專利名稱：一種電鍍鎳邊緣屏蔽裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種電鍍鎳邊緣屏蔽裝置。
背景技術(shù)：
現(xiàn)有技術(shù)中，靶材在電鍍過程中，鍍層邊緣鎳沉積速度一般為其他區(qū)域的2-3倍，為保持鍍層厚度的均勻性，一般要將邊緣部分切除4-5mm，這樣不僅造成鍍層材料的浪費(fèi)，更重要的是造成了靶材的浪費(fèi)，特別是對于In、Ga等貴重合 金靶材邊料的切除損失非常大。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型要解決的技術(shù)問題是提供一種電鍍鎳邊緣屏蔽裝置。本實(shí)用新型內(nèi)容是通過以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的本實(shí)用新型包括傳動導(dǎo)電輥(I)、屏蔽器(3)、卡槽(4)、彈簧(5)、電鍍液(6)、電鍍槽壁(7)。其特征在于電鍍槽內(nèi)設(shè)有兩個屏蔽器(3)，用彈簧(5)將屏蔽器(3)與電鍍槽壁
(7)連接,屏蔽器(3)內(nèi)設(shè)有卡槽(4),電鍍槽內(nèi)設(shè)有兩個傳動導(dǎo)電棍(I),電鍍液(6)置于電鍍槽中。所述的屏蔽器(3)為開口卡槽型,卡槽(4)的材質(zhì)為pvc板,卡槽的高度為祀材厚度與預(yù)期鎳鍍層厚度的2倍之和，卡槽(4)的長度為兩傳動導(dǎo)電輥(I)間距的2/3。所述的彈簧(5)的材質(zhì)為普通彈簧，彈性系數(shù)為O. 5N/mm。本實(shí)用新型的有益效果是靶材在電鍍過程采用屏蔽裝置，鎳鍍層邊緣厚度為其他區(qū)域的I. 5倍左右，邊料切除量相比以前減少60%，大大提高了材料的利用率。本實(shí)用新型保持了鍍層厚度的均勻性，降低了鍍層邊緣鎳沉積速度，從而減少了靶材余料的浪費(fèi)，節(jié)約了成本。

圖I為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。圖2為圖I的3所示局部放大圖。圖I和圖2中所不1、傳動導(dǎo)電棍；2、祀材；3、屏蔽器；4、卡槽；5、彈簧；6、電鍍
液；7、電鍍槽壁。
具體實(shí)施方式
如圖I和圖2中所示，本實(shí)用新型包括傳動導(dǎo)電輥I、屏蔽器3、卡槽4、彈簧5、電鍍液6、電鍍槽壁7。其特征在于電鍍槽內(nèi)設(shè)有兩個屏蔽器3，用彈簧5將屏蔽器3與電鍍槽壁7連接,屏蔽器3內(nèi)設(shè)有卡槽4,電鍍槽內(nèi)設(shè)有兩個傳動導(dǎo)電棍I,電鍍液6置于電鍍槽中。屏蔽器3為開口卡槽型,卡槽4的材質(zhì)為pvc板,卡槽的高度為祀材厚度與預(yù)期鎳鍍層厚度的2倍之和，卡槽4的長度為兩傳動導(dǎo)電輥間距的2/3，靶材2邊緣部分在卡槽3內(nèi)。工作狀態(tài)下，靶材2邊緣隨傳動導(dǎo)電輥I運(yùn)動，在運(yùn)動過程中經(jīng)過卡槽4內(nèi)部，卡槽4起到提高電鍍液中鎳離子的運(yùn)動路程的作用，彈簧5起到防止靶材偏移從而導(dǎo)致卡槽失效的作用，采用此裝置降低了靶材邊緣附近的鎳離子濃度，從而降低鎳沉積速度。 ·
權(quán)利要求1.一種電鍍鎳邊緣屏蔽裝置，它包括傳動導(dǎo)電輥(I)、屏蔽器(3)、卡槽(4)、彈簧(5)、電鍍液(6 )、電鍍槽壁(7 )，其特征在于電鍍槽內(nèi)設(shè)有兩個屏蔽器(3 )，用彈簧(5 )將屏蔽器(3 )與電鍍槽壁(7 )連接，屏蔽器(3 )內(nèi)設(shè)有卡槽(4 )，電鍍槽內(nèi)設(shè)有兩個傳動導(dǎo)電輥(I)，電鍍液(6 )置于電鍍槽中。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的一種電鍍鎳邊緣屏蔽裝置，其特征在于，屏蔽器(3)為開口卡槽型，卡槽(4)的材質(zhì)為pvc板，卡槽的高度為靶材厚度與預(yù)期鎳鍍層厚度的2倍之和，卡槽(4)的長度為兩傳動導(dǎo)電輥間距的2/3。
3.根據(jù)權(quán)利要求I所述的一種電鍍鎳邊緣屏蔽裝置，其特征在于，彈簧(5)為普通彈簧，彈性系數(shù)為O. 5N/mm。
專利摘要本實(shí)用新型涉及一種電鍍鎳邊緣屏蔽裝置，本實(shí)用新型包括傳動導(dǎo)電輥、屏蔽器、卡槽、彈簧、電鍍液、電鍍槽壁。其特征在于電鍍槽內(nèi)設(shè)有兩個屏蔽器，用彈簧將屏蔽裝置與電鍍槽壁連接，屏蔽器內(nèi)設(shè)有卡槽，電鍍槽內(nèi)設(shè)有兩個傳動導(dǎo)電輥，電鍍液置于電鍍槽中。屏蔽器為開口卡槽型，靶材邊緣隨傳動導(dǎo)電輥運(yùn)動，在運(yùn)動過程中經(jīng)過卡槽內(nèi)部，卡槽起到提高電鍍液中鎳離子的運(yùn)動路程的作用，彈簧起到防止靶材偏移從而導(dǎo)致卡槽失效的作用，本實(shí)用新型保持了鍍層厚度的均勻性，降低了鍍層邊緣鎳沉積速度，從而減少了靶材余料的浪費(fèi)，節(jié)約了成本。
文檔編號C25D5/02GK202509143SQ20122003192
公開日2012年10月31日 申請日期2012年2月1日 優(yōu)先權(quán)日2012年2月1日
發(fā)明者李應(yīng)國, 王萍, 袁澤中, 鄒碩華, 陳錦文 申請人:湖南中精倫金屬材料有限公司