一種真空吸附平臺的制作方法
【專利摘要】本實用新型提供一種真空吸附平臺，包括真空吸盤和底座，真空吸盤與底座能夠形成真空腔，所述真空吸盤包括第一吸盤、第二吸盤和隔膜，第二吸盤鄰近所述真空腔；第一吸盤上設置多個第一吸盤孔，第二吸盤上設置多個第二吸盤孔，所述第一吸盤孔、第二吸盤孔和真空腔相連通；隔膜設置于第一吸盤和第二吸盤之間，并隔離所述第一吸盤孔與第二吸盤孔，可以避免真空吸盤上放置基板之外的區(qū)域破真空，在吸附異形基板時，不但不會出現(xiàn)盲區(qū)，吸附效果得到保證，而且無需額外覆蓋吸附區(qū)域之外的區(qū)域，使用方便，能夠大幅提高基板運載作業(yè)效率。
【專利說明】
一種真空吸附平臺
技術領域
[0001]本實用新型屬于液晶顯示設備制造技術領域，具體涉及一種真空吸附平臺。
【背景技術】
[0002]液晶顯示設備制造行業(yè)經(jīng)常涉及基板運載作業(yè)，基板的運載通常依靠真空吸附平臺實現(xiàn)吸附固定，現(xiàn)有的真空吸附平臺多采用吸盤吸孔一體式設計或并排式設計。
[0003]然而，現(xiàn)有的一體式真空吸附平臺在吸附不同尺寸的基板時，需要用真空貼紙貼覆基板吸附區(qū)域之外的區(qū)域，以防止破真空造成基板無法正常吸附，使用不便，費時費力。
[0004]現(xiàn)有的并排式真空吸附平臺通過關閉整排或整列吸盤吸孔的方式實現(xiàn)真空關閉，以解決上述問題，但是，并排式真空吸附平臺在吸附異形的基板時存在盲區(qū)，吸附效果不佳。另外，有些并排式真空吸附平臺需要更換通孔卡位治具Jig，在一定程度上也會對使用造成不便，影響基板運載的效率。
[0005]因此，亟需一種真空吸附平臺以解決上述技術問題。
【實用新型內容】
[0006]本實用新型針對現(xiàn)有技術中存在的上述不足，提供一種真空吸附平臺，用以解決現(xiàn)有的真空吸附平臺使用不便、異形基板吸附效果不佳的問題。
[0007]本實用新型提供一種真空吸附平臺，包括真空吸盤和底座，真空吸盤與底座能夠形成真空腔，所述真空吸盤包括第一吸盤、第二吸盤和隔膜，第二吸盤鄰近所述真空腔；
[0008]第一吸盤上設置多個第一吸盤孔，第二吸盤上設置多個第二吸盤孔，所述第一吸盤孔、第二吸盤孔和真空腔相連通；
[0009]隔膜設置于第一吸盤和第二吸盤之間，并隔離所述第一吸盤孔與第二吸盤孔。
[0010]優(yōu)選的，所述第一吸盤孔的直徑小于第二吸盤孔的直徑。
[0011 ]優(yōu)選的，所述第二吸盤孔與第一吸盤相接觸的一端設置有倒角或倒圓。
[0012]優(yōu)選的，所述第一吸盤孔和第二吸盤孔均勻分布。
[0013]優(yōu)選的，所述隔膜采用彈性材料制造。
[0014]優(yōu)選的，所述真空吸附平臺還包括抽氣裝置，所述抽氣裝置用于對真空吸盤和底座形成的空腔抽真空，以形成真空腔；
[0015]所述抽氣裝置包括真空栗、氣閥和抽氣管線，氣閥設置于抽氣管線上，抽氣管線設置于所述底座的一側，抽氣管線的一端與真空吸盤和底座形成的空腔相連通，另一端與真空栗相連。
[0016]實用新型本實用新型具有如下有益效果:
[0017]本實用新型所提供的真空吸附平臺采用雙吸盤設計，雙吸盤之間采用隔膜隔離，可以避免真空吸盤上放置基板之外的區(qū)域破真空，在吸附異形基板時，不但不會出現(xiàn)盲區(qū)，吸附效果得到保證，而且無需額外覆蓋吸附區(qū)域之外的區(qū)域，使用方便，能夠大幅提高基板運載作業(yè)效率。
【附圖說明】
[0018]圖1為本實用新型提供的真空吸附平臺的爆炸圖；
[0019]圖2a為本實用新型提供的真空吸盤的截面示意圖之一；
[0020]圖2b為本實用新型提供的真空吸盤的截面示意圖之二；
[0021]圖3為本實用新型提供的真空吸附平臺的工作原理圖。
[0022]附圖標記:
[0023]1、真空吸盤 2、底座3、真空腔；4、基板
[0024]11、第一吸盤 12、第二吸盤13、隔膜 111、第一吸盤孔
[0025]121、第二吸盤孔41、氣閥 42、抽氣管線
【具體實施方式】
[0026]為使本領域技術人員更好地理解本實用新型的技術方案，下面結合附圖和【具體實施方式】對本實用新型作進一步詳細描述。
[0027]參見圖1，本實用新型提供一種真空吸附平臺，該真空吸附平臺包括真空吸盤I和底座2，真空吸盤I與底座2能夠形成真空腔3，其中，真空吸盤I包括第一吸盤11、第二吸盤12和隔膜13，隔膜13設置于第一吸盤11和第二吸盤12之間，第二吸盤12鄰近所述真空腔3。也就是說，第一吸盤11的一面以及第二吸盤的一面與隔膜13的兩面分別貼合，第一吸盤11的另一面朝向真空吸附平臺的外側，第二吸盤12的另一面朝向真空吸附平臺的內側，如圖1所示，在本實用新型實施例中，第一吸盤11位于隔膜13的上方，第二吸盤12位于隔膜13的下方。
[0028]第一吸盤11上設置多個第一吸盤孔111，第二吸盤12上設置多個第二吸盤孔121，第一吸盤孔111、第二吸盤孔121和真空腔3相連通，隔膜13隔離第一吸盤孔111與第二吸盤孔 121。
[0029]本實用新型所提供的真空吸附平臺采用雙吸盤設計，在雙吸盤之間用隔膜隔離，可以避免真空吸盤上放置基板之外的區(qū)域破真空，在吸附異形基板時，不但不會出現(xiàn)盲區(qū)，吸附效果得到保證，而且無需額外覆蓋吸附區(qū)域之外的區(qū)域，使用方便，能夠大幅提高基板運載作業(yè)效率。
[0030]為了實現(xiàn)均勻吸附，保證吸附效果，優(yōu)選的，第一吸盤孔111在第一吸盤11上均勻分布，第二吸盤孔121在第二吸盤12上均勻分布。
[0031]底座2包括底面和四個側面，四個側面圍在底面的四周，形成開口向上的凹槽結構。真空吸盤I卡合于底座2的開口處，從而在第二吸盤12的下表面與底座2之間形成空腔。
[0032]所述真空吸附平臺還包括抽氣裝置，所述抽氣裝置用于對真空吸盤與底座形成的空腔抽真空，從而形成真空腔3。所述抽氣裝置包括真空栗(圖中未繪示)、氣閥41和抽氣管線42，氣閥41設置于抽氣管線42上，抽氣管線42設置于底座2的一側，抽氣管線42的一端與真空吸盤I和底座2形成的空腔相連通，另一端與真空栗相連。
[0033]當真空栗和氣閥41開啟，抽氣裝置開始對真空吸盤I和底座2形成的空腔抽真空，從而借助真空吸附平臺內真空與外界的大氣壓之間的壓差，將放置在真空吸盤1(也就是第一吸盤11)上的基板等物品牢固吸附。
[0034]如圖2a所示，當真空吸附平臺工作時，在真空作用下，隔膜13向第二吸盤孔12的方向發(fā)生形變。第一吸盤孔111的直徑可以與第二吸盤孔121的直徑相同，當隔膜13向第二吸盤孔12方向發(fā)生形變時，第二吸盤孔12在一定程度上會阻擋隔膜13。因此，為了為隔膜13形變提供便利，可以將第二吸盤孔12設計為較大尺寸。
[0035]如圖2b所示，第一吸盤孔111的直徑小于第二吸盤孔121的直徑。這樣，將第一吸盤孔111設計為較小尺寸，將第二吸盤孔121設計為較大尺寸，一方面，保證了隔膜13的形變面積，減少形變時產(chǎn)生的物理阻礙。另一方面，在隔膜13發(fā)生相同形變的狀態(tài)下，保證第一吸盤孔111空間內的大氣壓更低，進一步提高第一吸盤孔111與外界大氣壓的壓差，使得第一吸盤11吸附更為牢固，提高吸附效果。
[0036]優(yōu)選的，參見圖2a和2b，第二吸盤孔121與第一吸盤孔111相接觸的一端設置有倒角或倒圓，在本實用新型實施例中，在第二吸盤孔的上端(第二吸盤12的上表面處)設置倒角或倒圓。這樣，一方面，倒角或倒圓可以為隔膜13向第二吸盤12方向發(fā)生形變起導向作用，另一方面，避免第二吸盤孔121開口處的棱角刺破隔膜13，從而對隔膜13起到保護作用，延長隔膜13的使用壽命。
[0037]隔膜13采用彈性材料制造，用以保證在真空作用下，隔膜13能夠向第二吸盤孔12的方向發(fā)生形變。為了使隔膜13能夠產(chǎn)生足夠的形變面積，保證吸附效果，優(yōu)選的，隔膜13可以選用天然乳膠材料制造，具有高彈性，不透氣，環(huán)保等特點。
[0038]為了清楚說明本實用新型的技術方案，以下結合圖3，對本實用新型的真空吸附平臺的工作原理進行詳細說明。
[0039]如圖3所示，當真空吸附平臺吸附基板4時，在基板4吸附區(qū)域范圍內，大氣、第一吸盤孔111、第二吸盤孔121、真空腔3形成聯(lián)動系統(tǒng)，第二吸盤孔121內形成較低真空度的真空空間，第一吸盤孔111內形成更低真空度的真空空間，大氣為高真空，這樣基板4就會被大氣壓壓在第一吸盤11的上表面上。第一吸盤吸孔與第二吸盤孔采用非對稱設計，“上小下大”的結構可以保證基板吸附區(qū)域的第一吸盤吸孔內可以形成更低的真空度，從而保證更強的吸附力。
[0040]需要說明的是，所述真空吸附平臺可以適用于任何形狀和尺寸的基板等物品的吸附，雙層吸盤之間由具有彈性的隔膜隔離，保證第一吸盤上未吸附區(qū)域在抽真空時不會破真空。基板吸附區(qū)域的第一吸盤吸孔內會形成低真空區(qū)域，在大氣壓的作用下，真空吸附平臺可以將基板或其他物品牢固吸附住。所述真空吸附平臺可以根據(jù)實際需要修改設計，靈活性強，具有廣泛的推廣價值，其實現(xiàn)原理簡單，經(jīng)濟實用，有著廣泛的應用前景。
[0041]可以理解的是，以上實施方式僅僅是為了說明本實用新型的原理而采用的示例性實施方式，然而本實用新型并不局限于此。對于本領域內的普通技術人員而言，在不脫離本實用新型的精神和實質的情況下，可以做出各種變型和改進，這些變型和改進也視為本實用新型的保護范圍。
【主權項】
1.一種真空吸附平臺，包括真空吸盤和底座，真空吸盤與底座能夠形成真空腔，其特征在于，所述真空吸盤包括第一吸盤、第二吸盤和隔膜，第二吸盤鄰近所述真空腔； 第一吸盤上設置多個第一吸盤孔，第二吸盤上設置多個第二吸盤孔，所述第一吸盤孔、第二吸盤孔和真空腔相連通； 隔膜設置于第一吸盤和第二吸盤之間，并隔離所述第一吸盤孔與第二吸盤孔。2.如權利要求1所述的真空吸附平臺，其特征在于，所述第一吸盤孔的直徑小于第二吸盤孔的直徑。3.如權利要求1所述的真空吸附平臺，其特征在于，所述第二吸盤孔與第一吸盤相接觸的一端設置有倒角或倒圓。4.如權利要求1所述的真空吸附平臺，其特征在于，所述第一吸盤孔和第二吸盤孔均勻分布O5.如權利要求1所述的真空吸附平臺，其特征在于，所述隔膜采用彈性材料制造。6.如權利要求1-5任一項所述的真空吸附平臺，其特征在于，所述真空吸附平臺還包括抽氣裝置，所述抽氣裝置用于對真空吸盤和底座形成的空腔抽真空，以形成真空腔； 所述抽氣裝置包括真空栗、氣閥和抽氣管線，氣閥設置于抽氣管線上，抽氣管線設置于所述底座的一側，抽氣管線的一端與真空吸盤和底座形成的空腔相連通，另一端與真空栗相連。
【文檔編號】B25J15/06GK205521462SQ201620157351
【公開日】2016年8月31日
【申請日】2016年3月1日
【發(fā)明人】蔣展望, 王小文, 郭海兵, 劉川, 李銀海, 金磊
【申請人】合肥京東方光電科技有限公司, 京東方科技集團股份有限公司