xiàn)厚度薄的負(fù)極集電體 的設(shè)計(jì)。
[0042] 并且，作為本申請(qǐng)的電解銅箔，優(yōu)選"350°C Xl小時(shí)加熱后的0. 2%耐力為370MPa 以上"。就將非鐵材料的銅作為主成分的銅箔而言，在應(yīng)力-變形曲線中不存在如在鐵材料 中可見的屈服點(diǎn)。因此，進(jìn)行作為非鐵材料的客觀評(píng)價(jià)時(shí)，代替屈服點(diǎn)而采用"0. 2%耐力"。 此外，該"0.2%耐力"和上述"拉伸強(qiáng)度"并不顯示完全的相關(guān)性，但0.2%耐力的值高時(shí)， 拉伸強(qiáng)度也有變高的傾向。"350°C Xl小時(shí)加熱后的0. 2%耐力為370MPa以上"時(shí)，加熱 后的電解銅箔的拉伸強(qiáng)度的波動(dòng)有變小的傾向，可以穩(wěn)定地獲得如上述的"350°C X 1小時(shí) 加熱后的拉伸強(qiáng)度為470MPa以上"的物理特性。因此，就本申請(qǐng)的電解銅箔而言，通過將 "加熱后的0. 2%耐力"和"加熱后的拉伸強(qiáng)度"區(qū)分開來作為不同的指標(biāo)進(jìn)行評(píng)價(jià)，能夠切 實(shí)地進(jìn)行針對(duì)加熱的高溫耐熱特性的評(píng)價(jià)。以下，對(duì)施加更為嚴(yán)酷的高溫負(fù)荷時(shí)的、本申請(qǐng) 的電解銅箔所表現(xiàn)出的高溫耐熱特性進(jìn)行闡述。此外，作為本申請(qǐng)的電解銅箔，更優(yōu)選的是 "350°C Xl小時(shí)加熱后的0. 2%耐力為410MPa以上"。這是由于，可以穩(wěn)定地獲得上述的 350°C X 1小時(shí)加熱后的拉伸強(qiáng)度超過500MPa的電解銅箔的緣故。
[0043] 進(jìn)而，即使施加如350°C X4小時(shí)的高溫負(fù)荷，本申請(qǐng)的電解銅箔也優(yōu)選具有如 "350°C X4小時(shí)加熱后的拉伸強(qiáng)度為470MPa以上"的高的拉伸強(qiáng)度。進(jìn)而，作為本申請(qǐng)的 電解銅箔，更優(yōu)選的是具有如"350°C X4小時(shí)加熱后的拉伸強(qiáng)度為500MPa以上"的高的 拉伸強(qiáng)度。并且，作為本申請(qǐng)的電解銅箔，優(yōu)選具有如"350°C X4小時(shí)加熱后的0.2%耐 力為370MPa以上"的高的0.2%耐力。進(jìn)而，作為本申請(qǐng)的電解銅箔，更優(yōu)選的是具有如 "350°C X4小時(shí)加熱后的0· 2%耐力為410MPa以上"的高的0· 2%耐力。
[0044] 并且，作為本申請(qǐng)的電解銅箔，優(yōu)選的是常態(tài)延伸率在2. 5%以上。該常態(tài)延伸率 小于2. 5%時(shí)，在電解銅箔表面形成含有負(fù)極活性物質(zhì)的合劑層時(shí)會(huì)出現(xiàn)電解銅箔斷裂的 情況。
[0045] 可以認(rèn)為，以上提到的本申請(qǐng)的電解銅箔的物理性質(zhì)是由電解銅箔中含有的微量 成分貢獻(xiàn)的。進(jìn)而，就本申請(qǐng)的電解銅箔的微量成分而言，以Ig質(zhì)量的電解銅箔中的含量 計(jì)，優(yōu)選滿足以下所示的條件。即，優(yōu)選C含量為100 μ g/g~450 μ g/g (意為" 100 μ g/g以 上、450 μ g/g以下"，以下相同），N含量為50 μ g/g~620 μ g/g的范圍，O含量為400 μ g/g~ 3200 μ g/g的范圍，S含量為110 μ g/g~720 μ g/g的范圍，Cl含量為20 μ g/g~115 μ g/ g的范圍，且滿足[CV(C+N+0+S+Cl)] X 100彡5質(zhì)量％的關(guān)系。沒有滿足該微量成分含量 的條件時(shí)，施加高溫負(fù)荷后電解銅箔的結(jié)晶組織的再結(jié)晶化加劇，該結(jié)晶組織內(nèi)易于生成 空洞。此外，本發(fā)明中的微量成分含量是用每Ig銅箔中的含量來表示，因而使用了"yg/ g"的單位。進(jìn)而，[CV(C+N+0+S+Cl)] X 100是電解銅箔中含有的Cl含量（μ g/g)的值除 以電解銅箔中含有的C(碳）含量、N(氮）含量、0(氧）含量、S(硫）含量、Cl(氯）含量 的總量（μg/g)的值，再乘以100后得到的百分率換算值（質(zhì)量％ )。
[0046] 進(jìn)而，作為本申請(qǐng)的電解銅箔中含有的N(氮）的微量成分比率，更優(yōu)選的是滿足 [NAN+S+C1)] XlOO彡20質(zhì)量％的關(guān)系。不滿足該關(guān)系時(shí)，施加高溫負(fù)荷時(shí)電解銅箔的結(jié) 晶組織的再結(jié)晶化加劇，該結(jié)晶組織內(nèi)易于生成空洞。350°C Xl小時(shí)以上的加熱時(shí)，拉伸 強(qiáng)度及0. 2%耐力的波動(dòng)有變大的傾向。此外，[NAN+S+C1)] X 100是電解銅箔中含有的N 含量（yg/g)的值除以電解銅箔中含有的C含量、S含量、Cl含量的總量（yg/g)的值，再 乘以100后得到的百分率換算值（質(zhì)量％ )。
[0047] 并且，作為本申請(qǐng)的電解銅箔中含有的Cl(氯）的微量成分比率，更優(yōu)選滿足[Cl/ (N+S+Cl)] X 100彡20質(zhì)量％的關(guān)系。該值超過20質(zhì)量％時(shí)，施加高溫負(fù)荷時(shí)電解銅箔的 結(jié)晶組織的再結(jié)晶化加劇，該結(jié)晶組織內(nèi)易于生成空洞。關(guān)于該值，沒有特別設(shè)定下限值， 但適宜的是3. O質(zhì)量％。低于3. O質(zhì)量％時(shí)，拉伸強(qiáng)度及0. 2%耐力的波動(dòng)有變大的傾向。 此外，[CV(N+S+Cl)] XlOO是電解銅箔中含有的Cl含量（yg/g)的值除以電解銅箔中含 有的N含量、S含量、Cl含量的總量（yg/g)的值，再乘以100后得到的百分率換算值（質(zhì) 量％ )。
[0048] 電解銅箔的制造方式：本申請(qǐng)的電解銅箔的制造方法是上述的電解銅箔的制造方 法，其特征在于，作為銅電解液，使用"以20mg/L~100mg/L的濃度含有分子量為10000~ 70000的聚乙稀亞胺、且氯濃度0. 5mg/L~2. 5mg/L的硫酸酸性銅電解液"。此外，關(guān)于"硫酸 酸性銅電解液"的銅濃度及游離硫酸濃度，沒有特別的限定，但通常銅濃度為70g/L~90g/ L的范