一種太陽能電池?cái)U(kuò)散燒焦片的返工處理方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及太陽能電池領(lǐng)域，具體地涉及一種太陽能電池?cái)U(kuò)散燒焦片的返工處理方法。
【背景技術(shù)】
[0002]太陽能電池的制備工藝為:前清洗一制絨一擴(kuò)散一等離子刻蝕一后清洗一等離子氣相沉積一絲網(wǎng)印刷一燒結(jié)一檢測(cè)。
[0003]硅片經(jīng)制絨后進(jìn)入擴(kuò)散環(huán)節(jié)。但是由于制絨后，烘干不徹底，或者藥液清洗不干凈造成表面沾污。擴(kuò)散前往往肉眼難以識(shí)別，但是擴(kuò)散后就會(huì)形成黑點(diǎn)或者大片黑斑。不能進(jìn)入下道工序，必須返工。
[0004]常規(guī)的處理方法是硅片重新制絨，但這樣硅片的厚度變薄，硅片的承受力下降，在后續(xù)的工序中容易發(fā)生碎片。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]本發(fā)明的目的在于提供一種太陽能電池?cái)U(kuò)散燒焦片的返工處理方法，以解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的上述問題。
[0006]本發(fā)明提供的技術(shù)方案如下:
[0007]一種太陽能電池?cái)U(kuò)散燒焦片的返工處理方法，包括如下步驟:
[0008]I)用5-10 %體積比HF酸，去磷硅玻璃和臟污；
[0009]2)去離子水清洗，超聲振蕩；
[0010]3)烘干后，通臭氧、水蒸氣和氬氣，溫度90-100 °C，形成厚度為0.3-0.5微米的二氧化硅膜；
[0011]4)用5-10體積比％ HF酸清洗，去除二氧化硅膜，同時(shí)去除PN結(jié)；
[0012]5)去離子水清洗烘干后，重新擴(kuò)散。
[0013]在本發(fā)明的較佳實(shí)施例中，步驟2)中，超聲振蕩的時(shí)間為30-60s，超聲頻率為20-130KHz。優(yōu)選為 50-100KHz。
[0014]在本發(fā)明的較佳實(shí)施例中，步驟3)的臭氧、水蒸氣和氬氣體積比為1-2:1-2:0.5-1 ο
[0015]在本發(fā)明的較佳實(shí)施例中，步驟I)中，HF酸清洗的時(shí)間為10-30min。
[0016]在本發(fā)明的較佳實(shí)施例中，步驟4)中，HF酸清洗的時(shí)間為25-40min。
[0017]本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)如下:首先采用5-10%體積比HF酸，去磷硅玻璃和臟污；再去離子水清洗，超聲振蕩，去除HF ;通臭氧、水蒸氣和氬氣，溫度90-100°C，形成厚度為0.3-0.5微米的二氧化硅膜；再用5-10體積比％ HF酸清洗，去除二氧化硅膜，同時(shí)去除PN結(jié)。因此，按照本發(fā)明方法，無需重新制絨，可以直接進(jìn)行擴(kuò)散?？朔爽F(xiàn)有重新制絨導(dǎo)致的硅片變薄(每次制絨需要去除5um左右)，承受力下降的缺陷。
【具體實(shí)施方式】
[0018]實(shí)施例1
[0019]I)用5%體積比HF酸浸泡，時(shí)間為18min左右，去磷硅玻璃和臟污；
[0020]2)去離子水清洗，超聲振蕩；超聲頻率為30s，超聲頻率為30KHz ;
[0021]3)烘干后，通臭氧、水蒸氣和氬氣，體積比為1:2:1，溫度為100°C，形成厚度為0.3-0.5微米的二氧化硅膜；
[0022]4)用5% HF酸清洗，時(shí)間為25min，去除二氧化硅膜，同時(shí)去除PN結(jié)。
[0023]5)去離子水清洗烘干后，重新擴(kuò)散。
[0024]按照本發(fā)明方法處理，無需重新制絨，可以直接進(jìn)行擴(kuò)散。
[0025]實(shí)施例2
[0026]I)用10%體積比HF酸浸泡，時(shí)間為15min左右，去磷硅玻璃和臟污；
[0027]2)去離子水清洗，超聲振蕩；超聲頻率為45s，超聲頻率為25KHz ;
[0028]3)烘干后，通臭氧、水蒸氣和氬氣，體積比為1:1.5:1，溫度為100°C，形成厚度為0.3-0.5微米的二氧化硅膜；
[0029]4)用10% HF酸清洗，時(shí)間為25min，去除二氧化硅膜，同時(shí)去除了 PN結(jié)。
[0030]5)去離子水清洗烘干后，重新擴(kuò)散。
[0031]按照本發(fā)明方法處理，無需重新制絨，可以直接進(jìn)行擴(kuò)散。
[0032]實(shí)施例3
[0033]I)用5 %體積比HF酸浸泡，時(shí)間為18min左右，去磷硅玻璃和臟污；
[0034]2)去離子水清洗，超聲振蕩；超聲頻率為30s，超聲頻率為30KHz ;
[0035]3)烘干后，通臭氧、水蒸氣和氬氣，體積比為2:1:1，溫度為100°C，形成厚度為0.3-0.5微米的二氧化硅膜；
[0036]4)用5 % HF酸清洗，時(shí)間為25min，去除二氧化硅膜，同時(shí)去除了 PN結(jié)。
[0037]5)去離子水清洗烘干后，重新擴(kuò)散。
[0038]按照本發(fā)明方法處理，無需重新制絨，可以直接進(jìn)行擴(kuò)散。
[0039]實(shí)施例4
[0040]I)用7%體積比HF酸浸泡，時(shí)間為18min左右，去磷硅玻璃和臟污；
[0041]2)去離子水清洗，超聲振蕩；超聲頻率為35s，超聲頻率為30KHz ;
[0042]3)烘干后，通臭氧、水蒸氣和氬氣，體積比為1:1:1，溫度為100°C，形成厚度為
0.3-0.5微米的二氧化硅膜；
[0043]4)用5 % HF酸清洗，時(shí)間為25min，去除二氧化硅膜，同時(shí)去除了 PN結(jié)。
[0044]5)去離子水清洗烘干后，重新擴(kuò)散。
[0045]按照本發(fā)明方法處理，無需重新制絨，可以直接進(jìn)行擴(kuò)散。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種太陽能電池?cái)U(kuò)散燒焦片的返工處理方法，包括如下步驟: 1)用5-10%體積比HF酸，去磷硅玻璃和臟污； 2)去離子水清洗，超聲振蕩；3)烘干后，通臭氧、水蒸氣和氬氣，溫度90-100°C，形成厚度為0.3-0.5微米的二氧化娃膜； 4)用5-10體積比HF酸清洗，去除二氧化硅膜，同時(shí)去除PN結(jié)； 5)去離子水清洗烘干后，重新擴(kuò)散。2.如權(quán)利要求1所述的一種太陽能電池?cái)U(kuò)散燒焦片的返工處理方法，其特征在于: 步驟I)中，HF酸清洗的時(shí)間為10-30min。3.如權(quán)利要求1所述的一種太陽能電池?cái)U(kuò)散燒焦片的返工處理方法，其特征在于: 步驟2)中，超聲振蕩的時(shí)間為30-60s，超聲頻率為20-130KHZ。4.如權(quán)利要求1所述的一種太陽能電池?cái)U(kuò)散燒焦片的返工處理方法，其特征在于:20-22% 步驟3)的臭氧、水蒸氣和氬氣體積比為1-2:1-2:0.5-1 ο5.如權(quán)利要求1所述的一種太陽能電池?cái)U(kuò)散燒焦片的返工處理方法，其特征在于: 步驟4)中，HF酸清洗的時(shí)間為25-40min。
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種太陽能電池?cái)U(kuò)散燒焦片的返工處理方法，1)用5-10％體積比HF酸，去磷硅玻璃和臟污；2)去離子水清洗，超聲振蕩；3)烘干后，通臭氧、水蒸氣和氬氣，溫度90-100℃，形成厚度為0.3-0.5微米的二氧化硅膜；4)用5-10％HF酸清洗，去除二氧化硅膜，同時(shí)去除了PN結(jié)。5)去離子水清洗烘干后，重新擴(kuò)散。本發(fā)明無需重新制絨即可重新擴(kuò)散。
【IPC分類】H01L21/02
【公開號(hào)】CN105470108
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201510626944
【發(fā)明人】許新湖, 柯雨馨, 戴亮亮
【申請(qǐng)人】陽光大地（福建）新能源有限公司
【公開日】2016年4月6日
【申請(qǐng)日】2015年9月28日