專利名稱：殼體的制備方法及由該方法制得的殼體的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種殼體的制備方法及由該方法制得的殼體，尤其涉及一種具有黑色外觀的殼體的制備方法及由該方法制得的殼體。
背景技術：
黑色涂層的應用主要是為了消除或減小光線的影響，或作為產(chǎn)品表面的裝飾涂層。目前最常用的制備黑色涂層的方法為電化學方法，如陽極氧化黑色膜，電鍍黑鎳或黑鉻等，但該類方法污染重不環(huán)保。PVD鍍膜技術是一種較為環(huán)保的鍍膜工藝。現(xiàn)有技術中，利用PVD鍍膜技術于殼體表面形成的黑色膜層在工業(yè)上應用得較多的膜系主要是碳化鈦(TiC)及碳化鉻(CrC)等。在利用PVD鍍膜技術制備黑色的碳化鈦或碳化鉻膜層的過程中，為了使膜層黑色的深度較大，即降低涂層的色度區(qū)域于CIE LAB表色系統(tǒng)中的L*值使其小于35，通常需通入大量的碳源反應氣體，如甲烷、乙炔等，然而這些氣體通入過多時，氣體會與靶材反應造成靶材中

發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此，本發(fā)明提供一種有效解決上述問題的黑色外觀的殼體的制備方法。另外，本發(fā)明還提供一種由上述方法所制得的殼體。一種殼體的制備方法，其包括如下步驟提供一基體；在該基體的表面形成一色彩層，該色彩層為碳化硼層，形成所述色彩層采用磁控濺射法，使用的靶材的成份為BCX，其中3 < χ < 4，濺射溫度為120 150°C，所述色彩層呈現(xiàn)的色度區(qū)域于CIE LAB表色系統(tǒng)的I；坐標介于30至35之間，a*坐標介于_1至1之間，b*坐標介于-1至1之間。一種殼體包括基體及形成于基體表面的色彩層，該色彩層為碳化硼，該色彩層呈現(xiàn)的色度區(qū)域于CIE LAB表色系統(tǒng)的L*坐標介于30至35之間，a*坐標介于_1至1之間，b*坐標介于-1至1之間。相較于現(xiàn)有技術，本發(fā)明殼體的制備方法在形成色彩層時，通過制備特殊成份的靶材和對濺射溫度的控制，且在不通入碳源反應氣體的情況下，使所述色彩層呈現(xiàn)黑色，且該色彩層的色度區(qū)域于CIE LAB表色系統(tǒng)的I；低于35，該色彩層使所述殼體呈現(xiàn)出具有吸引力的黑色的外觀；且所述色彩層具有良好的抗磨損性能，可持久保持其良好的黑色的外觀，同時還可有效防止基體被磨損，相應地延長了殼體的使用壽命。


圖1是本發(fā)明一較佳實施例殼體的剖視圖；圖2是本發(fā)明一較佳實施例真空鍍膜機的示意圖。
主要元件符號說明殼體10基體11色彩層13真空鍍膜機20鍍膜室21靶材2具體實施例方式本發(fā)明一較佳實施方式的殼體10(如圖1所示)的制備方法包括如下步驟提供一基體11。該基體11的材質(zhì)可為金屬、玻璃或陶瓷。對該基體11進行預處理，該預處理可包括拋光、乙醇中超聲波清洗及烘干等步
馬聚ο在基體11的表面形成一色彩層13。該色彩層13為碳化硼層，其采用磁控濺射的方式形成。制備靶材23，該靶材的成份為BCX，其中3 < χ < 4，該靶材23的制備可采用常規(guī)的粉末冶金的方法，將硼粉與石墨粉按質(zhì)量比為1 3 1 4的比例混合均勻，采用冷等靜壓制成一坯體，再在1100 1300燒結2 3h，自然冷卻后即可。形成該色彩層13的具體操作方法可為如圖2所示，將基體11放入一真空鍍膜機20的鍍膜室21內(nèi)，抽真空使該鍍膜室21的本底真空度為8 X 10_3Pa，加熱該鍍膜室21使基體11的溫度為120 150°C ；開啟靶材23，設定靶材23的功率為7 10kw，設定施加于基體11的偏壓為-100 -155V，占空比為40 55% ；通入工作氣體氬氣，氬氣的流量可為200 300sCCm，沉積所述色彩層13。沉積所述色彩層13的時間可為15 25min。所述色彩層13的厚度可為400 600nm。該色彩層13于CIE LAB表色系統(tǒng)的L*坐標介于30至35之間，a*坐標介于_1至1之間，b*坐標介于-ι至1之間。請再一次參閱圖1，由上述方法所制得的殼體10包括基體11、及形成于基體11表面的色彩層13。該色彩層13呈現(xiàn)黑色?；w11的材質(zhì)可為金屬、玻璃或陶瓷。該色彩層13為碳化硼層，其厚度可為400 600nm。該色彩層13由肉眼直觀呈現(xiàn)黑色，而其呈現(xiàn)的色度區(qū)域于CIE LAB表色系統(tǒng)的I；坐標介于30至35之間，a*坐標介于-1至1之間，b*坐標介于-1至1之間。本發(fā)明殼體10可為筆記型計算機、個人數(shù)字助理等電子裝置的殼體，或為其他裝飾類產(chǎn)品的殼體。本發(fā)明殼體10的制備方法在形成色彩層13時，通過制備特殊成份的靶材和對濺射溫度的控制，且在不通入碳源反應氣體的情況下，使所述色彩層13呈現(xiàn)黑色，且該色彩層13的色度區(qū)域于CIELAB表色系統(tǒng)的L*低于35，該色彩層13使所述殼體10呈現(xiàn)出具有吸引力的黑色的外觀；且所述色彩層13具有良好的抗磨損性能，可持久保持其良好的黑色的外觀，同時還可有效防止基體11被磨損，相應地延長了殼體10的使用壽命。
權利要求
1.一種殼體的制備方法，其包括如下步驟提供一基體；在該基體的表面形成一色彩層，該色彩層為碳化硼層，形成所述色彩層采用磁控濺射法，使用的靶材的成份為BCX，其中3 < X < 4，濺射溫度為120 150，所述色彩層呈現(xiàn)的色度區(qū)域于CIE LAB表色系統(tǒng)的L*坐標介于30至35之間，a*坐標介于_1至1之間，b*坐標介于-1至1之間。
2.如權利要求1所述的殼體的制備方法，其特征在于該基體的材質(zhì)為金屬、玻璃或陶ο
3.如權利要求1所述的殼體的制備方法，其特征在于形成該色彩層的工藝參數(shù)為靶材的功率為7 10kw，以氬氣為工作氣體，氬氣的流量為200 300SCCm，施加于基體的偏壓為-100 -155V，占空比為40 55%，鍍膜時間為15 25min。
4.如權利要求1所述的殼體的制備方法，其特征在于該色彩層的厚度為400 600nmo
5.如權利要求1所述的殼體的制備方法，其特征在于該色彩層呈現(xiàn)黑色。
6.如權利要求1所述的殼體的制備方法，其特征在于制備所述靶材采用如下方式實現(xiàn)采用粉末冶金法，將硼粉與石墨粉按質(zhì)量比為1 3 1 4的比例混合均勻，采用冷等靜壓制成一坯體，再在1100 1300燒結2 3h。
7.一種由權利要求1-6中的任一項所述的方法制得的殼體。
全文摘要
本發(fā)明提供一種具有黑色外觀的殼體的制備方法，其包括如下步驟提供一基體；在該基體的表面形成一色彩層，該色彩層為碳化硼層，形成所述色彩層采用磁控濺射法，使用的靶材的成份為BCx，其中3＜x＜4，濺射溫度為120～150℃，所述色彩層呈現(xiàn)的色度區(qū)域于CIE LAB表色系統(tǒng)的L*坐標介于30至35之間，a*坐標介于-1至1之間，b*坐標介于-1至1之間。本發(fā)明在形成色彩層時，通過制備特殊成份的靶材和對濺射溫度的控制，且在不通入碳源反應氣體的情況下，使所述色彩層呈現(xiàn)黑色，且該色彩層的色度區(qū)域于CIE LAB表色系統(tǒng)的L*低于35。本發(fā)明還提供一種由上述方法制得的殼體。
文檔編號G12B9/02GK102568616SQ20101058496
公開日2012年7月11日 申請日期2010年12月13日 優(yōu)先權日2010年12月13日
發(fā)明者張新倍, 李聰, 蔣煥梧, 陳文榮, 陳正士 申請人:鴻富錦精密工業(yè)(深圳)有限公司, 鴻海精密工業(yè)股份有限公司