本發(fā)明涉及一種真空吸附滑動(dòng)裝置。

背景技術(shù)：

在一些生產(chǎn)設(shè)備或生產(chǎn)線上，對(duì)一些板狀零部件需要進(jìn)行運(yùn)送或移動(dòng)。而真空輸運(yùn)的方法就是一種可采用的方式。有些板狀零部件如果人工用手操作會(huì)對(duì)板面造成污染或損傷，影響板的質(zhì)量，包括可能的靜電危害。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明主要解決的技術(shù)問(wèn)題是提供一種真空吸附滑動(dòng)裝置，該真空吸附滑動(dòng)裝置可以利用真空吸附來(lái)輸運(yùn)一些板形的零部件，對(duì)所輸運(yùn)零部件的表面損傷小，沒(méi)有靜電危害，并且滑塊可以在滑軌上滑動(dòng)，便于上料。

為解決上述技術(shù)問(wèn)題，本發(fā)明采用的一個(gè)技術(shù)方案是：提供一種真空吸附滑動(dòng)裝置，包括滑塊和升降板，所述升降板位于所述滑塊的上方，所述升降板與所述滑塊平行，所述滑塊的頂面上設(shè)置有一凹槽，所述真空吸附滑動(dòng)裝置所吸附的被吸附板設(shè)置在所述凹槽內(nèi)，所述升降板上垂直設(shè)置有兩根升降桿，所述兩根升降桿的底端均設(shè)置有吸嘴，所述升降板上還設(shè)置有驅(qū)動(dòng)所述升降板進(jìn)行升降和水平運(yùn)動(dòng)的驅(qū)動(dòng)裝置，所述滑塊設(shè)置有滑槽，所述滑槽與所述滑軌配合使所述滑塊可以在所述滑軌上滑動(dòng)。

在本發(fā)明一個(gè)較佳實(shí)施例中，所述升降桿為中空的管狀，所述升降桿的頂端連接有氣管，所述氣管內(nèi)充有負(fù)壓氣體。

在本發(fā)明一個(gè)較佳實(shí)施例中，所述滑塊上設(shè)置有定位銷(xiāo)，所述被吸附板上設(shè)置有定位孔，所述定位銷(xiāo)與定位孔間隙配合。

在本發(fā)明一個(gè)較佳實(shí)施例中，所述吸嘴與所述升降桿的所述中空部分連通。

本發(fā)明的有益效果是：本發(fā)明的真空吸附滑動(dòng)裝置可以利用真空吸附來(lái)輸運(yùn)一些板形的零部件，對(duì)所輸運(yùn)零部件的表面損傷小，沒(méi)有靜電危害，并且滑塊可以在滑軌上滑動(dòng)，便于上料。

附圖說(shuō)明

為了更清楚地說(shuō)明本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹，顯而易見(jiàn)地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其它的附圖，其中：

圖1是本發(fā)明的真空吸附滑動(dòng)裝置的實(shí)施例示意圖。

附圖中各部件的標(biāo)記如下：1、滑塊，2、凹槽，3、被吸附板，4、升降板，5、升降桿，6、吸嘴，7、驅(qū)動(dòng)裝置，8、氣管，9、滑軌，10、定位銷(xiāo)。

具體實(shí)施方式

下面將對(duì)本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅是本發(fā)明的一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒景l(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒(méi)有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其它實(shí)施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。

請(qǐng)參閱圖1，本發(fā)明實(shí)施例包括：

一種真空吸附滑動(dòng)裝置，包括滑塊1和升降板4，所述升降板4位于所述滑塊1的上方，所述升降板4與所述滑塊1平行，所述滑塊1的頂面上設(shè)置有一凹槽2，所述真空吸附滑動(dòng)裝置所吸附的被吸附板3設(shè)置在所述凹槽2內(nèi)，所述升降板4上垂直設(shè)置有兩根升降桿5，所述兩根升降桿5的底端均設(shè)置有吸嘴6，所述升降板4上還設(shè)置有驅(qū)動(dòng)所述升降板4進(jìn)行升降和水平運(yùn)動(dòng)的驅(qū)動(dòng)裝置7，所述滑塊1設(shè)置有滑槽，所述滑槽與所述滑軌9配合使所述滑塊可以在所述滑軌9上滑動(dòng)。

優(yōu)選地，所述升降桿5為中空的管狀，所述升降桿5的頂端連接有氣管8，所述氣管8內(nèi)充有負(fù)壓氣體。

優(yōu)選地，所述滑塊1上設(shè)置有定位銷(xiāo)10，所述被吸附板3上設(shè)置有定位孔，所述定位銷(xiāo)10與定位孔間隙配合。

優(yōu)選地，所述吸嘴6與所述升降桿5的所述中空部分連通。

驅(qū)動(dòng)裝置7驅(qū)動(dòng)升降板4下降，升降板4帶動(dòng)升降桿5和吸嘴6下降，吸嘴6壓住被吸附板3，在氣管8內(nèi)負(fù)壓氣體的作用下吸嘴6將被吸附板3吸附住。驅(qū)動(dòng)裝置7驅(qū)動(dòng)升降板4上升將被吸附板3提起并可以移走。整個(gè)過(guò)程不需要人工的手接觸被吸附板3，不會(huì)對(duì)被吸附板3造成表面污染或是靜電損害。

定位銷(xiāo)10對(duì)被吸附板3起定位作用，滑塊1在滑軌9上滑動(dòng)，可以將滑塊1滑動(dòng)到上料位置進(jìn)行上料，安放被吸附板3。

以上所述僅為本發(fā)明的實(shí)施例，并非因此限制本發(fā)明的專(zhuān)利范圍，凡是利用本發(fā)明說(shuō)明書(shū)內(nèi)容所作的等效結(jié)構(gòu)或等效流程變換，或直接或間接運(yùn)用在其它相關(guān)的技術(shù)領(lǐng)域，均同理包括在本發(fā)明的專(zhuān)利保護(hù)范圍內(nèi)。