技術(shù)編號：5291581
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本實用新型涉及一種電鍍鎳邊緣屏蔽裝置。背景技術(shù)現(xiàn)有技術(shù)中，靶材在電鍍過程中，鍍層邊緣鎳沉積速度一般為其他區(qū)域的2-3倍，為保持鍍層厚度的均勻性，一般要將邊緣部分切除4-5mm，這樣不僅造成鍍層材料的浪費，更重要的是造成了靶材的浪費，特別是對于In、Ga等貴重合 金靶材邊料的切除損失非常大。實用新型內(nèi)容本實用新型要解決的技術(shù)問題是提供一種電鍍鎳邊緣屏蔽裝置。本實用新型內(nèi)容是通過以下技術(shù)方案實現(xiàn)的本實用新型包括傳動導(dǎo)電輥(I)、屏蔽器(3)、卡槽(4)、彈簧(...
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