專利名稱：三嗪衍生物的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及某些(全)氟聚醚三嗪衍生物、涉及它們的制造方法并且涉及它們?cè)跐?rùn)滑中的用途，特別是用于潤(rùn)滑磁記錄介質(zhì)的滑動(dòng)或移動(dòng)部件。
背景技術(shù)：
眾所周知，磁性記錄裝置被劃分為使用一種磁盤作為在其上記錄數(shù)據(jù)的介質(zhì)的那些以及使用磁帶作為此種介質(zhì)的那些。因?yàn)槭褂么疟P的前一類型的記錄裝置(以下被稱為磁盤驅(qū)動(dòng)器)是占主導(dǎo)的，以下說明集中于磁盤驅(qū)動(dòng)器作為該磁記錄裝置的一個(gè)實(shí)例。因?yàn)榻陙硪呀?jīng)在追求磁盤驅(qū)動(dòng)器的容量的擴(kuò)大，磁頭的飛行高度已經(jīng)迅速降低至低于IOnm或甚至更小，并且其結(jié)果 是，對(duì)于就抗滑動(dòng)摩擦而言的可靠性存在著增長(zhǎng)的需要。同樣，存在強(qiáng)烈的需要來提高具有更大的磁盤容量的數(shù)據(jù)處理速度。具體地說，在一個(gè)獨(dú)立磁盤冗余陣列(RAID)系統(tǒng)中，要求以10，OOOrpm或更高的磁盤旋轉(zhuǎn)速度運(yùn)轉(zhuǎn)的一個(gè)磁盤驅(qū)動(dòng)器。為了確保一個(gè)磁盤驅(qū)動(dòng)器的可靠性，一般而言，在用于該磁盤驅(qū)動(dòng)器的一個(gè)磁盤表面上的碳的外涂層上形成一個(gè)潤(rùn)滑劑層。作為該潤(rùn)滑劑層的主要材料，通常，廣泛使用氟聚醚，它是一種化學(xué)穩(wěn)定的氟化的有機(jī)化合物。實(shí)際上，為了保證磁盤驅(qū)動(dòng)器的可靠性，必須遵守的是有效地保護(hù)在所述磁盤驅(qū)動(dòng)器表面上的適當(dāng)?shù)臐?rùn)滑劑分布以得到長(zhǎng)的工作時(shí)間。當(dāng)磁盤驅(qū)動(dòng)器運(yùn)轉(zhuǎn)時(shí)，所述磁盤以高速旋轉(zhuǎn)并且該潤(rùn)滑劑可能由歸因于當(dāng)磁盤旋轉(zhuǎn)時(shí)該磁盤表面上空氣流動(dòng)的空氣剪力、以及直接施加在該潤(rùn)滑劑上的離心力的組合作用而被拋出。其結(jié)果是，通常觀察到該磁盤表面上的潤(rùn)滑劑的量逐漸減小。同樣，在該磁驅(qū)動(dòng)器內(nèi)部該潤(rùn)滑劑進(jìn)入大氣的蒸發(fā)現(xiàn)象可能發(fā)生。為了克服在磁盤旋轉(zhuǎn)以及自然蒸發(fā)期間由被拋出帶來的潤(rùn)滑劑損失這一問題，迄今為止已經(jīng)提出了解決方法。因此，已經(jīng)提出了用于約束潤(rùn)滑劑不被拋出以及被蒸發(fā)的一種方法，其中通過增加該潤(rùn)滑劑中官能端基的極性來使得該潤(rùn)滑劑至磁盤保護(hù)層上的粘合力更強(qiáng)。據(jù)信所述極性端基既改善了該潤(rùn)滑劑至磁性介質(zhì)表面的附著又減小了揮發(fā)性。在該方法之中，基于既在端基又在鏈中具有極性官能團(tuán)的氟聚醚的氟聚醚潤(rùn)滑劑已經(jīng)顯示出最好的性能。因此，JP2006070173(FUJITSU LTD) 16/03/2006 披露了一種具有氟化的聚醚結(jié)構(gòu)的用于磁記錄介質(zhì)的潤(rùn)滑劑，所述潤(rùn)滑劑包括每個(gè)分子I至10個(gè)羥基并且包括以下這些彼此通過一個(gè)醚鍵連接的結(jié)構(gòu)單元:
(I)-CF2CH2OH(端基)(2)-CF2-(內(nèi)部基團(tuán))⑶-CF2CF2-(內(nèi)部基團(tuán))(4) -CF2CH2O-CH2-CH (OH) -CH2-OCH2CF2-(內(nèi)部基團(tuán))。類似地，US2007060487(HITACHI GLOBAL STORAGE TECH) 15/03/2007 披露了一種具有非末端官能團(tuán)的MRM潤(rùn)滑劑；這些官能團(tuán)的位置被選擇為使官能團(tuán)之間的自由骨架PFPE鏈的鏈長(zhǎng)度最小化而同時(shí)使蒸發(fā)溫度最大化并確保有效結(jié)合到被潤(rùn)滑的表面上。進(jìn)一步地，US2009023017(H0YACORP [JP]) 22/01/2009 披露了通過包括一個(gè)中心磷腈環(huán)的化合物來潤(rùn)滑MRM表面，所述中心部分(moiety)被一個(gè)或多個(gè)包括鍵合至其上的羥基的氟聚醚鏈所取代，從而最終在該化合物中提供多個(gè)羥基，超過2個(gè)。進(jìn)一步地，此外，為了實(shí)現(xiàn)大的容量?jī)?chǔ)存能力，由于光學(xué)和磁性記錄技術(shù)的合并，熱輔助的記錄磁盤已經(jīng)日益受到關(guān)注；根據(jù)這種技術(shù)，由具有大的磁各向異性能的磁性材料制成的記錄磁盤(并且因此不是那么“可寫入的”)通過輻射而被局部加熱，從而局部降低抗磁力并且因此使之有可能通過磁頭來記錄信息。因此對(duì)一種適合于這種技術(shù)的磁記錄介質(zhì)的潤(rùn)滑劑的要求甚至更為迫切，因?yàn)榇疟P的被潤(rùn)滑的面被暴露，除了在磁頭的超低高度飛行和極快的旋轉(zhuǎn)速度中，也暴露在可能局部達(dá)到200°C或更高溫度的溫度中。分解和/或蒸發(fā)現(xiàn)象可能被加速。

在此背景下，已經(jīng)發(fā)現(xiàn)如上詳述的傳統(tǒng)的全氟聚醚潤(rùn)滑劑經(jīng)受了顯著的熱氧化降解現(xiàn)象，因此使它們有可能不適合用于此類熱輔助的磁記錄技術(shù)中。另一方面，包括氟化的部分的三嗪衍生物是本領(lǐng)域中已知的。例如，EP1033368A(AUSIM0NT SPA)6/09/2000披露了具有以下化學(xué)式之一的氟化
的三嗪化合物:
權(quán)利要求
1.一種三嗪衍生物，包括至少一個(gè)三嗪基團(tuán)和至少一個(gè)氟聚氧亞烷基鏈(鏈Rf)，該鏈包括在主鏈中具有多個(gè)醚鍵的碳氟鏈段，所述鏈Rf包括至少一個(gè)羥基基團(tuán)。
2.如權(quán)利要求1所述的三嗪衍生物，其中所述氟聚氧亞烷基鏈(Rf)是包含重復(fù)單元R0的鏈，所述重復(fù)單元選自下組，該組由以下各項(xiàng)組成:(i)-CFXO-，其中X 是 F 或 CF3, (ii)-CFXCFX0-，其中X在每次出現(xiàn)時(shí)相同或不同，是F或CF3,條件是至少一個(gè)X是-F， (iii)-CF2CF2CW2O-,其中每個(gè)W彼此相同或不同，是F、Cl、H， (iv)-CF2CF2CF2CF2O-, (V)-(CF2) j-CFZ-Ο-，其中j是從O至3的整數(shù)，并且Z是具有通式-OR/T3的基團(tuán)，其中R/是包括從O至10個(gè)的若干重復(fù)單元的氟聚氧亞烷基鏈，所述重復(fù)單元選自以下各項(xiàng):_cfxo-、-cf2cfxo-、-c f2cf2cf2o-、-cf2cf2cf2cf2o-，其中對(duì)于每一個(gè)每個(gè) X 獨(dú)立地是 F 或 CF3 ;并且T3是C1-C3全氟烷基基團(tuán)。
3.如權(quán)利要求2所述的三嗪衍生物，所述三嗪衍生物符合以下化學(xué)式(T-1)和(T-2)中的任一個(gè):
4.如權(quán)利要求3所述的三嗪衍生物，其中化學(xué)式(T-1)中的Υ、Υ’、Υ”中的至少一個(gè)以及化學(xué)式(Τ-2)中的Υ°、Υ° ’、Υ° ”、Y?！薄?、Υ° ””中的至少一個(gè)是選自下組，該組由以下各項(xiàng)組成:-具有化學(xué)式-CF2CH2O (CH2CH2O) s，H 和-CF2CF2CH2O (CH2CH2O) S，，H 的基團(tuán)，其中 s’和 s”彼此相同或不同并且在每次出現(xiàn)時(shí)是從O至5的整數(shù)；以及-具有化學(xué)式-CF2CH2O (CH2CH2O) w’ J，(OH) e’ 和-CF2CF2CH2O (CH2CH2O) w” J” (OH) e” 的基團(tuán)，其中w’和w”彼此相同或不同并且在每次出現(xiàn)時(shí)是從O至5的整數(shù)；J’和J”是C1^C12烴橋聯(lián)基團(tuán)，任選地包括醚鍵；e’和e”是從2至4的整數(shù)。
5.如權(quán)利要求4所述的三嗪衍生物，其中化學(xué)式(T-1)中的Y、Y’、Y”中的至少一個(gè)以及化學(xué)式(Τ-2)中的Υ°、Υ° ’、Υ° ”、Y?！薄ⅵ础?””中的至少一個(gè)更優(yōu)選地是選自下組，該組由以下各項(xiàng)組成: -具有化學(xué)式-CF2CH2OH和-CF2CF2CH2OH的基團(tuán)；以及-具有化學(xué)式-CF2CH2O (CH2CH0HCH20) d’H 和-CF2CF2CH2O (CH2CH0HCH20) d”H，的基團(tuán)，其中d’和d”彼此相同或不同并且在每次出現(xiàn)時(shí)是從I至3的整數(shù)。
6.如權(quán)利要求5所述的三嗪衍生物，符合以下化學(xué)式(T-1a)和(T_2a)中的任一個(gè):
7.如權(quán)利要求5所述的三嗪衍生物，符合以下化學(xué)式(T-1b)和(T-2b)中的任一個(gè):
8.如權(quán)利要求7所述的三嗪衍生物，其中每個(gè)Rh彼此相同或不同并且在每次出現(xiàn)時(shí)獨(dú)立地是符合化學(xué)式-CO- (CF2) fla-RFa- (CF2) f2a-CH2- (OCH2CH2)n2a_Ga 的基團(tuán)，其中 n2a 是從 O 至5的整數(shù)、優(yōu)選是O ;f Γ和f2a中的每個(gè)獨(dú)立地是整數(shù)I或2 ；RFa是權(quán)利要求2中所定義的二價(jià)的二氟聚氧亞烷基鏈(Rf)并且Ga是含羥基的基團(tuán)，優(yōu)選選自下組，該組由權(quán)利要求7中所定義的化學(xué)式(gl)、(g2)和(g3)組成。
9.如權(quán)利要求5所述的三嗪衍生物，符合以下化學(xué)式(T-1c)和(T-2c)中的任一個(gè):
10.如權(quán)利要求9所述的三嗪衍生物，其中每個(gè)Rh彼此相同或不同并且在每次出現(xiàn)時(shí)是具有化學(xué)式-CH2- (OCH2)u- (CF2) fla-RFa- (CF2) f2a_CH2_ (OCH2CH2)n2a_Ga 的基團(tuán)，其中 u 是 或1，n2a是從O至5的整數(shù)、優(yōu)選是O ;fla和f2a中的每個(gè)獨(dú)立地是整數(shù)I或2 ；RFa是權(quán)利要求2中所定義的二價(jià)的氟聚氧亞烷基鏈(Rf)并且Ga是含羥基的基團(tuán)，優(yōu)選選自下組，該組由如上所定義的化學(xué)式(gl)、(g2)和(g3)組成。
11.如權(quán)利要求5所述的三嗪衍生物，符合以下化學(xué)式(T-1d)和(T-2d)中的任一個(gè):
12.—種潤(rùn)滑劑組合物，包含如權(quán)利要求1至11中任一項(xiàng)所述的三嗪衍生物以及至少一種潤(rùn)滑劑。
13.如權(quán)利要求12所述的潤(rùn)滑劑組合物，其中，它包含至少一種(即一種或多于一種的混合物)全氟聚醚(PFPE)潤(rùn)滑劑，即包含全氟氧亞烷基鏈，也就是說包括具有至少一個(gè)醚鍵以及至少一個(gè)碳氟部分的重復(fù)單元的鏈，的潤(rùn)滑劑，該潤(rùn)滑劑不同于本發(fā)明的三嗪衍生物。
14.一種用于潤(rùn)滑磁記錄介質(zhì)的方法，包括在其至少一個(gè)表面上涂覆包括如權(quán)利要求1至11中任一項(xiàng)所述的三嗪衍生物的組合物或者如權(quán)利要求12至13中任一項(xiàng)所述的潤(rùn)滑劑組合物。
15.如權(quán)利要求14所述的方法，其中該磁記錄介質(zhì)是硬盤。
全文摘要
本發(fā)明涉及某些包括至少一個(gè)三嗪基團(tuán)以及至少一個(gè)氟聚氧亞烷基鏈(鏈Rf)的(全)氟聚醚三嗪衍生物，該鏈在主鏈中包括具有多個(gè)醚鍵的一個(gè)碳氟鏈段，所述鏈Rf包括至少一個(gè)羥基基團(tuán)；涉及它們的制造方法并且涉及它們?cè)跐?rùn)滑中的用途，特別是用于潤(rùn)滑磁記錄介質(zhì)的滑動(dòng)或移動(dòng)部件。
文檔編號(hào)C08G65/00GK103237831SQ201180058057
公開日2013年8月7日 申請(qǐng)日期2011年11月28日 優(yōu)先權(quán)日2010年12月3日
發(fā)明者R.瓦爾塞奇, F.穆塔, C.A.P.托內(nèi)利 申請(qǐng)人:索爾維特殊聚合物意大利有限公司