氣刀干燥裝置和基板干燥系統(tǒng)的制作方法
【專利摘要】本實(shí)用新型涉及顯示【技術(shù)領(lǐng)域】，公開了一種氣刀干燥裝置和基板干燥系統(tǒng)，包括機(jī)架、風(fēng)機(jī)、分別固定在所述機(jī)架上的上氣刀和下氣刀，所述風(fēng)機(jī)為所述上氣刀和下氣刀供氣，所述上氣刀的出氣口和下氣刀的出氣口位置相對(duì)，但二者寬度不同。本實(shí)用新型上氣刀的出氣口和下氣刀的出氣口的寬度不同，形成不對(duì)稱的氣刀結(jié)構(gòu)，吹出的氣流與基板形成面接觸，使得上、下氣刀不易發(fā)生錯(cuò)位現(xiàn)象，即使上下氣刀發(fā)生較小的錯(cuò)位，也不至于形成玻璃起伏而導(dǎo)致破片現(xiàn)象，因此，可以減少因氣刀錯(cuò)位而導(dǎo)致的玻璃破片的問題，同時(shí)，面接觸的氣流還可以減少水汽和顆?；亓鳜F(xiàn)象，可提高產(chǎn)品良率。
【專利說明】氣刀干燥裝置和基板干燥系統(tǒng)
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及顯示【技術(shù)領(lǐng)域】，特別是涉及一種氣刀干燥裝置和基板干燥系統(tǒng)?！颈尘凹夹g(shù)】
[0002]在濕法設(shè)備中，經(jīng)常用到氣刀來對(duì)基板進(jìn)行干燥，這種方法在TFT-1XD (全稱ThinFilm Transistor-Liquid Crystal Display,中文名薄膜晶體管液晶顯示器)、OLED(全稱Organic Light-Emitting Diode,中文名有機(jī)發(fā)光二極管)、PV(全稱 Photovoltaic,中文名光伏太陽能)等領(lǐng)域都有廣泛的應(yīng)用。
[0003]如圖1所示，目前的氣刀干燥裝置一般包括機(jī)架和上、下氣刀，上氣刀2和下氣刀3上下對(duì)稱固定在機(jī)架上，且每個(gè)氣刀只有一個(gè)出氣口，出氣口的寬度一般為0.05mm 一下，工作過程中，氣刀固定不動(dòng)，基板I在滾輪機(jī)構(gòu)4上沿圖中的箭頭方向運(yùn)動(dòng)，該現(xiàn)有的氣刀干燥裝置的干燥效果有限，常常會(huì)發(fā)生水汽和細(xì)微的顆?；亓鲝亩鴮?duì)基板造成二次污染，進(jìn)而導(dǎo)致產(chǎn)品良率下降，設(shè)備到使用后期也經(jīng)常會(huì)遇到上下氣刀錯(cuò)位的現(xiàn)象，如圖2所示，由此會(huì)對(duì)基板I傳送的穩(wěn)定性產(chǎn)生影響，容易導(dǎo)致基板的破損。
實(shí)用新型內(nèi)容
[0004](一 )要解決的技術(shù)問題
[0005]本實(shí)用新型要解決的技術(shù)問題是如何克服基板干燥過程中發(fā)生水汽和顆粒回流的缺陷，以提聞廣品良率。
[0006]( 二 )技術(shù)方案
[0007]為了解決上述技術(shù)問題，本實(shí)用新型提供的一種氣刀干燥裝置，包括機(jī)架、風(fēng)機(jī)、分別固定在所述機(jī)架上的上氣刀和下氣刀，所述風(fēng)機(jī)為所述上氣刀和下氣刀供氣，所述上氣刀的出氣口和下氣刀的出氣口位置相對(duì)，但二者寬度不同。
[0008]進(jìn)一步地，所述上氣刀和下氣刀至少一個(gè)設(shè)有多個(gè)出氣口。
[0009]進(jìn)一步地，多個(gè)所述出氣口分別設(shè)有氣流控制閥。
[0010]進(jìn)一步地，所述上氣刀和下氣刀至少一個(gè)設(shè)有兩個(gè)出氣口。
[0011]進(jìn)一步地，所述上氣刀的出氣口的寬度為0.03-0.1mm。
[0012]進(jìn)一步地，所述下氣刀的出氣口的寬度為0.03-0.1mm。
[0013]本實(shí)用新型還提供一種基板干燥系統(tǒng)，其包括基板傳輸裝置和上述的氣刀干燥裝置，所述氣刀干燥裝置的上氣刀和下氣刀分別位于所述基板傳輸裝置的傳輸面的斜上方和斜下方。
[0014]進(jìn)一步地，所述基板傳輸裝置為滾輪機(jī)構(gòu)。
[0015](三)有益效果
[0016]上述技術(shù)方案所提供的一種氣刀干燥裝置和基板干燥系統(tǒng)，上氣刀的出氣口和下氣刀的出氣口的寬度不同，形成不對(duì)稱的氣刀結(jié)構(gòu)，吹出的氣流與基板形成面接觸，使得上、下氣刀不易發(fā)生錯(cuò)位現(xiàn)象，即使上下氣刀發(fā)生較小的錯(cuò)位，也不至于形成玻璃起伏而導(dǎo)致破片現(xiàn)象，因此，可以減少因氣刀錯(cuò)位而導(dǎo)致的玻璃破片的問題，同時(shí)，面接觸的氣流還可以減少水汽和顆粒回流現(xiàn)象，可提聞廣品良率。進(jìn)一步地，上氣刀和下氣刀至少一個(gè)設(shè)有多個(gè)出氣口，可以為兩個(gè)或兩個(gè)以上，且該多個(gè)出氣口分別設(shè)有氣流控制閥，使得不同的出氣口的氣流流速可調(diào)，由此實(shí)現(xiàn)一個(gè)氣刀即可形成多個(gè)不同壓力的分級(jí)氣簾。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0017]圖1是現(xiàn)有技術(shù)中氣刀裝置的氣刀分布結(jié)構(gòu)示意圖；
[0018]圖2是現(xiàn)有技術(shù)上下氣刀發(fā)生錯(cuò)位時(shí)的示意圖；
[0019]圖3是本實(shí)用新型實(shí)施例一氣刀干燥裝置的氣刀分布結(jié)構(gòu)示意圖；
[0020]圖4是本實(shí)用新型實(shí)施例二氣刀干燥裝置的氣刀分布結(jié)構(gòu)示意圖。
[0021]其中，1、基板；2、上氣刀；21、上氣刀的出氣口 ；3、下氣刀；31、下氣刀的出氣口 ；4、滾輪機(jī)構(gòu)。
【具體實(shí)施方式】
[0022]下面結(jié)合附圖和實(shí)施例，對(duì)本實(shí)用新型的【具體實(shí)施方式】作進(jìn)一步詳細(xì)描述。以下實(shí)施例用于說明本實(shí)用新型，但不用來限制本實(shí)用新型的范圍。
[0023]實(shí)施例一
[0024]如圖3所示，本實(shí)用新型優(yōu)選實(shí)施例的氣刀干燥裝置，其包括機(jī)架、風(fēng)機(jī)、分別固定在機(jī)架上的上氣刀和下氣刀，風(fēng)機(jī)為上氣刀2和下氣刀3供氣，上氣刀的出氣口 21和下氣刀的出氣口 31位置相對(duì)，但二者寬度不同。
[0025]上氣刀的出氣口 21和下氣刀的出氣口 31的寬度不同，具體可以為:上氣刀的出氣口 21的寬度大于下氣刀的出氣口 31的寬度，如:上氣刀的出氣口 21的寬度可為
0.06-0.1mm，下氣刀的出氣口 31的寬度可為0.03-0.05mm ;或者，下氣刀的出氣口 31的寬度大于上氣刀的出氣口 21的寬度，如:上氣刀的出氣口 21的寬度為0.03-0.05mm，下氣刀的出氣口 31的寬度為0.06-0.1mm。
[0026]實(shí)施例二
[0027]本實(shí)施例同樣是基于實(shí)施例一的基礎(chǔ)上所進(jìn)行的改進(jìn)，在上氣刀的出氣口 21和下氣刀的出氣口 31寬度不同的基礎(chǔ)上，如圖4所示，本實(shí)施例的上氣刀2和下氣刀3至少一個(gè)設(shè)有多個(gè)出氣口，可以為兩個(gè)或兩個(gè)以上，且該多個(gè)出氣口分別設(shè)有氣流控制閥，使得不同的出氣口的氣流流速可調(diào)，由此實(shí)現(xiàn)一個(gè)氣刀即可形成多個(gè)不同壓力的分級(jí)氣簾，如果前面的出氣口發(fā)生水汽和顆粒回流現(xiàn)象，則后面的出氣口會(huì)將水汽和顆粒往前吹走，因此可以進(jìn)一步減少回流現(xiàn)象。圖4中以在上氣刀2上設(shè)置兩個(gè)上氣刀的出氣口 21為例。
[0028]本實(shí)用新型還提供一種基板干燥系統(tǒng)，包括基板傳輸裝置和上述的氣刀干燥裝置，氣刀干燥裝置的上氣刀和下氣刀分別位于基板傳輸裝置的傳輸面的斜上方和斜下方。優(yōu)選地，基板傳輸裝置為滾輪機(jī)構(gòu)4，如圖3和圖4所示。
[0029]基板干燥過程中，基板I置于滾輪機(jī)構(gòu)4的滾輪，在滾輪機(jī)構(gòu)4的驅(qū)動(dòng)器驅(qū)動(dòng)下，基板I沿著如箭頭所指的方向運(yùn)動(dòng)，啟動(dòng)風(fēng)機(jī)，上氣刀2和下氣刀3分別通過出氣口對(duì)基板I的上、下表面進(jìn)行吹氣，由于上氣刀的出氣口 21和下氣刀的出氣口 31位置相對(duì)，可確?；錓上下氣流的平衡，且上氣刀的出氣口 21和下氣刀的出氣口 31的寬度不同，形成不對(duì)稱的氣刀結(jié)構(gòu)，吹出的氣流與基板形成面接觸，使得上、下氣刀不易發(fā)生錯(cuò)位現(xiàn)象，即使上下氣刀發(fā)生較小的錯(cuò)位，也不至于形成玻璃起伏而導(dǎo)致破片現(xiàn)象，因此，可以減少因氣刀錯(cuò)位而導(dǎo)致的玻璃破片的問題，同時(shí)，面接觸的氣流還可以減少水汽和顆?；亓鳜F(xiàn)象。
[0030]本實(shí)用新型所提供的氣刀干燥裝置和基板干燥系統(tǒng)，主要具有以下效果:上氣刀的出氣口和下氣刀的出氣口的寬度不同，形成不對(duì)稱的氣刀結(jié)構(gòu)，吹出的氣流與基板形成面接觸，使得上、下氣刀不易發(fā)生錯(cuò)位現(xiàn)象，即使上下氣刀發(fā)生較小的錯(cuò)位，也不至于形成玻璃起伏而導(dǎo)致破片現(xiàn)象，因此，可以減少因氣刀錯(cuò)位而導(dǎo)致的玻璃破片的問題，同時(shí)，面接觸的氣流還可以減少水汽和顆?；亓鳜F(xiàn)象，可提高產(chǎn)品良率；上氣刀和下氣刀至少一個(gè)設(shè)有多個(gè)出氣口，可以為兩個(gè)或兩個(gè)以上，且該多個(gè)出氣口分別設(shè)有氣流控制閥，使得不同的出氣口的氣流流速可調(diào)，由此實(shí)現(xiàn)一個(gè)氣刀即可形成多個(gè)不同壓力的分級(jí)氣簾。
[0031]以上所述僅是本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施方式，應(yīng)當(dāng)指出，對(duì)于本【技術(shù)領(lǐng)域】的普通技術(shù)人員來說，在不脫離本實(shí)用新型技術(shù)原理的前提下，還可以做出若干改進(jìn)和替換，這些改進(jìn)和替換也應(yīng)視為本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。
【權(quán)利要求】
1.一種氣刀干燥裝置，包括機(jī)架、風(fēng)機(jī)、分別固定在所述機(jī)架上的上氣刀和下氣刀，所述風(fēng)機(jī)為所述上氣刀和下氣刀供氣，其特征在于，所述上氣刀的出氣口和下氣刀的出氣口位置相對(duì)，但二者寬度不同。
2.如權(quán)利要求1所述的氣刀干燥裝置，其特征在于，所述上氣刀和下氣刀至少一個(gè)設(shè)有多個(gè)出氣口。
3.如權(quán)利要求2所述的氣刀干燥裝置，其特征在于，多個(gè)所述出氣口分別設(shè)有氣流控制閥。
4.如權(quán)利要求2所述的氣刀干燥裝置，其特征在于，所述上氣刀和下氣刀至少一個(gè)設(shè)有兩個(gè)出氣口。
5.如權(quán)利要求1所述的氣刀干燥裝置，其特征在于，所述上氣刀的出氣口的寬度為0.03-0.1mm。
6.如權(quán)利要求1所述的氣刀干燥裝置，其特征在于，所述下氣刀的出氣口的寬度為0.03-0.1mm。
7.一種基板干燥系統(tǒng)，其特征在于，包括基板傳輸裝置和如權(quán)利要求1-6任一項(xiàng)所述的氣刀干燥裝置，所述氣刀干燥裝置的上氣刀和下氣刀分別位于所述基板傳輸裝置的傳輸面的斜上方和斜下方。
8.如權(quán)利要求7所述的基板干燥系統(tǒng)，其特征在于，所述基板傳輸裝置為滾輪機(jī)構(gòu)。
【文檔編號(hào)】F26B21/00GK203810877SQ201420252917
【公開日】2014年9月3日 申請(qǐng)日期:2014年5月16日 優(yōu)先權(quán)日:2014年5月16日
【發(fā)明者】劉曉偉, 劉耀, 李梁梁, 丁向前, 董志學(xué), 郭總杰 申請(qǐng)人:北京京東方顯示技術(shù)有限公司, 京東方科技集團(tuán)股份有限公司