顯示裝置及其制備方法
【專利摘要】本發(fā)明提供一種顯示裝置及其制備方法。該顯示裝置包括：封裝薄膜，用于將薄膜晶體管陣列與像素陣列封裝在襯底基板上；保護(hù)膜，位于所述封裝薄膜之上并且包含第一相位差片；觸摸膜位于所述保護(hù)膜之上并且包含第二相位差片；以及偏光膜位于所述觸摸膜之上。
【專利說(shuō)明】
顯不裝置及其制備方法
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，具體地，涉及顯示裝置及其制備方法。
【背景技術(shù)】
[0002]在光電顯示技術(shù)中，有機(jī)發(fā)光二極管(organic light emitting d1de，0LED)是一種自發(fā)光裝置，具有高亮度和高對(duì)比度的特點(diǎn)。并且OLED器件是超薄和柔性的設(shè)備，具有低功耗和較寬的工作溫度范圍。
[0003]圓偏光片(Circular Polarizer)用于有效的避免在OLED顯不裝置反射環(huán)境光。所述圓偏光片包括偏光膜和相位差膜。所述相位差膜可以是四分之一波片。環(huán)境光，通過(guò)偏振層和所述四分之一波片后，即成為圓偏振光。再經(jīng)過(guò)反射后，所述圓偏振光通過(guò)四分之一波片而成為與偏光層透過(guò)軸方向垂直的線偏振光。所述線偏振光被阻擋在偏光膜內(nèi)，從而消除環(huán)境光對(duì)OLED發(fā)射光的影響。
[0004]基于觸摸屏的觸摸輸入，具有響應(yīng)快、空間小、人機(jī)交互模式直觀的優(yōu)點(diǎn)，而將觸摸屏與OLED顯示裝置集成也是大勢(shì)所趨。但目前，阻擋膜、圓偏光片加觸摸屏的結(jié)構(gòu)會(huì)導(dǎo)致顯示器件厚度過(guò)厚，不利于器件輕薄化。同時(shí)，厚度也會(huì)導(dǎo)致柔性器件的彎曲和折疊性能受到影響。
[0005]本發(fā)明提供的顯示裝置及其制備方法，可以解決至少部分上述問(wèn)題，以及其他的現(xiàn)存的技術(shù)問(wèn)題。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0006]本發(fā)明提供了一種顯示裝置，包括:封裝薄膜，用于將薄膜晶體管(TFT)陣列與像素陣列封裝在襯底基板上;保護(hù)膜，位于所述封裝薄膜之上并且包含第一相位差片；觸摸膜，位于所述保護(hù)膜之上并且包含第二相位差片；以及偏光膜，位于所述觸摸膜之上。
[0007]可選的，所述第一相位差片與所述第二相位差片都包括1/8λ相位差片。
[0008]可選的，所述觸摸膜還包括X導(dǎo)電涂層與Y導(dǎo)電涂層，而所述第二相位差片位于所述X導(dǎo)電涂層與所述Y導(dǎo)電涂層之間。
[0009]可選的，所述X導(dǎo)電涂層是所述觸摸膜的X電極，而所述Y導(dǎo)電涂層是所述觸摸膜的Y電極。
[0010]可選的，所述保護(hù)膜還包括水氧隔離層，所述水氧隔離層覆蓋住第一相位差片。[0011 ]可選的，所述水氧隔離層可由以下材料中的一種或多種制成:氧化鋁、二氧化鈦、氧化錯(cuò)、氧化氮化娃、氮化娃、碳氮化娃。
[0012]可選的，所述第一相位差片和所述第二相位差片的其中一種或多種包括聚合物波片。
[0013]可選的，所述封裝薄膜包含以下結(jié)構(gòu)中的一種或多種:無(wú)機(jī)結(jié)構(gòu)膜、無(wú)機(jī)有機(jī)混合材料薄膜、無(wú)機(jī)/有機(jī)薄膜疊層、無(wú)機(jī)有機(jī)混合材料薄膜/有機(jī)薄膜疊層。
[0014]可選的，所述封裝薄膜包含以下無(wú)機(jī)材料中的一種或多種:氧化鋁、二氧化鈦、氧化錯(cuò)、氧化娃、氮化娃、碳氮化娃。
[0015]可選的，所述封裝薄膜包含以下有機(jī)材料中的一種或多種:聚甲基丙烯酸甲酯、六甲基二甲硅醚。
[0016]可選的，所述封裝薄膜包括無(wú)機(jī)有機(jī)混合材料，所述無(wú)機(jī)有機(jī)混合材料為二氧化硅和硅-碳長(zhǎng)鏈化合物的混合物。
[0017]可選的，所述封裝薄膜的厚度范圍為I微米到20微米。
[0018]可選的，所述偏光膜由聚合物構(gòu)成，所述聚合物包括聚乙烯醇(PVA)。
[0019]可選的，所述襯底基板包括設(shè)置于阻擋膜之上的柔性基板。
[0020]可選的，所述柔性基板的厚度范圍為5微米到20微米，而所述阻擋膜厚度范圍為50微米到100微米。
[0021]可選的，粘合層，所述粘合層設(shè)置在:所述封裝薄膜與所述保護(hù)膜之間、所述保護(hù)膜與所述觸摸膜之間、以及所述觸摸膜和所述偏光膜之間；以及所述粘合層由光敏膠(OCA)和壓敏膠(PSA)中的至少一種制成。
[0022]本發(fā)明還提供一種顯示裝置的制備方法，其特征在于，包括以下步驟:提供保護(hù)膜，置于襯底基板上，所述保護(hù)膜包含第一相位差片;在所述保護(hù)膜上制備觸摸膜，所述觸摸膜包含第二相位差片；以及在所述觸摸膜上制備偏光膜。
[0023]可選的，所述第一相位差片與所述第二相位差片都包括1/8λ相位差片。
[0024]可選的，所述觸摸膜還包括X導(dǎo)電涂層與Y導(dǎo)電涂層，而所述第二相位差片位于所述X導(dǎo)電涂層與事實(shí)Y導(dǎo)電涂層之間。
[0025]可選的，所述X導(dǎo)電涂層是所述觸摸膜的X電極，而所述Y導(dǎo)電涂層是所述觸摸膜的Y電極。
[0026]可選的，所述保護(hù)膜還包括水氧隔離層，所述水氧隔離層覆蓋住第一相位差片。
[0027]可選的，所述水氧隔離層可由以下材料中的一種或多種制成:氧化鋁、二氧化鈦、氧化錯(cuò)、氧化氮化娃、氮化娃、碳氮化娃。
[0028]可選的，在所述襯底基板上制備薄膜晶體管(TFT)陣列以及像素陣列;在所述襯底基板上制備用于封裝所述薄膜晶體管(TFT)陣列以及所述像素陣列的封裝薄膜；以及在所述封裝薄膜上制備所述保護(hù)膜。
[0029]本技術(shù)領(lǐng)域的一般技術(shù)人員可以通過(guò)說(shuō)明書，權(quán)利要求，以及本發(fā)明的附圖來(lái)理解本發(fā)明的其他方面。
【附圖說(shuō)明】
[0030]下列的圖示用來(lái)說(shuō)明本發(fā)明在此文公開的實(shí)施例，這些實(shí)施例并不局限本發(fā)明的范圍。
[0031]圖1為傳統(tǒng)的柔性O(shè)LED顯示裝置的示意圖；
[0032]圖2為本發(fā)明的實(shí)施例所提供的柔性O(shè)LED顯示裝置的示意圖；
[0033]圖3為本發(fā)明的實(shí)施例所提供的襯底基板的示意圖；
[0034]圖4為本發(fā)明的實(shí)施例所提供的保護(hù)膜的示意圖；
[0035]圖5為本發(fā)明的實(shí)施例所提供的觸摸膜的示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0036]為使本領(lǐng)域技術(shù)人員更好地理解本發(fā)明的技術(shù)方案，下面結(jié)合附圖和【具體實(shí)施方式】對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)描述。在可能的情況下，附圖中的各個(gè)部分提到的相同或相似的部分將采用相似的附圖標(biāo)記。
[0037]本發(fā)明提供一種柔性有機(jī)發(fā)光二極管(0LED)結(jié)構(gòu)及其制備方法。本發(fā)明提出的顯示裝置有效集成了各功能薄膜層，降低了顯示器件厚度，減小了顯示器件重量，并且提高了
生會(huì)K O
[0038]例如，所述顯示裝置包括位于襯底基板上的保護(hù)膜。所述保護(hù)膜包含第一相位差片。在所述保護(hù)膜上制備有觸摸膜。所述觸摸膜包含第二相位差片。在所述觸摸膜上制備有偏光膜。在一個(gè)實(shí)施例中，所述第一相位差片與第二相位差片可以單獨(dú)也可以共同實(shí)現(xiàn)所需要的四分之一波。比如，第一相位差片與第二相位差片可以各是一個(gè)1/8λ相位差片。
[0039]圖1為傳統(tǒng)的柔性O(shè)LED顯示裝置的示意圖。如圖所示，該柔性O(shè)LED顯示裝置包括襯底基板11。所述襯底基板包含聚酰亞胺(Polyimide，簡(jiǎn)稱PI)薄膜，以及置于PI薄膜上的阻擋膜。在所述襯底基板11上設(shè)置有薄膜晶體管(TFT)陣列12。在所述TFT陣列12上設(shè)置有OLED顯示單元13。而所述TFT陣列12上設(shè)置有OLED顯示單元13被薄膜封裝(thin-fi Imencapsulat1n，簡(jiǎn)稱TFE)薄膜14所封裝。
[0040]為了保護(hù)所述顯示裝置以及封裝薄膜14不受物理?yè)p傷，也為了實(shí)施接下來(lái)的與偏光片和觸摸膜的粘結(jié)工藝，需要將阻擋膜16通過(guò)粘合層15疊加在封裝薄膜14上。圓偏光片17通過(guò)壓敏膠(pressure-sensitive adhesive，簡(jiǎn)稱PSA)堆疊在阻擋膜16之上。觸摸膜18位于圓偏光片17之上。
[0041]本發(fā)明提供的顯示裝置，比如一種柔性O(shè)LED顯示裝置，可以包括一個(gè)含有1/8λ相位差片的保護(hù)膜，以及含有另一個(gè)1/8λ相位差片的觸摸膜，位于保護(hù)膜上。
[0042]圖2為本發(fā)明的實(shí)施例所提供的柔性O(shè)LED顯示裝置的示意圖。
[0043]如圖2所示，所述柔性顯示裝置包括:襯底基板201、TFT陣列202、像素陣列203、封裝薄膜204、粘合層205、包含有1/8λ相位差片的保護(hù)膜206、包含有1/8λ相位差片的觸摸膜207、偏光膜208。
[0044]在一個(gè)實(shí)施例中，所述襯底基板201可以是一張柔性基板。圖3為本發(fā)明的實(shí)施例所提供的襯底基板的示意圖。
[0045]所示襯底基板201包括柔性基板301，以及設(shè)置于柔性基板301背面的阻擋膜302。換句話說(shuō)，所述柔性基板301可制備在阻擋膜302上。
[0046]所述柔性基板301可由柔性材料制成，比如塑料、聚酰亞胺(PI)、聚酯、聚酯薄膜、不銹鋼箔。在一些實(shí)施例中，所述柔性基板301是光學(xué)透明的，或具有一定的透光性。在一個(gè)實(shí)施例中，所述柔性基板301包括聚酰亞胺(PI)薄膜。
[0047]所述阻擋膜302，通過(guò)光敏膠(optical clear adhesive，簡(jiǎn)稱OCA)或壓敏膠(PSA)與柔性基板301對(duì)齊并鍵合，從而阻止水、氧通過(guò)柔性基板301進(jìn)入顯示裝置，從而使顯示裝置中的各組件不被損壞。在一個(gè)實(shí)施例中，所述柔性基板301的厚度范圍約為5微米到20微米。而所述阻擋膜302的厚度范圍約為50微米到100微米。
[0048]如圖2所示，所述TFT陣列202設(shè)置在襯底基板201上，為顯示裝置提供驅(qū)動(dòng)電路。
[0049]所述像素陣列203設(shè)置在TFT陣列202上。所述像素陣列203包括該顯示裝置的發(fā)光結(jié)構(gòu)。所述像素陣列203可以是一個(gè)頂發(fā)光OLED像素陣列。
[0050]所述封裝薄膜204是薄膜封裝(TFE)薄膜，用于封裝位于襯底基板201上的TFT陣列202與像素陣列203。
[0051]例如，所述封裝薄膜204包含以下結(jié)構(gòu)中的一種或多種:無(wú)機(jī)結(jié)構(gòu)膜、無(wú)機(jī)有機(jī)混合材料薄膜、無(wú)機(jī)/有機(jī)薄膜疊層、無(wú)機(jī)有機(jī)混合材料薄膜/有機(jī)薄膜疊層。
[0052]在以上材料中，所述封裝薄膜204涉及以下無(wú)機(jī)材料中的一種或多種，例如:氧化鋁、二氧化鈦、氧化鋯、氧化硅、氮化硅、和碳氮化硅。所述封裝薄膜204涉及以下有機(jī)材料中的一種或多種適合，例如:聚甲基丙烯酸甲酯、六甲基二甲硅醚。所述無(wú)機(jī)有機(jī)混合材料可以是，例如二氧化硅和硅-碳長(zhǎng)鏈化合物的混合物。
[0053]在本發(fā)明中，所述封裝薄膜204中的無(wú)機(jī)材料被用于實(shí)現(xiàn)水、氧的隔絕。而所述封裝薄膜204中的有機(jī)材料被用于實(shí)現(xiàn)平坦化、顆粒包覆、以及空洞填充功能。從而可以有效阻隔水、氧對(duì)顯示裝置的損害，同時(shí)可以使顯示裝置更輕薄。
[0054]在一個(gè)實(shí)施例中，所述封裝薄膜204的厚度范圍約為I微米到20微米。
[0055]如圖2所示，所述保護(hù)膜206設(shè)置在封裝薄膜204上方，并通過(guò)中間的粘合層205相連。所述粘合層205是一層光敏膠(OCA)或壓敏膠(PSA)。所述粘合層205—面與保護(hù)膜206貝占合，另一面與封裝薄膜204貼合。所述粘合層205有助于將保護(hù)膜206與封裝薄膜204表面平坦化之后將他們鍵合在一起。
[0056]圖4為本發(fā)明的實(shí)施例所提供的保護(hù)膜的示意圖。
[0057]如圖4所示，所述保護(hù)膜206包括1/8λ相位差片401以及水氧阻隔層402。所述1/8λ相位差片401可設(shè)置在水氧阻隔層402上方，或者下方。
[0058]所述水氧阻隔層402可由氧化鋁、二氧化鈦、氧化鋯、氧化硅、氮化硅、碳氮化硅制成。所述1/8λ相位差片可以是一個(gè)聚合物波片。
[0059]如圖2所示，所述觸摸膜207設(shè)置在保護(hù)膜206上方，并通過(guò)中間的粘合層(未示出)相連。該粘合層是一層光敏膠(OCA)或壓敏膠(PSA)。所述粘合層一面與觸摸膜207貼合，另一面與保護(hù)膜206貼合。所述粘合層有助于將觸摸膜207與保護(hù)膜206表面平坦化之后將他們鍵合在一起。
[0060]圖5為本發(fā)明的實(shí)施例所提供的觸摸膜207的示意圖。在一個(gè)實(shí)施例中，所述觸摸膜207是一個(gè)玻璃-薄膜-薄膜(glass-film-film，簡(jiǎn)稱GFF)觸摸膜。
[0061 ] 所述觸摸膜207包括X導(dǎo)電涂層501，一個(gè)1/8λ相位差片502，以及Y導(dǎo)電涂層503。所述1/8λ相位差片502位于X導(dǎo)電涂層與Y導(dǎo)電涂層之間。作為優(yōu)選，所述X導(dǎo)電涂層是所述觸摸膜的X電極，而所述Y導(dǎo)電涂層是所述觸摸膜的Y電極。
[0062]如圖5所示，所述觸摸膜207中的1/8λ相位差片502與保護(hù)膜206中的1/8λ相位差片401相加形成等效的1/4λ相位差片。所述1/8λ相位差片502與401可均為聚合物波片。而基于所述觸摸膜207的觸摸輸入，具有響應(yīng)快、空間小、人機(jī)交互模式直觀的優(yōu)點(diǎn)。
[0063]如圖2所示，所述偏光膜208設(shè)置在觸摸膜207上方。所述偏光膜208可由例如聚乙烯醇(PVA)之類的聚合物制成。
[0064]例如，在觸摸膜207與偏光膜208之間可設(shè)置有粘合層(未示出)。該粘合層是一層光敏膠(OCA)或壓敏膠(PSA)。所述粘合層一面與偏光膜208貼合，另一面與觸摸膜207貼合。所述粘合層有助于將觸摸膜207與偏光膜208表面平坦化之后將他們鍵合在一起。
[0065]在一個(gè)實(shí)施例中，在如圖2所示的裝置中，外界光線首先穿過(guò)偏光片208而成為線偏振光，再穿過(guò)觸摸膜207之中的1/8λ相位差片與保護(hù)膜206中的1/8λ相位差片而成為圓偏振光。所述圓偏振光被反射后再次進(jìn)入并穿過(guò)觸摸膜207之中的1/8λ相位差片與保護(hù)膜206中的1/8λ相位差片。所述線偏振光與偏光膜208的透過(guò)軸方向垂直，被阻擋在偏光膜內(nèi)，從而消除環(huán)境光對(duì)OLED發(fā)射光的影響。
[0066]這樣，觸摸膜207之中的1/8λ相位差片，保護(hù)膜206中的1/8λ相位差片，以及偏光膜208共同實(shí)現(xiàn)了一個(gè)圓偏光片。通過(guò)采用所述包含有1/8λ相位差片保護(hù)膜206，取代傳統(tǒng)的不含有相位差片阻擋膜16，并且通過(guò)采用包含有1/8λ相位差片觸摸膜207，取代傳統(tǒng)GFF觸摸膜中的PET薄膜，可降低生產(chǎn)成本，減小顯示裝置的厚度。
[0067]例如，如圖1所示的傳統(tǒng)柔性O(shè)LED顯示裝置包括:必須包含有一定厚度的基板的觸摸膜18;必須包含有一定厚度基板的阻擋膜16;包含有偏光膜和1/4λ相位差片的圓偏光片17，以此來(lái)實(shí)現(xiàn)圓偏振光。相比之下，在本發(fā)明中，觸摸膜207與保護(hù)膜206都包括1/8λ相位差片，取代傳統(tǒng)裝置中對(duì)應(yīng)的基板，并且與偏光膜208共同形成一個(gè)圓偏光片。從而使本發(fā)明所提供的顯示裝置的厚度明顯降低。
[0068]此外，柔性顯示裝置的彎曲和折疊性能能得到明顯提升，并且更加輕薄。
[0069]可以理解的是，以上實(shí)施方式僅僅是為了說(shuō)明本發(fā)明的原理而采用的示例性實(shí)施方式，然而本發(fā)明并不局限于此。對(duì)于本領(lǐng)域內(nèi)的普通技術(shù)人員而言，在不脫離本發(fā)明的精神和實(shí)質(zhì)的情況下，可以做出各種變型和改進(jìn)，這些變型和改進(jìn)也視為本發(fā)明的保護(hù)范圍。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種顯示裝置，其特征在于，包括: 封裝薄膜，用于將薄膜晶體管陣列與像素陣列封裝在襯底基板上； 保護(hù)膜，位于所述封裝薄膜之上并且包含第一相位差片； 觸摸膜，位于所述保護(hù)膜之上并且包含第二相位差片；以及 偏光膜，位于所述觸摸膜之上。2.如權(quán)利要求1所述顯示裝置，其特征在于， 所述第一相位差片與所述第二相位差片都包括1/8λ相位差片。3.如權(quán)利要求1所述顯示裝置，其特征在于， 所述觸摸膜還包括X導(dǎo)電涂層與Y導(dǎo)電涂層，而所述第二相位差片位于所述X導(dǎo)電涂層與所述Y導(dǎo)電涂層之間。4.如權(quán)利要求3所述顯示裝置，其特征在于， 所述X導(dǎo)電涂層是所述觸摸膜的X電極，而所述Y導(dǎo)電涂層是所述觸摸膜的Y電極。5.如權(quán)利要求1所述顯示裝置，其特征在于， 所述保護(hù)膜還包括水氧隔離層，所述水氧隔離層覆蓋住第一相位差片。6.如權(quán)利要求5所述顯示裝置，其特征在于， 所述水氧隔離層可由以下材料中的一種或多種制成:氧化鋁、二氧化鈦、氧化鋯、氧化氮化硅、氮化硅、碳氮化硅。7.如權(quán)利要求1所述顯示裝置，其特征在于， 所述第一相位差片和所述第二相位差片的其中一種或多種包括聚合物波片。8.如權(quán)利要求1所述顯示裝置，其特征在于， 所述封裝薄膜包含以下結(jié)構(gòu)中的一種或多種:無(wú)機(jī)結(jié)構(gòu)膜、無(wú)機(jī)有機(jī)混合材料薄膜、無(wú)機(jī)有機(jī)薄膜疊層、無(wú)機(jī)有機(jī)混合材料薄膜和有機(jī)薄膜疊層。9.如權(quán)利要求1所述顯示裝置，其特征在于， 所述封裝薄膜包含以下無(wú)機(jī)材料中的一種或多種:氧化鋁、二氧化鈦、氧化鋯、氧化硅、氮化硅、碳氮化硅。10.如權(quán)利要求1所述顯示裝置，其特征在于， 所述封裝薄膜包含以下有機(jī)材料中的一種或多種:聚甲基丙烯酸甲酯、六甲基二甲硅醚。11.如權(quán)利要求1所述顯示裝置，其特征在于， 所述封裝薄膜包括無(wú)機(jī)有機(jī)混合材料，所述無(wú)機(jī)有機(jī)混合材料為二氧化硅和硅-碳長(zhǎng)鏈化合物的混合物。12.如權(quán)利要求1所述顯示裝置，其特征在于， 所述封裝薄膜的厚度范圍為I微米到20微米。13.如權(quán)利要求1所述顯示裝置，其特征在于， 所述偏光膜由聚合物構(gòu)成，所述聚合物包括聚乙烯醇(PVA)。14.如權(quán)利要求1所述顯示裝置，其特征在于， 所述襯底基板包括設(shè)置于阻擋膜之上的柔性基板。15.如權(quán)利要求14所述顯示裝置，其特征在于， 所述柔性基板的厚度范圍為5微米到20微米，所述阻擋膜厚度范圍為50微米到100微米。16.如權(quán)利要求1所述顯示裝置，其特征在于，還包括: 粘合層，所述粘合層設(shè)置在:所述封裝薄膜與所述保護(hù)膜之間、所述保護(hù)膜與所述觸摸膜之間、以及所述觸摸膜和所述偏光膜之間；以及所述粘合層由光敏膠和壓敏膠中的至少一種制成。17.—種顯示裝置的制備方法，其特征在于，包括以下步驟: 提供保護(hù)膜，置于襯底基板上，所述保護(hù)膜包含第一相位差片； 在所述保護(hù)膜上制備觸摸膜，所述觸摸膜包含第二相位差片；以及 在所述觸摸膜上制備偏光膜。18.如權(quán)利要求17所述顯示裝置的制造方法，其特征在于， 所述第一相位差片與所述第二相位差片都包括1/8λ相位差片。19.如權(quán)利要求17所述顯示裝置的制備方法，其特征在于， 所述觸摸膜還包括X導(dǎo)電涂層與Y導(dǎo)電涂層，而所述第二相位差片位于所述X導(dǎo)電涂層與所述Y導(dǎo)電涂層之間。20.如權(quán)利要求19所述顯示裝置的制備方法，其特征在于，所述X導(dǎo)電涂層是所述觸摸膜的X電極，而所述Y導(dǎo)電涂層是所述觸摸膜的Y電極。21.如權(quán)利要求17所述顯示裝置的制備方法，其特征在于， 所述保護(hù)膜還包括水氧隔離層，所述水氧隔離層覆蓋住第一相位差片。22.如權(quán)利要求21所述顯示裝置的制備方法，其特征在于， 所述水氧隔離層可由以下材料中的一種或多種制成:氧化鋁、二氧化鈦、氧化鋯、氧化氮化硅、氮化硅、碳氮化硅。23.如權(quán)利要求17所述顯示裝置的制備方法，其特征在于，還包括: 在所述襯底基板上制備薄膜晶體管陣列以及像素陣列； 在所述襯底基板上制備用于封裝所述薄膜晶體管陣列以及所述像素陣列的封裝薄膜；以及 在所述封裝薄膜上制備所述保護(hù)膜。
【文檔編號(hào)】G09F9/33GK106068564SQ201580002627
【公開日】2016年11月2日
【申請(qǐng)日】2015年10月29日 公開號(hào)201580002627.3, CN 106068564 A, CN 106068564A, CN 201580002627, CN-A-106068564, CN106068564 A, CN106068564A, CN201580002627, CN201580002627.3, PCT/2015/93192, PCT/CN/15/093192, PCT/CN/15/93192, PCT/CN/2015/093192, PCT/CN/2015/93192, PCT/CN15/093192, PCT/CN15/93192, PCT/CN15093192, PCT/CN1593192, PCT/CN2015/093192, PCT/CN2015/93192, PCT/CN2015093192, PCT/CN201593192
【發(fā)明人】王玉林, 王俊然
【申請(qǐng)人】京東方科技集團(tuán)股份有限公司