一種復(fù)合反滲透薄膜及其制備方法
【專利摘要】一種復(fù)合反滲透薄膜及其制備方法，屬于水處理膜制備技術(shù)領(lǐng)域。該反滲透薄膜包括基底支撐層、中間多孔承托層和超薄致密分離層三個(gè)部分；超薄致密分離層是由二維納米材料和芳香聚酰胺兩種材料復(fù)合構(gòu)成。所述的二維納米材料采用二硫化鉬、二氧化鈦或官能化的石墨烯。本發(fā)明將二維納米材料通過原位界面聚合填加至致密分離層中，可有效提高復(fù)合反滲透薄膜的產(chǎn)水量，脫鹽率、抗污染性能和抗氯性能，同時(shí)降低所需工作壓力。
【專利說明】
一種復(fù)合反滲透薄膜及其制備方法
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本發(fā)明涉及一種改性的芳香聚酰胺反滲透薄膜及制備方法，更具體地說，是將二維納米材料加入到反滲透薄膜的超薄致密分離層中，屬于水處理膜技術(shù)領(lǐng)域。
【背景技術(shù)】
[0002]隨著工業(yè)的發(fā)展，水污染及淡水資源短缺是當(dāng)今全球面臨的最大的挑戰(zhàn)之一，為解決當(dāng)前嚴(yán)重的淡水危機(jī)，海水淡化得到越來越多的關(guān)注。目前，主要的海水淡化技術(shù)有反滲透、多效蒸餾、多級(jí)閃蒸和電滲析。其中，應(yīng)用反滲透膜的反滲透法是最節(jié)能的海水淡化技術(shù)。然而，目前所采用的傳統(tǒng)聚酰胺高分子反滲透膜主要通過制造納米孔起到截留鹽離子的作用，脫鹽性能上還存在諸多不足，如膜的產(chǎn)水量比較低、抗污染和抗氯性能比較差、所需外壓較大，且脫鹽率還存在一定的提升空間等。
[0003]近年來，研究發(fā)現(xiàn)一些新興的二維納米材料具有許多獨(dú)特的過濾性能。在水傳輸方面，Geim等人報(bào)道了氧化石墨稀(GO)構(gòu)成的薄膜對(duì)水蒸氣有超快的傳輸特性(Nair R R,Wu H A,Jayaram P N,et al.Unimpeded permeat1n of water through helium-leak-tight graphene-based membranes[J].Science , 2012,335(6067): 442-444)，其原因是GO層片相互堆疊形成了納米毛細(xì)網(wǎng)絡(luò)通道，而通道內(nèi)部由于碳原子規(guī)整的排列結(jié)構(gòu)具有超低的流動(dòng)摩擦力，從而有利于超快的水流動(dòng)速率。Sun等人進(jìn)一步證實(shí)了 GO薄膜對(duì)液態(tài)水有同樣的特性(Sun P,Liu H,Wang K,et al.Ultrafast liquid water transport throughgraphene-based nanochannels measured by isotope labelIing[J].ChemicalCommunicat1ns,2015,51 (15):3251-3254)。在離子分離方面，以GO為例的一些二維納米材料具有離子選擇透過的特性。Mi和Sun等人分別提出了尺寸效應(yīng)離子排除和電荷調(diào)控的離子相互作用的離子截留機(jī)理(Mi B.Graphene oxide membranes for 1nic andmolecular sieving[J].Science，2014，343(6172):740-742;Sun P,Zhu M,ffang K,etal.Selective 1n penetrat1n of graphene oxide membranes[J].AcsNano,2012,7
(I):428-437)。在膜污染和氯化作用方面，二維納米材料可以通過不同官能化改變親疏水性，從而提高薄膜的抗氯和抗污染性能，除此之外，二維納米材料的引入也有助于保護(hù)聚酰胺上氯的活性反應(yīng)位點(diǎn)，從而進(jìn)一步阻止薄膜的氯化?；诖?，具有可調(diào)控的多重傳質(zhì)方式的二維納米材料在水處理薄膜領(lǐng)域有廣闊的應(yīng)用前景。
[0004]為了解決傳統(tǒng)高分子反滲透問題，在本發(fā)明中，將二維納米材料填加到反滲透膜的超薄致密分離層中，改善反滲透薄膜的結(jié)構(gòu)、親水性、水和離子傳輸通道等，從而有效提高反滲透薄膜的產(chǎn)水量，脫鹽率、抗污染性能和抗氯性能，同時(shí)降低所需工作壓力，節(jié)省能耗并降低成本。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]本發(fā)明的目的在于提供一種復(fù)合反滲透薄膜，其具有更優(yōu)的水通量、脫鹽率，抗污性能和抗氯性能，同時(shí)降低所需工作壓力。
[0006]本發(fā)明的技術(shù)方案如下:
[0007]—種復(fù)合反滲透薄膜，含有基底支撐層、中間多孔承托層和超薄致密分離層，其特征在于:所述的超薄致密分離層是通過原位界面聚合將二維納米材料填加至芳香聚酰胺中構(gòu)成的。
[0008]本發(fā)明所述的二維納米材料優(yōu)選采用二硫化鉬、二氧化鈦或官能化的石墨烯。所述的官能化的石墨烯采用氨基化石墨烯、羥基化石墨烯或羧基化氧化石墨烯。
[0009]優(yōu)選地，本發(fā)明所述超薄致密分離層的厚度為100-200nm。
[0010]優(yōu)選地，所述的中間多孔承托層為聚砜類高分子材料;所述的基底支撐層為水處理專用無紡布材料。
[0011]本發(fā)明提供的一種復(fù)合反滲透薄膜的制備方法，其特征在于該方法包括如下步驟:
[0012]I)基底支撐層預(yù)處理:用壓平機(jī)將無紡布表面壓平；
[0013]2)將聚砜類高分子材料溶于N-甲基吡咯烷酮溶劑中，配制聚砜溶液；用自動(dòng)涂膜機(jī)將聚砜溶液均勻涂覆在無紡布表層，浸入去離子水后固化成膜，膜厚控制在50?200μπι;在60?80°C條件下干燥10?30min，制成涂覆有聚砜材料的無紡布；
[0014]3)將二維納米材料均勻分散于間苯二胺水溶液中，該二維納米材料含量控制在0.005wt.% ?0.03wt.% ；
[0015]4)將涂覆有聚砜材料的無紡布在去離子水里浸泡30min?lh，之后將其浸入含有二維納米材料的間苯二胺水溶液中保持5?lOmin，取出后去除表面多余溶液;再浸入均苯三甲酰氯有機(jī)溶液中保持30s?2min;在60?90°C條件下干燥1min?30min;即制得二維納米材料改性的復(fù)合反滲透薄膜。
[00? 6] 優(yōu)選地，步驟3)中所述的間苯二胺水溶液的濃度控制在0.5g/mL?3g/mL ；步驟4)中所述的均苯三甲酰氯有機(jī)溶液的濃度控制在0.02g/mL?0.15g/mL0
[0017]本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比，具有以下優(yōu)點(diǎn)及突出性的技術(shù)效果:該方法制備的二維納米材料改性的芳香聚酰胺復(fù)合反滲透膜，能夠利用二維納米材料中納米網(wǎng)絡(luò)通道對(duì)水的超快傳輸特性實(shí)現(xiàn)反滲透膜水通量的提高;利用對(duì)二維納米材料電荷特性的調(diào)控實(shí)現(xiàn)高脫鹽率;利用二維納米材料內(nèi)部毛細(xì)網(wǎng)絡(luò)中的高毛細(xì)力降低反滲透所需的外壓力，降低能耗；通過加入親水性二維納米材料提高反滲透膜的親水性，提高反滲透膜的抗污染能力;通過加入二維納米材料，保護(hù)芳香聚酰胺上氯的活性反應(yīng)位點(diǎn)，提高抗氯性能。
【附圖說明】
[0018]附圖1為本發(fā)明提供的復(fù)合反滲透薄膜的結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0019]下面結(jié)合附圖和實(shí)施例對(duì)本發(fā)明做進(jìn)一步闡述。
[0020]如圖1所示，本發(fā)明提供的一種復(fù)合反滲透薄膜，含有基底支撐層1、中間多孔承托層2和超薄致密分離層3，該超薄致密分離層是通過原位界面聚合將二維納米材料填加至芳香聚酰胺中構(gòu)成的?；字螌覫采用水處理專用無紡布，起到結(jié)構(gòu)支撐和增強(qiáng)反滲透膜力學(xué)性能的作用。中間多孔承托層2為聚砜類高分子材料，在無紡布基底上形成多孔結(jié)構(gòu)，起到超濾的作用。超薄致密分離層3采用二維納米材料和芳香聚酰胺復(fù)合材料，厚度一般為100-200nm，起到去除鹽離子的作用。其合成方法是原位界面聚合法，發(fā)生界面聚合反應(yīng)所用的單體為間苯二胺和均苯三甲酰氯，所述的二維納米材料一般包括二硫化鉬(MoS2)、二氧化鈦(T12)或官能化的石墨烯;所述的官能化的石墨烯采用氨基化石墨烯、羥基化石墨烯或羧基化氧化石墨烯。在脫鹽的過程中，水分子能夠快速的透過反滲透薄膜，而鹽離子被有效的阻擋。
[0021]本發(fā)明提供的復(fù)合反滲透薄膜的制備方法，其具體包括如下步驟:
[0022]I)基底支撐層預(yù)處理:用壓平機(jī)將無紡布表面壓平；
[0023]2)將聚砜類高分子材料溶于N-甲基吡咯烷酮溶劑中，配制聚砜溶液；用自動(dòng)涂膜機(jī)將聚砜溶液均勻涂覆在無紡布表層，浸入去離子水后固化成膜，膜厚控制在50?200μπι;在60?80°C條件下干燥10?30min，制成涂覆有聚砜材料的無紡布；
[0024]3)將二維納米材料均勻分散于間苯二胺水溶液中，二維納米材料含量控制在
0.005wt.%?0.03wt.% ;所述的間苯二胺水溶液的濃度控制在0.5g/mL?3g/mL;
[0025]4)將涂覆有聚砜材料的無紡布在去離子水里浸泡30min?lh，之后將其浸入含有二維納米材料的間苯二胺水溶液中保持5?lOmin，取出后去除表面多余溶液;再浸入均苯三甲酰氯有機(jī)溶液中保持30s?2min;在60?90°C條件下干燥1min?30min;即制得二維納米材料改性的復(fù)合反滲透薄膜。所述的均苯三甲酰氯有機(jī)溶液的濃度控制在0.02g/mL?0.15g/mL。
[0026]下面舉出幾個(gè)具體的實(shí)施例以進(jìn)一步理解本發(fā)明的具體實(shí)施。
[0027]實(shí)施例1:
[0028]步驟1、反滲透薄膜的基底預(yù)處理:用壓平機(jī)將無紡布表面壓平；
[0029]步驟2、制備反滲透薄膜的中間多孔承托層:該聚砜(PSF)多孔承托層制備方法包括以下過程:
[0030]I)將20wt.%PSF固體顆粒和80wt.%N-甲基吡咯烷酮(匪P)溶液混合，50°C加熱，攪拌6h，形成均一透明的PSF/NMP溶液；
[0031]2) PSF/NMP溶液真空除氣，直到?jīng)]有可見氣泡；
[0032]3)用自動(dòng)涂膜機(jī)以恒定的速度和厚度使PSF/NMP溶液在預(yù)處理的無紡布基底上成膜，膜厚控制在50μπι;
[0033]4)立即將涂膜的無紡布浸入在去離子水中使PSF固化成多孔結(jié)構(gòu)薄膜，保持24h，在空氣氛圍中60°C干燥30min待用；
[0034]步驟3、將二硫化鉬(MoS2)納米片超聲分散于濃度為0.5g/mL的間苯二胺(MPD)水溶液中,MoS2含量為0.005wt.% ；
[0035]步驟4、制備超薄致密分離層。該分離層的制備方法包括以下過程:
[0036]I)將涂覆PSF多孔承托層的無紡布在去離子水里浸泡30min;
[0037]2)浸入M0S2/MH)水溶液中保持5min，使MoS2/Mro水溶液充分滲入PSF多孔結(jié)構(gòu)中形成水相；
[0038]3)用橡膠滾筒去除PSF表面多余溶液，使表面沒有可見液滴。用毛巾擦去背面多余溶液；
[0039]4)浸入濃度為0.02g/mL的均苯三甲酰氯(TMC)-正己烷溶液中保持Imin，水相中MPD、MoS2擴(kuò)散到有機(jī)相界面與TMC發(fā)生原位界面聚合反應(yīng)形成聚酰胺分離層。
[0040]5)用正己烷溶液將殘留的TMC單體沖洗干凈，60 °C下干燥30min。
[0041]6)將制備得到的MoS2改性的復(fù)合反滲透薄膜存放在去離子水中保存待用。
[0042]實(shí)施例2:
[0043]步驟1、反滲透薄膜的基底預(yù)處理:用壓平機(jī)將無紡布表面壓平；
[0044]步驟2、制備反滲透薄膜的中間多孔承托層:該聚砜(PSF)多孔承托層制備方法包括以下過程:
[0045]I)將19wt.%PSF固體顆粒和81wt.%N-甲基吡咯烷酮(NMP)溶液混合，55°C加熱攪拌5h，形成均一透明的PSF/NMP溶液；
[0046]2) PSF/NMP溶液真空除氣，直到?jīng)]有可見氣泡；
[0047]3)用自動(dòng)涂膜機(jī)以恒定的速度和厚度使PSF/NMP溶液在預(yù)處理的無紡布基底上成膜，膜厚控制在ΙΟΟμπι;
[0048]4)立即將涂膜的無紡布浸入在去離子水中使PSF固化成多孔結(jié)構(gòu)薄膜，保持24h;
[0049]5)在空氣氛圍中70°C干燥20min待用；
[0050]步驟3、將二氧化鈦(T12)納米片分散于濃度為1.0g/mL間苯二胺(MPD)水溶液中，T12含量為0.0lwt.
[0051]步驟4、超薄致密分離層的制備:該分離層的制備方法包括以下過程:
[0052]I)將涂覆PSF多孔承托層的無紡布在去離子水里浸泡45min;
[0053 ] 2)浸入T i 02/ΜΗ)水溶液中保持7min，使T i 02/ΜΗ)水溶液充分滲入PSF多孔結(jié)構(gòu)中形成水相；
[0054]3)用橡膠滾筒去除PSF表面多余溶液，使表面沒有可見液滴。用毛巾擦去背面多余溶液；
[0055]4)浸入濃度為0.05g/mL的均苯三甲酰氯(TMC)-正己烷溶液中保持Imin，水相中MPD、Ti02擴(kuò)散到有機(jī)相界面與TMC發(fā)生原位界面聚合反應(yīng)形成聚酰胺分離層；
[0056]5)用正己烷溶液將殘留的TMC單體沖洗干凈，70 °C下干燥20min;
[0057]6)將制備得到的T12改性的復(fù)合反滲透薄膜存放在去離子水中保存待用。
[0058]實(shí)施例3:
[0059]步驟1、反滲透薄膜的基底預(yù)處理:用壓平機(jī)將無紡布表面壓平；
[0060]步驟2、制備反滲透薄膜的中間多孔承托層:該聚砜(PSF)多孔承托層制備方法包括
[0061]以下過程:
[0062]I)將18wt.%PSF固體顆粒和82wt.%N-甲基吡咯烷酮(NMP)溶液混合，60°C加熱攪拌4h，形成均一透明PSF/NMP溶液；
[0063]2)PSF/NMP溶液真空除氣，直到?jīng)]有可見氣泡；
[0064]3)用自動(dòng)涂膜機(jī)以恒定的速度和厚度使PSF/NMP溶液在預(yù)處理的無紡布基底上成膜，膜厚控制在150μπι;
[0065]4)立即將涂膜的無紡布浸入在去離子水中使PSF固化成多孔結(jié)構(gòu)薄膜，保持24h;
[0066]5)在空氣氛圍中80°C干燥1min待用。
[0067]步驟3、氨基化石墨烯的制備:該氨基化石墨烯制備方法包括以下過程:
[0068]I)將40mg氧化石墨稀(GO)和5mL去離子水混合，超聲30min;
[0069]2)加入40mL濃度為20%的氨溶液，在高壓釜里200°C保持1h;
[0070]3)用0.lmol/L鹽酸溶液清洗，然后用去離子水和乙醇交替沖洗；
[0071]4)離心后取沉淀物在55°C條件下真空干燥24h;
[0072]步驟4、將氨基化石墨烯分散在濃度為1.5g/mL的間苯二胺(MPD)水溶液中，氨基化石墨稀含量為0.0lwt.% ；
[0073]步驟5、超薄致分離層的制備:該分離層的制備方法包括以下過程:
[0074]I)將涂膜PSF多孔承托層的無紡布在去離子水里浸泡Ih;
[0075]2)浸入MPD和氨基化石墨烯混合溶液中保持lOmin，使混合溶液充分滲入PSF多孔結(jié)構(gòu)中形成水相；
[0076]3)用橡膠滾筒去除PSF表面多余溶液，使表面沒有可見液滴，用毛巾擦去背面多余溶液；
[0077]4)浸入濃度為0.07g/mL的均苯三甲酰氯(TMC)-正己烷混合溶液中保持Imin，水相中MPD、氨基化石墨烯擴(kuò)散到有機(jī)相界面與TMC發(fā)生原位界面聚合反應(yīng)形成聚酰胺分離層；
[0078]5)用正己烷溶液將殘留的TMC單體沖洗干凈，90 °C下干燥I Omin;
[0079]6)將制備得到的氨基化石墨烯改性的復(fù)合反滲透薄膜存放在去離子水中保存待用。
[0080]實(shí)施例4:
[0081 ]步驟1、反滲透薄膜的基底預(yù)處理:用壓平機(jī)將無紡布表面壓平；
[0082]步驟2、制備反滲透薄膜的中間多孔承托層:該聚砜(PSF)多孔承托層制備方法包括以下過程:
[0083]I)將18wt.%PSF固體顆粒和82wt.%N-甲基吡咯烷酮(NMP)溶液混合，50°C加熱
[0084]攪拌6h，形成均一透明PSF/NMP溶液；
[0085 ] 2) PSF/NMP溶液真空除氣，直到?jīng)]有可見氣泡；
[0086]3)用自動(dòng)涂膜機(jī)以恒定的速度和厚度使PSF/NMP溶液在預(yù)處理的無紡布基底上成膜，膜厚控制在50μπι;
[0087]4)立即將涂膜的無紡布浸入在去離子水中使PSF固化成多孔結(jié)構(gòu)薄膜，保持24h;
[0088]5)在空氣氛圍中60Γ干燥20min待用；
[0089]步驟3、羥基化石墨烯的制備:該氨基化石墨烯制備方法包括以下過程:
[0090]I)將15mg石墨和300mg氫氧化鉀(KOH)混合，用球磨機(jī)混合；
[0091]2)將混合物加入25mL去離子水中，離心30min;
[0092]3)將上清液轉(zhuǎn)移到透析袋中，浸泡在去離子水中去除雜質(zhì)離子；
[0093]步驟4、將羥基化石墨烯分散在濃度為2g/mL的間苯二胺(MPD)水溶液中，羥基化石墨烯含量為0.02wt.%;
[0094]步驟5、超薄致密分離層的制備:該分離層的制備方法包括以下過程:
[0095]I)將涂膜PSF多孔承托層的無紡布在去離子水里浸泡30min;
[0096]2)浸入ΜΗ)和羥基化石墨烯混合溶液中保持5min，使混合溶液充分滲入PSF多孔結(jié)構(gòu)中形成水相；
[0097]3)用橡膠滾筒去除PSF表面多余溶液，使表面沒有可見液滴。用毛巾擦去背面多余溶液；
[0098]4)浸入濃度為0.1g/mL的均苯三甲酰氯(TMC)-正己烷混合溶液中保持Imin，水相中MPD、羥基化石墨烯擴(kuò)散到有機(jī)相界面與TMC發(fā)生原位界面聚合反應(yīng)形成聚酰胺分離層；[0099 ] 5)用正己烷溶液將殘留的TMC單體沖洗干凈，70 °C下干燥20min;
[0100]6)將制備得到的羥基化石墨烯改性的復(fù)合反滲透薄膜存放在去離子水中保存待用。
[0101]實(shí)施例5:
[0102]步驟1、反滲透薄膜的基底預(yù)處理:用壓平機(jī)將無紡布表面壓平；
[0103]步驟2、制備反滲透薄膜的中間多孔承托層。該聚砜(PSF)多孔承托層制備方法包括以下過程:
[0104]I)將18wt.%PSF固體顆粒和82wt.%N-甲基吡咯烷酮(NMP)溶液混合，55°C加熱攪拌5h，形成均一透明PSF/NMP溶液；
[0105]2)PSF/NMP溶液真空除氣，直到?jīng)]有可見氣泡；
[0106]3)用自動(dòng)涂膜機(jī)以恒定的速度和厚度使PSF/NMP溶液在預(yù)處理的無紡布基底上成膜，膜厚控制在ΙΟΟμπι;
[0107]4)立即將涂膜的無紡布浸入在去離子水中使PSF固化成多孔結(jié)構(gòu)薄膜，保持24h;
[0108]5)在空氣氛圍中70°C干燥15min待用；
[0109]步驟3、羧基化氧化石墨烯的制備:該氨基化石墨烯制備方法包括以下過程:
[0110]I)將20mL濃度為2mg/mL的氧化石墨烯(G0)溶液和5mL氫溴酸(HBr)混合，攪拌I Oh;
[0111]2)加入Ig草酸后繼續(xù)攪拌5h;
[0112]3)將混合溶液過濾后在60°C條件下真空干燥24h;
[0113]步驟4、將羧基化氧化石墨烯分散在濃度為3g/mL的間苯二胺(MPD)水溶液中，羧基
[0114]化氧化石墨烯含量為0.03wt.%;
[0115]步驟5、超薄致密分離層的制備:該分離層的制備方法包括以下過程:
[0116]I)將涂膜PSF多孔承托層的無紡布在去離子水里浸泡Ih;
[0117]2)浸入MPD和羥基化氧化石墨烯混合溶液中保持I Omin，使混合溶液充分滲入PSF多孔結(jié)構(gòu)中形成水相；
[0118]3)用橡膠滾筒去除PSF表面多余溶液，使表面沒有可見液滴。用毛巾擦去背面多余溶液；
[0119]4)浸入濃度為0.15g/mL的均苯三甲酰氯(TMC)-正己烷混合溶液中保持Imin，水相中MPD、羧基化氧化石墨烯擴(kuò)散到有機(jī)相界面與TMC發(fā)生原位界面聚合反應(yīng)形成聚酰胺分離層；
[0120]5)用正己烷溶液將殘留的TMC單體沖洗干凈，80°C下干燥15min;
[0121]6)將制備得到的羧基化氧化石墨烯改性的復(fù)合反滲透薄膜存放在去離子水中保存。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種復(fù)合反滲透薄膜，含有基底支撐層(I)、中間多孔承托層(2)和超薄致密分離層(3 )，其特征在于:所述的超薄致密分離層是通過原位界面聚合將二維納米材料填加至芳香聚酰胺中構(gòu)成的。2.按照權(quán)利要求1所述的一種復(fù)合反滲透薄膜，其特征在于:所述的二維納米材料采用二硫化鉬、二氧化鈦或官能化的石墨烯。3.按照權(quán)利要求2所述的一種復(fù)合反滲透薄膜，其特征在于:所述的官能化的石墨烯采用氨基化石墨稀、輕基化石墨稀或羧基化氧化石墨稀。4.按照權(quán)利要求1、2或3所述的一種復(fù)合反滲透薄膜，其特征在于:所述超薄致密分離層的厚度為100-200nmo5.按照權(quán)利要求1、2或3所述的一種復(fù)合反滲透薄膜，其特征在于:所述的中間多孔承托層為聚砜類高分子材料。6.按照權(quán)利要求1、2或3所述的一種復(fù)合反滲透薄膜，其特征在于:所述的基底支撐層為水處理專用無紡布材料。7.—種如權(quán)利要求1所述的一種復(fù)合反滲透薄膜的制備方法，其特征在于該方法包括如下步驟: 1)基底支撐層預(yù)處理:用壓平機(jī)將無紡布表面壓平； 2)將聚砜類高分子材料溶于N-甲基吡咯烷酮溶劑中，配制聚砜溶液；用自動(dòng)涂膜機(jī)將聚砜溶液均勻涂覆在無紡布表層，浸入去離子水后固化成膜，膜厚控制在50?200μπι;在60?80°C條件下干燥10?30min，制成涂覆有聚砜材料的無紡布； 3 )將二維納米材料均勻分散于間苯二胺水溶液中，二維納米材料含量控制在0.005wt.% ?0.03wt.% ； 4)將涂覆有聚砜材料的無紡布在去離子水里浸泡30min?lh，之后將其浸入含有二維納米材料的間苯二胺水溶液中保持5?lOmin，取出后去除表面多余溶液;再浸入均苯三甲酰氯有機(jī)溶液中保持30s?2min;在60?90°C條件下干燥1min?30min;即制得二維納米材料改性的復(fù)合反滲透薄膜。8.如權(quán)利要求7所述的一種復(fù)合反滲透薄膜的制備方法，其特征在于:步驟3)中所述的間苯二胺水溶液的濃度控制在0.5g/mL?3g/mL;步驟4)中所述的均苯三甲酰氯有機(jī)溶液的濃度控制在0.02g/mL?0.15g/mL0
【文檔編號(hào)】B01D71/68GK105854626SQ201610282259
【公開日】2016年8月17日
【申請(qǐng)日】2016年4月29日
【發(fā)明人】朱宏偉, 胡蕊蕊, 鄧會(huì), 孫鵬展
【申請(qǐng)人】清華大學(xué)