干燥裝置、涂敷膜形成系統(tǒng)以及其方法
【專利摘要】本發(fā)明提供一種適當(dāng)?shù)乜刂朴糜谑雇糠笥诨纳系臐{狀的涂敷液干燥的干燥強度的技術(shù)。干燥裝置(3A)使涂敷于連續(xù)搬運的基材(51)的一側(cè)主面(51)上的漿狀的涂敷液(41)干燥。干燥裝置(3A)具有：加熱部(涂敷面?zhèn)燃訜岵?35)以及背面?zhèn)燃訜岵?37))，對涂敷液(41)進(jìn)行加熱處理；輻射溫度計(39)，在加熱部的搬運方向上的下游側(cè)的位置，對基材(5)上的輻射率不會因加熱處理變動的另一側(cè)主面(53)上的輔射率不變部位(531)的溫度進(jìn)行測量；加熱控制部(711)，基于輻射溫度計(39)測量出的溫度來控制加熱部進(jìn)行的加熱處理的強度。
【專利說明】
干燥裝置、涂敷膜形成系統(tǒng)以及其方法
技術(shù)領(lǐng)域
[0001 ]本發(fā)明涉及一種使?jié){狀的涂敷液干燥的技術(shù)。
【背景技術(shù)】
[0002]在專利文獻(xiàn)I中披露了，利用由福射溫度計或者熱成像(thermography)構(gòu)成的溫度測量部在多個位置測量基材上的涂敷膜的溫度。另外，還披露了基于各溫度測量部的測量結(jié)果，使下游側(cè)的干燥噴嘴的干燥強度大于上游側(cè)的干燥噴嘴的干燥強度。
[0003]另外，在專利文獻(xiàn)2中披露了，為了提高涂敷膜對基材的粘附力，用加熱單元從未涂敷有涂敷膜的基材面?zhèn)葋砑訜峄?，用冷卻單元隔著基材從加熱單元的相反側(cè)來冷卻涂敷膜的上表面。另外，還解析了當(dāng)將涂敷膜從基材上撕下時的剝離力與基材上表面溫度以及基材下表面溫度的溫度差的關(guān)聯(lián)關(guān)系。
[0004]專利文獻(xiàn)1: JP特開2013-108648號公報
[0005]專利文獻(xiàn)2: JP特開2014-173803號公報
[0006]在專利文獻(xiàn)I中使用的輻射溫度計或者熱成像的情況下，將涂敷膜的輻射率設(shè)定為規(guī)定的值，由此測量干燥處理中的涂敷膜的上表面溫度。但是，由于干燥處理中的涂敷膜的輻射率因溶劑的蒸發(fā)等而變動，所以有時溫度計的輻射率的設(shè)定值與實際的輻射率大不相同。因此，無法準(zhǔn)確地測量涂敷膜上表面溫度，可能進(jìn)行了錯誤的溫度控制。另外，在專利文獻(xiàn)I中記載的干燥裝置中，測量結(jié)果用于控制下游側(cè)的干燥噴嘴。因此，存在上游側(cè)的干燥噴嘴繼續(xù)進(jìn)行不恰當(dāng)?shù)母稍锾幚淼奈ｋU。
[0007]另外，在專利文獻(xiàn)2中沒有明確指出以何種方式測量基材的各部位的溫度。另外，在專利文獻(xiàn)2中既沒有如專利文獻(xiàn)I那樣披露，基于各部位的溫度的測量結(jié)果來控制加熱單元(或者冷卻單元)這樣的技術(shù)思想，也沒有給出啟示。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0008]本發(fā)明的目的在于，提供一種適當(dāng)?shù)乜刂朴糜谑雇糠笥诨纳系臐{狀的涂敷液干燥的干燥強度的技術(shù)。
[0009]為了解決上述的問題，本發(fā)明的第I技術(shù)方案是一種干燥裝置，使涂敷于被搬運機構(gòu)連續(xù)搬運的基材的兩個主面中的至少一側(cè)主面上的漿狀的涂敷液干燥，該搬運機構(gòu)一邊從第一輥送出所述基材，一邊用第二輥卷收所述基材，該干燥裝置具有:加熱部，對涂敷于所述基材上的涂敷液進(jìn)行加熱處理，輻射溫度計，在搬運方向上的所述加熱部的下游側(cè)的位置，對所述基材上的輻射率不會因所述加熱處理變動的輻射率不變部位的溫度進(jìn)行測量，以及控制部，基于所述輻射溫度計測量出的溫度，控制所述加熱處理的強度。
[0010]另外，第2技術(shù)方案的干燥裝置，在第I技術(shù)方案中，所述輻射溫度計在所述基材上的未涂敷有所述涂敷液的非涂敷部位或者形成有已干燥的所述涂敷液的涂敷膜的涂敷膜形成部位測量溫度。
[0011]另外，第3技術(shù)方案的干燥裝置，在第I或者第2技術(shù)方案中，該干燥裝置還具有機殼部，該機殼部形成有用于使所述基材進(jìn)入內(nèi)部的進(jìn)入口以及用于使所述基材從內(nèi)部退出的退出口，所述加熱部以及所述輻射溫度計容置于所述機殼部內(nèi)。
[0012]另外，第4技術(shù)方案的干燥裝置，在第I?第3技術(shù)方案中，在所述輻射溫度計測量出的所述輻射率不變部位的溫度比目標(biāo)溫度低的情況下，所述控制部使所述加熱部進(jìn)行的所述加熱處理的強度增強，在所述輻射率不變部位的溫度比所述目標(biāo)溫度高的情況下，所述控制部使所述加熱部進(jìn)行的所述加熱處理的強度減弱。
[0013]另外，第5技術(shù)方案的干燥裝置，在第4技術(shù)方案中，所述加熱部具有熱風(fēng)供給部，該熱風(fēng)供給部向所述基材吹送溫度比所述目標(biāo)溫度高的熱風(fēng)，來加熱所述涂敷液。
[0014]另外，第6技術(shù)方案的干燥裝置，在第I?第5中任一技術(shù)方案中，所述加熱部以及所述輻射溫度計沿著所述基材的搬運路徑至少排列有一組以上。
[0015]另外，第7種技術(shù)方案的干燥裝置，在第I?第6中任一技術(shù)方案中，還具有支撐輥，該支撐輥配置于所述加熱部的下游側(cè)，支撐所述基材的另一側(cè)主面，所述輻射溫度計在所述加熱部與所述支撐輥之間的位置，測量所述輻射率不變部位的溫度。
[0016]另外，第8技術(shù)方案的干燥裝置，在第I?第7技術(shù)方案中任一技術(shù)方案中，該干燥裝置還具有多個排列于不同的高度的支撐輥，所述多個支撐輥以使所述基材呈向所述一側(cè)主面?zhèn)韧钩龅耐範(fàn)畹姆绞街卧撍龌摹?br>[0017]另外，第9技術(shù)方案的干燥裝置，在第I?第8技術(shù)方案中任一技術(shù)方案中，還具有通知部，在由所述輻射溫度計測量出的所述輻射率不變部位的溫度超過規(guī)定的基準(zhǔn)溫度的情況下，該通知部向外部發(fā)出通知。
[0018]另外，第10技術(shù)方案是一種涂敷膜形成系統(tǒng)，在基材上形成涂敷膜，該涂敷膜形成系統(tǒng)具有:搬運機構(gòu)，用第二輥卷收從第一輥送出的基材，來連續(xù)搬運所述基材，涂敷部，向被所述搬運機構(gòu)搬運的基材的兩個主面中的至少一側(cè)主面涂敷漿狀的涂敷液，以及第I?第9技術(shù)方案中任一技術(shù)方案的干燥裝置。
[0019]另外，第11技術(shù)方案是一種干燥方法，該干燥方法使涂敷于通過一邊從第一輥送出基材一邊用第二輥卷收而被連續(xù)搬運的所述基材的兩個主面中的至少一側(cè)主面上的漿狀的涂敷液干燥，包括:加熱工序，對涂敷于所述基材上的涂敷液進(jìn)行加熱處理，溫度測量工序，用輻射溫度計對在所述加熱工序中已被加熱的所述基材中的輻射率不會因所述加熱處理變動的輻射率不變部位的溫度進(jìn)行測量，以及控制工序，基于所述輻射溫度計測量出的溫度，控制所述加熱處理的強度。
[0020]另外，第12技術(shù)方案是一種涂敷膜形成方法，在基材上形成涂敷膜，包括:搬運工序，用第二輥卷收從第一輥送出的基材，來連續(xù)搬運基材，涂敷工序，在所述搬運工序中連續(xù)搬運的基材的兩個主面中的至少一側(cè)主面上涂敷漿狀的涂敷液，加熱工序，對涂敷于所述基材上的涂敷液進(jìn)行加熱處理，溫度測量工序，用輻射溫度計對在所述加熱工序中已被加熱的所述基材中的輻射率不會因所述加熱處理變動的輻射率不變部位的溫度進(jìn)行測量，以及控制工序，基于所述輻射溫度計測量出的溫度，控制所述加熱處理的強度。
[0021]根據(jù)第I?第10技術(shù)方案的干燥裝置，用輻射溫度計測量基材上的輻射率不變的部位的溫度，由此能夠以不接觸的方式高精度地確定干燥處理中的涂敷液的溫度。另外，基于測量出的溫度來控制在測量溫度的部位的上游側(cè)進(jìn)行的加熱處理的強度，由此能夠更加良好地進(jìn)行干燥處理。
[0022]根據(jù)第二技術(shù)方案，非涂敷部位或者涂敷膜形成部位是輻射率不會因加熱處理變動的位置。因此，用輻射溫度計測量這些部位的溫度，能夠以不接觸的方式高精度地確定作為干燥對象的涂敷液的溫度。
[0023]根據(jù)第3技術(shù)方案，能夠在利用機殼部阻擋外部氣體的狀態(tài)下進(jìn)行加熱。因此，能夠高效率地進(jìn)行干燥處理。
[0024]根據(jù)第4技術(shù)方案，能夠適當(dāng)?shù)乜刂萍訜釢{狀的涂敷液的加熱處理的強度。
[0025]根據(jù)第5技術(shù)方案，能夠吹送溫度比目標(biāo)溫度高的熱風(fēng)，由此涂敷液的溫度快速地接近目標(biāo)溫度。
[0026]根據(jù)第6技術(shù)方案，基于一個以上的輻射溫度計的測量結(jié)果，控制部能夠控制位于一個以上的輻射溫度計的上游側(cè)的一個以上的加熱部，由此在一個位置或者多個位置進(jìn)行恰當(dāng)?shù)募訜崽幚怼?br>[0027]根據(jù)第7技術(shù)方案，能夠在因支撐輥使輻射率不變部位的溫度變化之前，用輻射溫度計測量溫度。因此，能夠更加恰當(dāng)?shù)乜刂萍訜岵俊?br>[0028]根據(jù)第8技術(shù)方案，將基材彎曲成凸?fàn)顏戆徇\，由此不改變直線距離，能夠延長搬運距離。通過這種方式，能夠確保更長的干燥時間。
[0029]根據(jù)第9技術(shù)方案，向外部通知涂敷液處于異常溫度，能夠迅速地應(yīng)對異常事態(tài)。
[0030]根據(jù)第10技術(shù)方案的涂敷膜形成系統(tǒng)，用輻射溫度計測量基材上的輻射率不變的部位的溫度，由此能夠以不接觸的方式高精度地確定干燥處理中的涂敷液的溫度。另外，基于測量出的溫度來控制在測量溫度的部位的上游側(cè)進(jìn)行的加熱處理的強度，由此能夠更加良好地進(jìn)行干燥處理。
[0031 ]根據(jù)第11技術(shù)方案的干燥方法，用輻射溫度計測量基材上的輻射率不變的部位的溫度，由此能夠以不接觸的方式高精度地確定干燥處理中的涂敷液的溫度。另外，基于測量出的溫度來控制在測量溫度的部位的上游側(cè)進(jìn)行的加熱處理的強度，由此能夠更加良好地進(jìn)行干燥處理。
[0032]根據(jù)第12技術(shù)方案的涂敷膜形成方法，用輻射溫度計測量基材上的輻射率不變的部位的溫度，由此能夠以不接觸的方式高精度地確定干燥處理中的涂敷液的溫度。另外，基于測量出的溫度來控制在測量溫度的部位的上游側(cè)進(jìn)行的加熱處理的強度，由此能夠更加良好地進(jìn)行干燥處理。
【附圖說明】
[0033]圖1是示出具有實施方式的干燥裝置的涂敷膜形成系統(tǒng)的概略結(jié)構(gòu)圖。
[0034]圖2是實施方式的干燥裝置的概略側(cè)視圖。
[0035]圖3是示出實施方式的控制部與涂敷膜形成系統(tǒng)的其他結(jié)構(gòu)的連接關(guān)系的框圖。
[0036]圖4是示出搬運至實施方式的干燥裝置的基材的另一側(cè)主面的概略俯視圖。
[0037]圖5是示出搬運至實施方式的干燥裝置的基材的一側(cè)主面的概略俯視圖。
[0038]其中，附圖標(biāo)記說明如下:
[0039]I涂敷膜形成系統(tǒng)
[0040]1A、1B 涂敷部[0041 ]3A、3B干燥裝置
[0042]31干燥處理部
[0043]32機殼部
[0044]321 進(jìn)入口
[0045]323 退出口
[0046]325連接部
[0047]33支撐輥
[0048]35涂敷面?zhèn)燃訜岵?br>[0049]37背面?zhèn)燃訜岵?br>[0050]39輻射溫度計[0051 ]41涂敷液
[0052]43涂敷膜
[0053]5 基材
[0054]51 一側(cè)主面
[0055]53另一側(cè)主面
[0056]511、513、531輻射率不變部位
[0057]60搬運機構(gòu)
[0058]61輸送輥(第一輥)
[0059]62卷收輥(第二輥)
[0060]7控制部
[0061]71 CPU
[0062]711加熱控制部
[0063]78通知部
【具體實施方式】
[0064]以下，一邊參照附圖，一邊針對本發(fā)明的實施方式進(jìn)行說明。此外，本實施方式中記載的結(jié)構(gòu)要素只不過是例示性的，并不是要將本發(fā)明的保護(hù)范圍僅限定于此。另外，在附圖中，為了容易理解，有時根據(jù)需要而對各部分的尺寸或者數(shù)量以夸張或者簡化的方式進(jìn)行圖示。
[0065]<1.實施方式>
[0066]圖1是示出具有實施方式的干燥裝置3A、3B的涂敷膜形成系統(tǒng)I的概略結(jié)構(gòu)圖。
[0067]該涂敷膜形成系統(tǒng)I一邊以輥至輥(rollto roll)方式連續(xù)搬運作為例如長狀的金屬箔的基材5，一邊在該基材5的兩個面上涂敷含有作為電極材料的活性物質(zhì)的漿狀涂敷液。然后，進(jìn)行該涂敷液的干燥處理，由此制造鋰離子二次電池的電極。
[0068]涂敷膜形成系統(tǒng)I具有涂敷部10A、10B、干燥裝置3A、3B、搬運機構(gòu)60以及控制部7。控制部7控制系統(tǒng)整體。
[0069]搬運機構(gòu)60具有輸送輥61(第一輥)、卷收輥62(第二輥)以及多個輔助輥63。長的基材5—邊從輸送輥61送出并被多個輔助輥63引導(dǎo)，一邊被卷收輥62卷收。多個輔助輥63配置于被連續(xù)搬運的基材5的搬運路徑上的適當(dāng)位置。長的基材5以輥至輥(roll to roll)方式被依次連續(xù)搬運至涂敷部10A、干燥裝置3A、涂敷部1B和干燥裝置3B。在以下的說明中，將利用搬運機構(gòu)60搬運基材5的方向(用箭頭DRl示出的方向)稱為“搬運方向”。此外，搬運方向并不僅限定于固定的一個方向。在圖1所示的例子中，利用多個輔助輥63來適當(dāng)變更基材5的搬運方向。針對輔助輥63的個數(shù)以及配置位置，不僅限定于圖1所示的情況，能夠根據(jù)需要而適當(dāng)?shù)卦鰷p。在搬運方向上連續(xù)搬運基材5的工序是在基材5上形成涂敷膜43的涂敷膜形成方法的搬運工序的一個例子。
[0070]涂敷部10A、10B對由搬運機構(gòu)60搬運的基材5的正反表面涂敷漿狀的涂敷液。涂敷部1A具有向基材5的正反兩個主面中的一側(cè)主面51噴出涂敷液的噴嘴11A，涂敷部1B具有向另一側(cè)主面53噴出涂敷液的噴嘴11B。各噴嘴11A、11B是具有沿著基材5的寬度方向(與基材5的表面平行的方向，與上述搬運方向正交的方向)延伸的狹縫狀的噴出口的狹縫噴嘴。[0071 ]利用省略圖示的輸液機構(gòu)向噴嘴11A、IIB輸送規(guī)定的涂敷液。噴嘴IIA、IIB所噴出的涂敷液是相同的，但是也可以是不同種類的。
[0072]噴嘴IlAUlB具有用于規(guī)定與狹縫狀的噴出口連接的流路的墊圈以及歧管等。另夕卜，在噴嘴11A、11B上還附設(shè)有用于調(diào)整各自的位置以及姿勢的未圖示的機構(gòu)。從輸液機構(gòu)供給至各噴嘴11A、IIB的涂敷液從狹縫狀的噴出口噴出到基材5的表面。
[0073]利用涂敷部1A、1B將涂敷液涂敷于基材5的主面的工序是涂敷膜形成方法中的涂敷工序的一個例子。
[0074]干燥裝置3A、3B對由搬運機構(gòu)60向規(guī)定的搬運方向連續(xù)地搬運的基材5進(jìn)行干燥處理。
[0075]干燥裝置3A設(shè)于涂敷部1A的下游側(cè)。干燥裝置3A使由涂敷部1A涂敷于基材5的一側(cè)主面51的漿狀的涂敷液41干燥。由此，在該一側(cè)主面51形成涂敷膜43。干燥裝置3B設(shè)于涂敷部1B的下游側(cè)。干燥裝置3B使由涂敷部1B涂敷于基材5的另一側(cè)主面53的漿狀的涂敷液41干燥。由此，在另一側(cè)主面53形成涂敷膜43。此外，由于干燥裝置3A、3B的結(jié)構(gòu)是大致相同的，所以，以下主要針對干燥裝置3A的結(jié)構(gòu)進(jìn)行說明。
[0076]圖2是實施方式的干燥裝置3A的概略側(cè)視圖。干燥裝置3A具有多個干燥處理部31。在本例中，干燥裝置3A由3個干燥處理部31構(gòu)成，但是也可以由單一的干燥處理部構(gòu)成，還可以由2個或者4個以上的干燥處理部構(gòu)成。在以下的說明中，在區(qū)分3個干燥處理部31的情況下，從搬運方向上游側(cè)依次設(shè)置為干燥處理部3 Ia、3 Ib、31 c。
[0077]如圖2所示，各干燥處理部31具有機殼部32、支撐輥33、涂敷面?zhèn)燃訜岵?5、背面?zhèn)燃訜岵?7以及輻射溫度計39。在圖2中通過剖視圖來圖示各機殼部32。
[0078]機殼部32是在內(nèi)部形成有容置基材5的空間的構(gòu)件，形成有用于使基材5進(jìn)入的進(jìn)入口 321以及用于使基材5從內(nèi)部退出的退出口 323。在各機殼部32的內(nèi)部附設(shè)有支撐輥33、涂敷面?zhèn)燃訜岵?5、背面?zhèn)燃訜岵?7以及輻射溫度計39。在各干燥處理部31中，在由機殼部32阻擋外部氣體的狀態(tài)下，利用涂敷面?zhèn)燃訜岵?5以及背面?zhèn)燃訜岵?7來加熱漿狀的涂敷液41。因此，能夠高效率地進(jìn)行干燥處理。
[0079]相鄰的兩個機殼部32、32的退出口 323以及進(jìn)入口321由連接部325連接。在本例中，3個機殼部32相互連接，由此形成有容置基材5的一個容置空間。但是，連接部325能夠省略，各機殼部32也可以是彼此分離的。
[0080]支撐輥33沿著基材5的寬度方向延伸，其外周表面與基材5接觸，由此來支撐該基材5。干燥裝置3A的各支撐輥33與未涂敷有漿狀的涂敷液的一側(cè)的主面(就干燥裝置3A而言，是另一側(cè)主面53)接觸。
[0081]在各機殼部32的內(nèi)部各自配置有一個支撐輥33。各支撐輥33配置于不同的高度。更詳細(xì)地，中央的干燥處理部31b的支撐輥33配置于比其他的兩個支撐輥33高的位置。因此，如圖2所示，在干燥裝置3A中，以將涂敷有涂敷液的主面(就干燥裝置3A而言，是一側(cè)主面51)彎曲成凸?fàn)?拱狀)的方式搬運基材5。
[0082]如以上所述，以凸?fàn)畎徇\基材5，由此能夠不改變直線距離，而延長基材5的搬運距離。因此，干燥裝置3A能夠確保更長的干燥時間。
[0083]此外，在本例中，如圖1所示，干燥處理部31a的支撐輥33配置于比緊挨該干燥處理部31a的進(jìn)入口 321的上游側(cè)的輔助輥63更高的位置。另外，干燥處理部31c的支撐輥33配置于比緊挨該干燥處理部31c的退出口 323的下游側(cè)的輔助輥63更高的位置。因此，各支撐輥33與基材5以成夾角Θ的方式接觸。此外，如圖2所示，夾角Θ是指，各支撐輥33的與基材5接觸的接觸面繞旋轉(zhuǎn)軸的角度。
[0084]<加熱部>
[0085]涂敷面?zhèn)燃訜岵?5由多個熱風(fēng)供給部構(gòu)成，該多個熱風(fēng)供給部向涂敷有涂敷液41的一側(cè)的主面(就干燥裝置3A而言，是一側(cè)主面51)供給熱風(fēng)，由此加熱涂敷液41。另外，背面?zhèn)燃訜岵?7由多個熱風(fēng)供給部構(gòu)成，該多個熱風(fēng)供給部向涂敷有涂敷液41的一側(cè)的主面的相反側(cè)的主面(就干燥裝置3A而言，是另一側(cè)主面53)供給熱風(fēng)來加熱基材5，由此間接地加熱涂敷液41。
[0086]此外，涂敷面?zhèn)燃訜岵?5以及背面?zhèn)燃訜岵?7也可以進(jìn)行紅外加熱、感應(yīng)加熱或者蒸汽加熱，來代替供給熱風(fēng)。
[0087]在以下的說明中，在不區(qū)分涂敷面?zhèn)燃訜岵?5以及背面?zhèn)燃訜岵?7的情況下，僅稱為“加熱部”。利用加熱部對涂敷液41進(jìn)行加熱處理的工序是涂敷膜形成方法中的加熱工序的一個例子。
[0088]此處，假設(shè)涂敷液41是鋰離子電池負(fù)極用材料，并使用PVDF(聚偏氟乙烯)作為該涂敷液41的粘合劑樹脂的情況。在這種情況下，基材5上的涂敷液41的溫度超過作為PVDF的再熔化溫度的135度，是造成偏析等的原因，這是不期望發(fā)生的。因此，為了使?jié){狀的涂敷液41處于不超過臨界溫度的規(guī)定的溫度，優(yōu)選控制各加熱部來加熱涂敷液41。以下，將不超過該臨界溫度的規(guī)定的溫度稱為目標(biāo)溫度。
[0089]干燥處理部31a是使基材5上的漿狀的涂敷液41升溫的區(qū)域。因此，干燥處理部31a的加熱部也可以供給溫度超過上述目標(biāo)溫度的熱風(fēng)。例如，在將含有PVDF的涂敷液41涂敷于基材5的情況下，涂敷面?zhèn)燃訜岵?5可以向基材5上的涂敷液41供給135度以上(例如200度)的熱風(fēng)。由此，能夠使基材5上的涂敷液41快速地接近目標(biāo)溫度。針對背面?zhèn)燃訜岵?7，同樣地也可以供給溫度超過臨界溫度的熱風(fēng)。
[0090]另外，各干燥處理部31b、31c的加熱部向基材5的涂敷液41供給溫度比干燥處理部31a中加熱部所供給的熱風(fēng)的溫度更低的熱風(fēng)。例如，各干燥處理部31b、31c的涂敷面?zhèn)燃訜岵?5可以供給溫度與上述目標(biāo)溫度相同的熱風(fēng)。此外，在干燥處理部31a中，在無法使涂敷液41的溫度充分地升高到目標(biāo)溫度的情況下，例如，在干燥處理部31b中也可以供給超過上述目標(biāo)溫度的熱風(fēng)。針對各干燥處理部31b、31c的背面?zhèn)燃訜岵?7也是同樣的。
[0091]輻射溫度計39由檢測紅外線的紅外輻射溫度計構(gòu)成。輻射溫度計39在搬運方向上的加熱部的下游側(cè)的位置，以不接觸的方式測量基材5的特定部位的溫度。更詳細(xì)地，輻射溫度計39測量通過加熱部的加熱處理而輻射率未發(fā)生變動的部位(輻射率不變部位)的溫度。針對該輻射率不變部位的詳細(xì)情況，在后文描述。用輻射溫度計39測量輻射率不變部位的溫度的工序是涂敷膜形成方法中的溫度測量工序的一個例子。
[0092]輻射溫度計39在加熱部的位置(更詳細(xì)地，基材5上的被從涂敷面?zhèn)燃訜岵?5以及背面?zhèn)燃訜岵?7供給熱風(fēng)的區(qū)域)與支撐輥33支撐基材5的位置之間的位置，測量基材5的輻射率不變部位的溫度。因此，輻射溫度計39能夠在涂敷液41的溫度因支撐輥33而變化之前測量溫度。因此，能夠以更高的精度確定由加熱部加熱的涂敷液41的溫度。
[0093]圖3是示出實施方式的控制部7與涂敷膜形成系統(tǒng)I的其他的結(jié)構(gòu)的連接關(guān)系的框圖。控制部7構(gòu)成為例如CPU71、R0M72、RAM73以及存儲裝置74經(jīng)由總線75相互連接的一般計算機。R0M72保存有基本程序等。RAM73提供CPU71進(jìn)行規(guī)定的處理而使用的工作區(qū)域。
[0094]存儲裝置74由閃存器或者硬盤等非易失性存儲器構(gòu)成。在存儲裝置74中安裝有程序PGl ο CPU71按照該程序PGl中描述的順序動作，由此該CPU71發(fā)揮例如加熱控制部711的功會K。
[0095]程序PGl通常預(yù)先保存于存儲裝置74等的存儲器中來使用，但是也可以以記錄于⑶-ROM或者DVD-R0M、外部閃存器等記錄介質(zhì)中的形式(程序產(chǎn)品)來提供(或者，通過網(wǎng)絡(luò)從外部服務(wù)器下載等來提供)，并以能夠追加或者更好的方式保存于存儲裝置74等存儲器中。此外，在控制部7中實現(xiàn)的功能模塊也可以是由專用邏輯電路等以硬件的方式實現(xiàn)的。
[0096]另外，操作輸入部76、顯示部77經(jīng)由總線75與控制部7連接。操作輸入部76例如是由鍵盤以及鼠標(biāo)構(gòu)成的輸入設(shè)備，接受來自操作者的各種的操作(輸入命令或者各種數(shù)據(jù)等操作)。此外，操作輸入部76可以由各種開關(guān)、觸摸面板等構(gòu)成。顯示部77是由顯示器或者燈等構(gòu)成的顯示裝置，在CPU71的控制下顯示各種信息。
[0097]另外，設(shè)于干燥裝置3A、3B中的各涂敷面?zhèn)燃訜岵?5、各背面?zhèn)燃訜岵?7以及各輻射溫度計39經(jīng)由總線75與控制部7連接。
[0098]各輻射溫度計39向控制部7發(fā)送表示測量出的溫度的溫度信息。于是，控制部7的加熱控制部711基于該溫度信息，控制位于對應(yīng)的輻射溫度計39的上游側(cè)的加熱部(涂敷面?zhèn)燃訜岵?5以及背面?zhèn)燃訜岵?7)進(jìn)行的加熱處理的強度。例如，加熱控制部711基于由干燥處理部31a的輻射溫度計39測量出的溫度，控制干燥處理部31a的加熱部進(jìn)行的加熱處理的強度。同樣地，加熱控制部711基于由干燥處理部3 Ib、31 c的輻射溫度計39測量出的溫度，分別控制干燥處理部31b、31 c的加熱部所進(jìn)行的加熱處理的強度。此外，加熱控制部711也可以基于由干燥處理部31b的輻射溫度計39測量出的溫度，既控制干燥處理部31b的加熱部，還控制上游側(cè)的干燥處理部31a的加熱部。
[0099]如此，在各干燥裝置3A、3B中設(shè)有3組加熱部以及輻射溫度計39。設(shè)置多組加熱部以及輻射溫度計39，基于各輻射溫度計39的測量結(jié)果來控制各加熱部，由此能夠利用各干燥處理部31進(jìn)行適當(dāng)?shù)募訜崽幚怼?br>[0100]此外，控制加熱處理的強度是指，基于輻射溫度計39的測量結(jié)果來增減加熱部賦予加熱對象的熱量。例如，就涂敷面?zhèn)燃訜岵?5而言，包括使供給至涂敷液41的熱風(fēng)的溫度升降或者使供給的熱風(fēng)的風(fēng)量增減。
[0101]假定，在由特定的輻射溫度計39測量出的溫度低于規(guī)定的目標(biāo)溫度的情況下，加熱控制部711使搬運方向上的該特定的輻射溫度計39的上游側(cè)的加熱部進(jìn)行的加熱處理的強度增強。另外，在由特定的輻射溫度計39測量出的溫度高于規(guī)定的目標(biāo)溫度的情況下，加熱控制部711使搬運方向上的該特定的輻射溫度計39的上游側(cè)的加熱部進(jìn)行的加熱處理的強度減弱。通過這樣的控制，能夠適當(dāng)?shù)乜刂圃诟鞑糠值募訜崽幚淼膹姸取４送?，作為該控制基?zhǔn)的目標(biāo)溫度，可以是每個輻射溫度計39彼此不同，或者，也可以是彼此一致的。
[0102]另外，加熱控制部711也可以僅控制加熱部中的涂敷面?zhèn)燃訜岵?5，或者僅控制背面?zhèn)燃訜岵?7。進(jìn)一步地，加熱控制部711還可以是僅對構(gòu)成涂敷面?zhèn)燃訜岵?5或者背面?zhèn)燃訜岵?7的多個熱風(fēng)供給部中的一部分進(jìn)行控制。
[0103]如以上所述，控制部7的加熱控制部711基于由輻射溫度計39測量出的溫度來控制加熱部進(jìn)行的加熱處理的強度的工序是涂敷膜形成方法中的控制工序的一個例子。
[0104]通知部78經(jīng)由總線75與控制部7連接。通知部78由揚聲器、燈或者顯示器等構(gòu)成，在由各輻射溫度計39測量出的基材5的溫度超過規(guī)定的基準(zhǔn)溫度的情況下，向外部通知該警告。該規(guī)定的基準(zhǔn)溫度是指，例如超過目標(biāo)溫度的溫度或者超過臨界溫度的溫度。這樣，設(shè)置通知部78，由此當(dāng)涂敷液41達(dá)到異常溫度時，通過將該異常時態(tài)通知操作者，能夠迅速應(yīng)對該異常事態(tài)。此外，也可以使顯示部77發(fā)揮通知部的功能。
[0105]<關(guān)于溫度測量部位>
[0106]以下，針對各輻射溫度計39測量溫度的基材5上的溫度測量部位進(jìn)行說明。
[0107]首先，針對在干燥裝置3A中的溫度測量部位進(jìn)行說明。在本例中，如圖1以及圖2所示，干燥裝置3A中附設(shè)的各輻射溫度計39測量基材5的另一側(cè)主面53的表面溫度。
[0108]圖4是示出在實施方式的干燥裝置3A中搬運的基材5的另一側(cè)主面53的概略俯視圖。在經(jīng)過干燥裝置3A的基材5的另一側(cè)主面53的相反側(cè)的一側(cè)主面51上，涂敷有漿狀的涂敷液41。在圖示的例子中，在一側(cè)主面51中的除了寬度方向上的兩端部以外的內(nèi)側(cè)區(qū)域，涂敷有涂敷液41。另一方面，基材5的另一側(cè)主面53與其相反側(cè)的一側(cè)主面51不同，是未涂敷有涂敷液41的非涂敷部位。
[0109]通過涂敷面?zhèn)燃訜岵?5或者背面?zhèn)燃訜岵?7的加熱處理，漿狀的涂敷液41的溶劑蒸發(fā)。因此，涂敷液41的表面輻射率可能會產(chǎn)生很大的變動。與此相對，由于另一側(cè)主面53是非涂敷部位，所以難以因加熱處理導(dǎo)致輻射率變動。因加熱處理導(dǎo)致的非涂敷部位的輻射率的變動至少小于因加熱處理導(dǎo)致的涂敷液41的表面輻射率的變動。另外，由于基材5是金屬箔等比較薄的構(gòu)件，所以在干燥處理后能夠?qū)⒘硪粋?cè)主面53的表面溫度視為涂敷液41的溫度。
[0110]根據(jù)以上的觀點，將該另一側(cè)主面53的特定部位作為輻射率不變部位531，用輻射溫度計39測量該輻射率不變部位531的溫度。通過這種方式，能夠以不接觸的方式高精度地確定基材5的一側(cè)主面51上的涂敷液41的溫度。此外，輻射率不變部位531的輻射率(S卩，基材5本身的輻射率)能夠通過例如用熱電偶實際測量該部位的溫度，或者根據(jù)基材5的材質(zhì)等推斷來確定。
[0111]接著，針對在干燥裝置3B中的溫度測量部位進(jìn)行說明。如圖1所示，干燥裝置3B中附設(shè)的各輻射溫度計39測量基材5的一側(cè)主面51的表面溫度。
[0112]圖5是示出在實施方式的干燥裝置3B中搬運的基材5的一側(cè)主面51的概略俯視圖。干燥裝置3B使涂敷于基材5的另一側(cè)主面53的涂敷液41干燥，但是在經(jīng)過干燥裝置3B的基材5的一側(cè)主面51上形成有已經(jīng)由干燥裝置3A進(jìn)行了干燥處理后的涂敷液41的薄膜(涂敷膜 43)。
[0113]在這樣的基材5的一側(cè)主面51上未形成涂敷膜43的兩端部是未涂敷有涂敷液41的非涂敷部位，是輻射率幾乎不發(fā)生變動的部位。因此，將基材5的兩端部中的一個部位作為輻射率不變部位511，利用各輻射溫度計39測量該輻射率不變部位511的溫度。通過這種方式，能夠以不接觸的方式高精度地確定涂敷于另一側(cè)主面53的涂敷液41的溫度。
[0114]另外，形成有涂敷膜43的涂敷膜形成部位是涂敷液41的溶劑已經(jīng)蒸發(fā)了的狀態(tài)的固狀部分。因此，該涂敷膜形成部位變成輻射率難以發(fā)生變動的部位。因此，也可以將該形成有涂敷膜43的部位作為輻射率不變部位513，利用各輻射溫度計39測量該輻射率不變部位513的溫度。此外，涂敷膜43的輻射率不變部位513的輻射率能夠通過例如用熱電偶實際測量該部位，或者根據(jù)涂敷液41的成分等推斷來確定。測量輻射率不變部位513的溫度，由此能夠以不接觸的方式高精度地確定涂敷于另一側(cè)主面53的涂敷液41的溫度。
[0115]<2.變形例 >
[0116]以上，針對實施方式進(jìn)行了說明，但是本發(fā)明并不限定于如上述的實施方式，而是能夠進(jìn)行各種各樣的變形。
[0117]例如，在上述實施方式中，在各干燥處理部31中設(shè)有涂敷面?zhèn)燃訜岵?5以及背面?zhèn)燃訜岵?7作為加熱部。但是也可以僅設(shè)置其中的一者。
[0118]另外，在上述實施方式的各干燥裝置3A、3B中，改變配置各支撐輥33的高度，由此以將基材5彎曲成凸?fàn)畹姆绞桨徇\該基材5。但是，也可以將各支撐輥33配置于相同的高度，由此以筆直的狀態(tài)搬運基材5。
[0119]另外，加熱控制部711也可以基于由各輻射溫度計39測量出的溫度，既控制搬運方向上的上游側(cè)的加熱部，又控制搬運方向上的下游側(cè)的加熱部。
[0120]另外，在上述實施方式的涂敷膜形成系統(tǒng)I中在基材5的兩主面上形成有涂敷膜43。但是，本發(fā)明對僅在單側(cè)主面形成涂敷膜43的涂敷膜形成系統(tǒng)也是有效的。
[0121]另外，本發(fā)明的應(yīng)用范圍不僅限定于面向鋰離子電池的電極制造，也能夠應(yīng)用于面向其他電池的電極制造。
[0122]另外，在上述各實施方式以及各變形例中說明了的各結(jié)構(gòu)只要不相互矛盾，就能夠適當(dāng)組合或者省略。
[0123]雖然詳細(xì)地說明了本發(fā)明，但是上述的說明在全部的方面都是例示性的，本發(fā)明并不限定于此。未舉例示出的無數(shù)的變形例應(yīng)理解為不脫離本發(fā)明的范圍就可以想到的。
【主權(quán)項】
1.一種干燥裝置，使涂敷于被搬運機構(gòu)連續(xù)搬運的基材的兩個主面中的至少一側(cè)主面上的漿狀的涂敷液干燥，該搬運機構(gòu)一邊從第一輥送出所述基材，一邊用第二輥卷收所述基材， 該干燥裝置具有: 加熱部，對涂敷于所述基材上的涂敷液進(jìn)行加熱處理， 輻射溫度計，在搬運方向上的所述加熱部的下游側(cè)的位置，對所述基材上的輻射率不會因所述加熱處理變動的輻射率不變部位的溫度進(jìn)行測量，以及 控制部，基于所述輻射溫度計測量出的溫度，控制所述加熱處理的強度。2.如權(quán)利要求1所述的干燥裝置，其中，所述輻射溫度計在所述基材上的未涂敷有所述涂敷液的非涂敷部位或者形成有已干燥的所述涂敷液的涂敷膜的涂敷膜形成部位測量溫度。3.如權(quán)利要求1或者2所述的干燥裝置，其中， 該干燥裝置還具有機殼部，該機殼部形成有用于使所述基材進(jìn)入內(nèi)部的進(jìn)入口以及用于使所述基材從內(nèi)部退出的退出口， 所述加熱部以及所述輻射溫度計容置于所述機殼部內(nèi)。4.如權(quán)利要求1或者2所述的干燥裝置，其中，在所述輻射溫度計測量出的所述輻射率不變部位的溫度比目標(biāo)溫度低的情況下，所述控制部使所述加熱部進(jìn)行的所述加熱處理的強度增強，在所述輻射率不變部位的溫度比所述目標(biāo)溫度高的情況下，所述控制部使所述加熱部進(jìn)行的所述加熱處理的強度減弱。5.如權(quán)利要求4所述的干燥裝置，其中，所述加熱部具有熱風(fēng)供給部，該熱風(fēng)供給部向所述基材吹送溫度比所述目標(biāo)溫度高的熱風(fēng)，來加熱所述涂敷液。6.如權(quán)利要求1或者2所述的干燥裝置，其中，所述加熱部以及所述輻射溫度計沿著所述基材的搬運路徑至少排列有一組以上。7.如權(quán)利要求1或者2所述的干燥裝置，其中， 該干燥裝置還具有支撐輥，該支撐輥配置于所述加熱部的下游側(cè)，支撐所述基材的另一側(cè)主面， 所述輻射溫度計在所述加熱部與所述支撐輥之間的位置，測量所述輻射率不變部位的溫度。8.如權(quán)利要求1或者2所述的干燥裝置，其中， 該干燥裝置還具有多個排列于不同的高度的支撐輥， 所述多個支撐輥以使所述基材呈向所述一側(cè)主面?zhèn)韧钩龅耐範(fàn)畹姆绞街卧撍龌摹?.如權(quán)利要求1或者2所述的干燥裝置，其中， 該干燥裝置還具有通知部，在由所述輻射溫度計測量出的所述輻射率不變部位的溫度超過規(guī)定的基準(zhǔn)溫度的情況下，該通知部向外部發(fā)出通知。10.一種涂敷膜形成系統(tǒng)，在基材上形成涂敷膜， 該涂敷膜形成系統(tǒng)具有: 搬運機構(gòu)，用第二輥卷收從第一輥送出的基材，來連續(xù)搬運所述基材， 涂敷部，向被所述搬運機構(gòu)搬運的基材的兩個主面中的至少一側(cè)主面涂敷漿狀的涂敷液，以及 權(quán)利要求1或者2所述的干燥裝置。11.一種干燥方法，該干燥方法使涂敷于通過一邊從第一輥送出基材一邊用第二輥卷收而被連續(xù)搬運的所述基材的兩個主面中的至少一側(cè)主面上的漿狀的涂敷液干燥， 包括: 加熱工序，對涂敷于所述基材上的涂敷液進(jìn)行加熱處理， 溫度測量工序，用輻射溫度計對在所述加熱工序中已被加熱的所述基材中的輻射率不會因所述加熱處理變動的輻射率不變部位的溫度進(jìn)行測量，以及 控制工序，基于所述輻射溫度計測量出的溫度，控制所述加熱處理的強度。12.一種涂敷膜形成方法，在基材上形成涂敷膜， 包括: 搬運工序，用第二輥卷收從第一輥送出的基材，來連續(xù)搬運基材， 涂敷工序，在所述搬運工序中連續(xù)搬運的基材的兩個主面中的至少一側(cè)主面上涂敷漿狀的涂敷液， 加熱工序，對涂敷于所述基材上的涂敷液進(jìn)行加熱處理， 溫度測量工序，用輻射溫度計對在所述加熱工序中已被加熱的所述基材中的輻射率不會因所述加熱處理變動的輻射率不變部位的溫度進(jìn)行測量，以及 控制工序，基于所述輻射溫度計測量出的溫度，控制所述加熱處理的強度。
【文檔編號】B05D3/04GK106000822SQ201610183321
【公開日】2016年10月12日
【申請日】2016年3月28日
【發(fā)明人】山越潤, 山越潤一, 陸井秀晃
【申請人】株式會社思可林集團