管的至少第一載體元件，其中所述至少第一陽(yáng)極元件與所述至少第一載體元件彼此牢固地連接；且其中所述至少第三裝置元件的所述第一陽(yáng)極元件與所述第二裝置元件的所述至少第一襯底固持器之間的距離介于從2mm到15mm的范圍內(nèi)。4.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一權(quán)利要求所述的裝置，其特征在于所述第一裝置元件及/或所述第三裝置元件進(jìn)一步包括具有多個(gè)貫通導(dǎo)管的掩蔽元件，所述掩蔽元件以可拆卸方式連接到所述第一裝置元件及/或所述第三裝置元件的所述至少第一陽(yáng)極元件，且優(yōu)選地也以可拆卸方式連接到所述第一裝置元件及/或所述第三裝置元件的所述至少第一載體元件，其中所述多個(gè)貫通導(dǎo)管在所述掩蔽元件的表面上的分布為均勻或非均勻的。5.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一權(quán)利要求所述的裝置，其特征在于所述第一裝置元件及/或所述第三裝置元件的所述第一載體元件在指向所述至少第一陽(yáng)極元件的前表面上進(jìn)一步包括多個(gè)突出部，其中所述突出部?jī)?yōu)選地以使得所述第一載體元件的所述突出部的表面與所述第一陽(yáng)極元件的表面對(duì)準(zhǔn)的方式裝配到所述第一陽(yáng)極元件的所述貫通導(dǎo)管中；且其中所述第一載體元件的所述貫通導(dǎo)管線性延長(zhǎng)穿過(guò)所述全部突出部。6.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一權(quán)利要求所述的裝置，其特征在于所述裝置進(jìn)一步包括用以沿平行于所述待處理襯底的經(jīng)處理側(cè)的方向產(chǎn)生在一側(cè)上的所述第二裝置元件與在另一側(cè)上的所述第一裝置元件及/或所述第三裝置元件之間的相對(duì)移動(dòng)的構(gòu)件。7.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一權(quán)利要求所述的裝置，其特征在于所述第一裝置元件及/或所述第三裝置元件的所述第一陽(yáng)極元件包括至少兩個(gè)分段，其中每一陽(yáng)極元件分段可被彼此分開地電控制及/或調(diào)節(jié)；及/或其中包括不具有貫通導(dǎo)管的陽(yáng)極分段、優(yōu)選地最外部陽(yáng)極分段及/或在陽(yáng)極分段的內(nèi)側(cè)、優(yōu)選地在所述最外部陽(yáng)極分段的內(nèi)側(cè)的外部區(qū)域及/或圍繞所述第一陽(yáng)極元件的中心的區(qū)域。8.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一權(quán)利要求所述的裝置，其特征在于所述第一裝置元件及/或所述第三裝置元件的所述第一陽(yáng)極元件的所述多個(gè)貫通導(dǎo)管以相對(duì)于所述第一陽(yáng)極元件表面上的垂線具有介于0°與80°之間、優(yōu)選地介于10°與60°之間且更優(yōu)選地介于25。與50°之間或?yàn)?°的角度的直線的形式貫通所述第一陽(yáng)極元件。9.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一權(quán)利要求所述的裝置，其特征在于所述第一裝置元件及/或所述第三裝置元件的所述第一陽(yáng)極元件的所述多個(gè)貫通導(dǎo)管以圍繞所述第一陽(yáng)極元件的所述中心的同心圓的形式布置于所述第一陽(yáng)極元件的所述表面上；及/或所述第一裝置元件及/或所述第三裝置元件的所述第一載體元件的所述多個(gè)貫通導(dǎo)管以圍繞所述第一載體元件的中心的同心圓的形式布置于所述第一載體元件的所述表面上。10.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一權(quán)利要求所述的裝置，其特征在于所述第一裝置元件及/或所述第三裝置元件的所述第一載體元件的所述多個(gè)貫通導(dǎo)管以相對(duì)于所述載體元件表面上的垂線具有介于10°與60°之間、優(yōu)選地介于25°與50°之間的角度的直線的形式貫通所述第一載體元件。11.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一權(quán)利要求所述的裝置，其特征在于在圍繞所述第一載體元件的所述中心的同心圓的內(nèi)側(cè)的所述貫通導(dǎo)管包括不同角度、優(yōu)選地包括所述同心圓的部分，其中每一第二貫通導(dǎo)管包括相對(duì)于所述載體元件表面上的所述垂線相應(yīng)在前貫通導(dǎo)管的對(duì)角，且更優(yōu)選地其中所述同心圓的每一第二貫通導(dǎo)管包括相對(duì)于所述載體元件表面上的所述垂線所述相應(yīng)在前貫通導(dǎo)管的所述對(duì)角；及/或其中在緊密圍繞所述第一載體元件的所述中心布置的第一同心圓的內(nèi)側(cè)的所述貫通導(dǎo)管包括比在至少第二同心圓的內(nèi)側(cè)的所述貫通導(dǎo)管小的角度，所述至少第二同心圓比圍繞所述第一載體元件的所述中心的所述第一同心圓更靠外，優(yōu)選地其中在所述第一裝置元件及/或所述第三裝置元件的所述第一載體元件的所有較靠外貫通導(dǎo)管同心圓的內(nèi)側(cè)的所述貫通導(dǎo)管包括較大角度、特定來(lái)說(shuō)全部相同的較大角度。12.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一權(quán)利要求所述的裝置，其特征在于所述第一裝置元件及/或所述第三裝置元件的所述第一載體元件的所述多個(gè)貫通導(dǎo)管以相對(duì)于所述載體元件表面上的所述垂線具有介于10°與60°之間、優(yōu)選地介于25°與50°之間的角度的直線的形式貫通所述第一載體元件；其中與所述第三裝置元件的所述第一載體元件的所述貫通導(dǎo)管對(duì)立的所述第一裝置元件的所述第一載體元件的所述貫通導(dǎo)管的所述角度為相同或不同的、優(yōu)選地為相同的。13.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一權(quán)利要求所述的裝置，其特征在于兩者均包括以相對(duì)于所述載體元件表面上的所述垂線具有介于10°與60°之間、優(yōu)選地介于25°與50°之間的角度的直線的形式貫通所述第一載體元件的多個(gè)貫通導(dǎo)管的所述第一裝置元件的所述第一載體元件及所述第三裝置元件的所述第一載體元件以以下方式彼此平行地以垂直方式布置:使得所述第一裝置元件的所述第一載體元件的所述多個(gè)貫通導(dǎo)管以與所述第三裝置元件的所述第一載體元件的所述多個(gè)貫通導(dǎo)管相同或不同的方式分布；及/或使得所述第一裝置元件及所述第三裝置元件在所述垂直布置的平行平面的內(nèi)側(cè)彼此抵靠旋轉(zhuǎn)以便設(shè)定所述第一裝置元件的所述第一載體元件的所述貫通導(dǎo)管對(duì)所述第三裝置元件的所述第一載體元件的所述貫通導(dǎo)管的特定定向。14.一種用于使用根據(jù)前述權(quán)利要求中任一權(quán)利要求所述的裝置在襯底上進(jìn)行垂直金屬、優(yōu)選地為銅電流沉積的方法，其特征在于以下方法步驟: i)提供根據(jù)前述權(quán)利要求中任一權(quán)利要求所述的裝置，所述裝置包括彼此平行地以垂直方式布置的至少第一裝置元件及第二裝置元件，其中所述第一裝置元件包括具有多個(gè)貫通導(dǎo)管的至少第一陽(yáng)極元件及具有多個(gè)貫通導(dǎo)管的至少第一載體元件，其中所述至少第一陽(yáng)極元件與所述至少第一載體元件彼此牢固地連接；且其中所述第二裝置元件包括適于接納至少第一待處理襯底的至少第一襯底固持器，其中所述至少第一襯底固持器在接納所述至少第一待處理襯底之后沿著其外框架至少部分地包圍所述至少第一待處理襯底；且其中所述至少第一裝置元件的所述第一陽(yáng)極元件與所述第二裝置元件的所述至少第一襯底固持器之間的距離介于從2mm到15mm的范圍內(nèi)； ?)經(jīng)由所述第一裝置元件的所述第一載體元件的所述貫通導(dǎo)管及所述第一裝置元件的所述第一陽(yáng)極元件的所述后續(xù)貫通導(dǎo)管將處理溶液的體積流傳導(dǎo)到由所述第二裝置元件的所述至少第一襯底固持器接納的所述至少第一待處理襯底的指向所述第一裝置元件的所述第一陽(yáng)極元件的陽(yáng)極表面的側(cè)； iii)沿平行于所述至少第一待處理襯底的所述經(jīng)處理側(cè)的兩個(gè)方向移動(dòng)所述第二裝置元件，其中移動(dòng)所述至少第一待處理襯底所沿的兩個(gè)方向彼此正交，及/或其中以振蕩方式移動(dòng)所述襯底、優(yōu)選地在平行于所述至少第一待處理襯底的所述經(jīng)處理側(cè)的圓形路徑上移動(dòng)。15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的方法，其特征在于 在方法步驟i)中，提供另一第三裝置元件，其中所述第二裝置元件布置于所述第一裝置元件與所述第三裝置元件之間，且其中所述第三裝置元件包括具有多個(gè)貫通導(dǎo)管的至少第一陽(yáng)極元件及具有多個(gè)貫通導(dǎo)管的至少第一載體元件，其中所述至少第一陽(yáng)極元件與所述至少第一載體元件彼此牢固地連接；且其中所述至少第三裝置元件的所述第一陽(yáng)極元件與所述第二裝置元件的所述至少第一襯底固持器之間的距離介于從2_到15_的范圍內(nèi)；且 在方法步驟ii)中，經(jīng)由所述第三裝置元件的所述第一載體元件的所述貫通導(dǎo)管及所述第三裝置元件的所述第一陽(yáng)極元件的所述后續(xù)貫通導(dǎo)管將處理溶液的第二體積流傳導(dǎo)到由所述第二裝置元件的所述至少第一襯底固持器接納的所述至少第一待處理襯底的指向所述第三裝置元件的所述第一陽(yáng)極元件的陽(yáng)極表面的側(cè)；且 在方法步驟iii)中，沿平行于所述至少第一待處理襯底的所述經(jīng)處理側(cè)的兩個(gè)方向在所述第一裝置元件與所述第三裝置元件之間移動(dòng)所述第二裝置元件，其中移動(dòng)所述至少第一待處理襯底所沿的所述兩個(gè)方向彼此正交，及/或其中以振蕩方式移動(dòng)所述襯底、優(yōu)選地在平行于所述至少第一待處理襯底的所述經(jīng)處理側(cè)的圓形路徑上移動(dòng)。
【專利摘要】本發(fā)明涉及一種用于在襯底上進(jìn)行垂直金屬、優(yōu)選地為銅電流沉積的裝置，其中所述裝置包括彼此平行地以垂直方式布置的至少第一裝置元件及第二裝置元件，其中第一裝置元件包括具有多個(gè)貫通導(dǎo)管的至少第一陽(yáng)極元件及具有多個(gè)貫通導(dǎo)管的至少第一載體元件，其中所述至少第一陽(yáng)極元件與所述至少第一載體元件彼此牢固地連接；且其中第二裝置元件包括適于接納至少第一待處理襯底的至少第一襯底固持器，其中所述至少第一襯底固持器在接納所述至少第一待處理襯底之后沿著其外框架至少部分地包圍所述至少第一待處理襯底；且其中至少第一裝置元件的第一陽(yáng)極元件與第二裝置元件的至少第一襯底固持器之間的距離介于從2mm到15mm的范圍內(nèi)。此外，本發(fā)明一般來(lái)說(shuō)針對(duì)于一種用于使用此裝置在襯底上進(jìn)行垂直金屬電流沉積的方法。
【IPC分類】C25D17/12, C25D17/08, C25D17/00
【公開號(hào)】CN104937147
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201380062928
【發(fā)明人】瑞·溫霍爾德, 費(fèi)迪南多·溫諾
【申請(qǐng)人】德國(guó)艾托特克公司
【公開日】2015年9月23日
【申請(qǐng)日】2013年12月3日
【公告號(hào)】EP2746432A1, EP2935660A1, WO2014095356A1