液體動(dòng)壓軸承裝置、主軸電機(jī)以及記錄盤驅(qū)動(dòng)裝置的制造方法
【專利說(shuō)明】液體動(dòng)壓軸承裝置、主軸電機(jī)以及記錄盤驅(qū)動(dòng)裝置
[0001]本申請(qǐng)要求分別于2014年5月8日和2014年9月11日提交的第10-2014-0054585號(hào)和第10-2014-0120213號(hào)韓國(guó)專利申請(qǐng)的優(yōu)先權(quán)和權(quán)益，所述韓國(guó)申請(qǐng)公開的內(nèi)容通過(guò)引用包含于此。
技術(shù)領(lǐng)域
[0002]本公開涉及一種液體動(dòng)壓軸承裝置、具有該液體動(dòng)壓軸承裝置的主軸電機(jī)以及記錄盤驅(qū)動(dòng)裝置。
【背景技術(shù)】
[0003]通常，所說(shuō)的固定軸式主軸電機(jī)安裝在信息記錄和再現(xiàn)裝置(例如，用于服務(wù)器的記錄盤驅(qū)動(dòng)裝置)上，其中，固定軸式主軸電機(jī)中的具有良好的振動(dòng)特性的軸固定到基座構(gòu)件。
[0004]同時(shí)，在固定軸設(shè)置在驅(qū)動(dòng)電機(jī)中的情況下，填充有潤(rùn)滑流體的多個(gè)氣-液界面形成在驅(qū)動(dòng)電機(jī)的液體動(dòng)壓軸承裝置中。在如上所述形成多個(gè)氣-液界面的情況下，在組裝記錄盤驅(qū)動(dòng)裝置的過(guò)程中，液體動(dòng)壓軸承裝置的內(nèi)部與外部之間由于吹煉工藝產(chǎn)生了壓力差。由于這樣的壓力差，導(dǎo)致潤(rùn)滑流體會(huì)容易泄漏到液體動(dòng)壓軸承裝置的外部，然后散逸。
[0005]為了防止?jié)櫥黧w散逸，減小了潤(rùn)滑流體的注入量。然而，由于所述少量的注入的潤(rùn)滑流體的蒸發(fā)導(dǎo)致電機(jī)的壽命縮短。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0006]提供本
【發(fā)明內(nèi)容】
，以按照簡(jiǎn)化形式介紹構(gòu)思的選擇，將在下面的【具體實(shí)施方式】中進(jìn)一步描述所述構(gòu)思。本
【發(fā)明內(nèi)容】
無(wú)意確定要求保護(hù)的主題的關(guān)鍵特征或必要特征，也無(wú)意用于確定要求保護(hù)的主題的范圍。
[0007]根據(jù)實(shí)施例，提供一種液體動(dòng)壓軸承裝置，所述液體動(dòng)壓軸承裝置包括:定子；轉(zhuǎn)子，與所述定子一起形成軸承間隙以及與所述軸承間隙連接的密封部，其中，氣-液界面設(shè)置在所述密封部中，所述軸承間隙填充有潤(rùn)滑流體，其中，所述定子和所述轉(zhuǎn)子形成與所述密封部連接的儲(chǔ)藏空間，用于接收所述潤(rùn)滑流體，其中，所述儲(chǔ)藏空間具有在所述潤(rùn)滑流體泄漏時(shí)使通過(guò)毛細(xì)現(xiàn)象施加到氣-液界面的力增大以填充所述軸承間隙的區(qū)域。
[0008]所述儲(chǔ)藏空間可具有等于或大于填充所述軸承間隙的所述潤(rùn)滑流體的體積的容積。
[0009]所述儲(chǔ)藏空間可包括:第一儲(chǔ)藏空間，沿軸向方向形成；第二儲(chǔ)藏空間，與所述第一儲(chǔ)藏空間連接并具有沿軸向方向向上增大的間隙；第三儲(chǔ)藏空間，與所述第二儲(chǔ)藏空間連接并具有比所述第二儲(chǔ)藏空間的間隙寬的間隙。
[0010]所述軸承間隙可包括流動(dòng)抑制間隙，所述流動(dòng)抑制間隙具有比所述軸承間隙的其它部分的間隙窄的間隙，以抑制所述潤(rùn)滑流體的流動(dòng)。[0011 ] 所述流動(dòng)抑制間隙可形成在所述軸承間隙中，以與所述密封部連接。
[0012]根據(jù)另一實(shí)施例，提供一種液體動(dòng)壓軸承裝置，所述液體動(dòng)壓軸承裝置包括:定子；轉(zhuǎn)子，與所述定子一起形成軸承間隙以及與所述軸承間隙連接的密封部，其中，氣-液界面設(shè)置在所述密封部中，所述軸承間隙填充有潤(rùn)滑流體，所述定子和所述轉(zhuǎn)子形成與所述密封部連接的儲(chǔ)藏空間，以接收從所述軸承間隙泄漏的所述潤(rùn)滑流體，所述軸承間隙包括形成在所述軸承間隙中的密封增強(qiáng)部，所述密封增強(qiáng)部與所述密封部形成迷宮式密封并包括尺寸變化的間隙。
[0013]所述儲(chǔ)藏空間可具有隨著所述潤(rùn)滑流體的泄漏使由于毛細(xì)現(xiàn)象而施加到所述氣-液界面的力增大的區(qū)域。
[0014]所述密封增強(qiáng)部可包括:流動(dòng)抑制間隙，與所述密封部連接并具有比所述密封部的間隙窄的間隙；間隙擴(kuò)張部，與所述流動(dòng)抑制間隙連接并具有比所述流動(dòng)抑制間隙的間隙寬的間隙。
[0015]所述間隙擴(kuò)張部可形成為從所述間隙擴(kuò)張部的與所述流動(dòng)抑制間隙連接的部分傾斜。
[0016]所述流動(dòng)抑制間隙可具有比所述軸承間隙的其它部分的間隙窄的間隙。
[0017]根據(jù)另一實(shí)施例，提供一種主軸電機(jī)，所述主軸電機(jī)包括:基座構(gòu)件；下推力構(gòu)件，連接到所述基座構(gòu)件；軸，連接到所述下推力構(gòu)件并包括從所述軸的上端部處的法蘭部延伸的上推力構(gòu)件；旋轉(zhuǎn)構(gòu)件，被構(gòu)造為與所述下推力構(gòu)件和所述軸一起形成軸承間隙，其中，所述軸承間隙填充有潤(rùn)滑流體，所述上推力構(gòu)件和所述法蘭部與所述旋轉(zhuǎn)構(gòu)件一起形成用于為接收填充所述軸承間隙的所述潤(rùn)滑流體的儲(chǔ)藏空間，所述上推力構(gòu)件的下表面和所述旋轉(zhuǎn)構(gòu)件的與所述上推力構(gòu)件的下表面面對(duì)的表面形成流動(dòng)抑制間隙。
[0018]所述儲(chǔ)藏空間可具有使通過(guò)毛細(xì)現(xiàn)象施加到由于所述潤(rùn)滑流體的泄漏而運(yùn)動(dòng)的氣-液界面的力增大的區(qū)域。
[0019]所述流動(dòng)抑制間隙可設(shè)置在所述軸承間隙中并具有比所述軸承間隙的其它部分的間隙窄的間隙。
[0020]所述流動(dòng)抑制間隙可與形成在所述軸承間隙的末端的所述密封部連接，所述儲(chǔ)藏空間從所述密封部延伸。
[0021]所述軸承間隙可包括密封增強(qiáng)部，所述密封增強(qiáng)部包括所述流動(dòng)抑制間隙以及與所述流動(dòng)抑制間隙連接的間隙擴(kuò)張部，所述間隙擴(kuò)張部具有比所述流動(dòng)抑制間隙的間隙寬的間隙，其中，所述密封增強(qiáng)部與所述密封部連接而形成迷宮式密封并包括尺寸變化的間隙。
[0022]所述流動(dòng)抑制間隙可具有25 μπι或更小的間隙，以防止由于2KPa的壓力差導(dǎo)致所述潤(rùn)滑流體的分散。
[0023]所述儲(chǔ)藏空間可包括:第一儲(chǔ)藏空間，沿軸向方向形成；第二儲(chǔ)藏空間，與所述第一儲(chǔ)藏空間連接并具有沿軸向方向向上增大的間隙；第三儲(chǔ)藏空間，與所述第二儲(chǔ)藏空間連接并具有比所述第二儲(chǔ)藏空間的間隙寬的間隙。
[0024]根據(jù)另一實(shí)施例，提供一種記錄盤驅(qū)動(dòng)裝置，所述記錄盤驅(qū)動(dòng)裝置包括:上述的主軸電機(jī)，被構(gòu)造為使記錄盤旋轉(zhuǎn)；頭部移送部，將用于檢測(cè)安裝在所述主軸電機(jī)上的記錄盤的信息的頭部移送到所述記錄盤；上殼，與所述基座構(gòu)件裝配，以形成用于容納所述主軸電機(jī)和所述頭部移送部的空間。
[0025]根據(jù)實(shí)施例，提供一種液體動(dòng)壓軸承裝置，所述液體動(dòng)壓軸承裝置包括:定子，包括下推力構(gòu)件和軸；轉(zhuǎn)子，與所述定子一起形成軸承間隙以及與所述軸承間隙連接的第一密封部，其中，液氣界面設(shè)置在所述第一密封部中，所述軸承間隙填充有潤(rùn)滑流體，所述定子和所述轉(zhuǎn)子形成與所述第一密封部連接的儲(chǔ)藏空間，用于接收所述潤(rùn)滑流體，所述軸的上推力構(gòu)件的下表面和所述轉(zhuǎn)子的旋轉(zhuǎn)構(gòu)件的與所述上推力構(gòu)件的下表面面對(duì)的面對(duì)表面形成流動(dòng)抑制間隙，所述第一密封部形成在所述上推力構(gòu)件與所述旋轉(zhuǎn)構(gòu)件之間，所述下推力構(gòu)件與所述旋轉(zhuǎn)構(gòu)件之間形成有第二密封部，當(dāng)壓力Pl被施加到設(shè)置在所述第二密封部中的第一氣-液界面以及壓力P2被施加到設(shè)置在所述第一密封部中的第二氣-液界面時(shí)，Pl與P2之間的壓力差限定為P1-P2。
[0026]所述儲(chǔ)藏空間可包括比填充所述軸承間隙的所述潤(rùn)滑流體的體積大的容積。
[0027]當(dāng)Pl大于P2時(shí)，在所述第二氣-液界面中壓力可被施加到所述軸承間隙的外部，使得所述第二氣-液界面朝向所述第一密封部的外部向上運(yùn)動(dòng)。
[0028]所述流動(dòng)抑制間隙可與所述第一密封部連接并設(shè)置在所述軸承間隙中。
[0029]所述流動(dòng)抑制間隙可包括比所述軸承間隙的其它部分的間隙窄的間隙。
[0030]隨著所述潤(rùn)滑流體泄漏到所述儲(chǔ)藏空間中，通過(guò)毛細(xì)現(xiàn)象施加到所述氣-液界面的力可逐漸地增大。
[0031]所述潤(rùn)滑流體可從所述軸承間隙泄漏，直到沿與所述潤(rùn)滑流體通過(guò)所述流動(dòng)抑制間隙的流動(dòng)方向相反的方向作用的力和通過(guò)毛細(xì)現(xiàn)象沿與所述潤(rùn)滑流體的流動(dòng)方向相反的方向作用在運(yùn)動(dòng)到所述儲(chǔ)藏空間的氣-液界面上的力的壓力差變得與施加到所述潤(rùn)滑流體的力相等為止。
[0032]隨著所述潤(rùn)滑流體穿過(guò)密封增強(qiáng)部并被引入到所述儲(chǔ)藏空間中，所述潤(rùn)滑流體的泄漏速度可減小。
[0033]根據(jù)從以下的【具體實(shí)施方式】、附圖和權(quán)利要求，其它特征和方面將是中明顯的。
【附圖說(shuō)明】
[0034]通過(guò)下面結(jié)合附圖進(jìn)行的實(shí)施例的描述，這些和/或其它方面將變得明顯，并且更易于理解，在附圖中:
[0035]圖1是示出根據(jù)實(shí)施例的包括液體動(dòng)壓軸承裝置的主軸電機(jī)的示意性截面圖；
[0036]圖2是圖1的A部分的放大圖；
[0037]圖3是示出圖2的B部分的放大圖；
[0038]圖4是示出根據(jù)實(shí)施例的包括液體動(dòng)壓軸承裝置的主軸電機(jī)的操作的視圖；
[0039]圖5是示出圖4的C部分的放大圖；
[0040]圖6是示出根據(jù)另一實(shí)施例的包括液體動(dòng)壓軸承裝置的主軸電機(jī)的截面圖；
[0041]圖7是示出圖6的D部分的放大圖；
[0042]圖8是示出圖7的E部分的放大圖；
[0043]圖9是示出根據(jù)另一實(shí)施例的液體動(dòng)壓軸承裝置的操作的視圖；
[0044]圖10是示出根據(jù)實(shí)施例的