本發(fā)明涉及液晶顯示器技術(shù)領(lǐng)域，特別是涉及一種化學(xué)氣相沉積裝置。

背景技術(shù)：

等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積法(PE CVD)是借助微波或射頻等使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學(xué)活性很強(qiáng)，很容易發(fā)生反應(yīng)，從而在基板上沉積出薄膜。

為了使化學(xué)反應(yīng)能在較低的溫度下進(jìn)行，利用了等離子體的活性來(lái)促進(jìn)反應(yīng)。反應(yīng)氣體導(dǎo)入反應(yīng)器中，在熱能、電能或光能的作用下發(fā)生解離而變成活性極強(qiáng)的離子或離子團(tuán)；離子或離子團(tuán)通過(guò)擴(kuò)散方式到達(dá)固體基板表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成固態(tài)產(chǎn)物并沉積在基板表面；在成膜過(guò)程中，成膜腔室會(huì)產(chǎn)生等離子體來(lái)進(jìn)行輔助成膜，為了使得膜厚均勻，擴(kuò)散器和載臺(tái)必須有相同的間距。

由于機(jī)臺(tái)在高溫狀態(tài)下運(yùn)行，擴(kuò)散器會(huì)隨著運(yùn)行時(shí)間的增長(zhǎng)，容易產(chǎn)生形變，該形變主要集中在擴(kuò)散器的中央位置，導(dǎo)致擴(kuò)散器和載臺(tái)之間的間距不一致。

但是隨著機(jī)臺(tái)運(yùn)行時(shí)間的增長(zhǎng)，擴(kuò)散器依舊會(huì)發(fā)生形變，所以當(dāng)擴(kuò)散器發(fā)生形變時(shí)，需要調(diào)節(jié)擴(kuò)散器與載臺(tái)之間各個(gè)點(diǎn)的間距使其保持一致?，F(xiàn)有的調(diào)節(jié)方法是先將機(jī)臺(tái)降至室溫，然后在擴(kuò)散器與載臺(tái)之間的多個(gè)監(jiān)測(cè)區(qū)域設(shè)置測(cè)試間距的工具，通過(guò)調(diào)節(jié)使間距一致，然而每次調(diào)整需要降溫，延長(zhǎng)了生產(chǎn)周期，導(dǎo)致生產(chǎn)效率較低。

因此，有必要提供一種化學(xué)氣相沉積裝置，以解決現(xiàn)有技術(shù)所存在的問題。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的在于提供一種化學(xué)氣相沉積裝置，以解決現(xiàn)有的化學(xué)氣相沉積裝置的生產(chǎn)效率較低的技術(shù)問題。

為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明提供了一種化學(xué)氣相沉積裝置，其包括：

擴(kuò)散器，用于擴(kuò)散待沉積氣體，以形成薄膜；

載臺(tái)，用于放置待沉積基板，所述載臺(tái)與所述擴(kuò)散器相對(duì)設(shè)置；在所述擴(kuò)散器和所述載臺(tái)之間設(shè)置有至少一組光距離檢測(cè)組件，所述光距離檢測(cè)組件用于測(cè)量所述擴(kuò)散器和所述載臺(tái)之間的間距。

在本發(fā)明的化學(xué)氣相沉積裝置中，所述光距離檢測(cè)組件包括光接收器和光發(fā)射器，所述光接收器的位置與所述光發(fā)射器的位置相對(duì)應(yīng)。

在本發(fā)明的化學(xué)氣相沉積裝置中，所述光發(fā)射器位于所述擴(kuò)散器的內(nèi)表面；所述光接收器位于所述載臺(tái)的內(nèi)表面。

在本發(fā)明的化學(xué)氣相沉積裝置中，在所述擴(kuò)散器上設(shè)置有第一凹槽，所述光發(fā)射器位于所述第一凹槽中。

在本發(fā)明的化學(xué)氣相沉積裝置中，所述光發(fā)射器的頂部與所述擴(kuò)散器的內(nèi)表面位于同一平面內(nèi)。

在本發(fā)明的化學(xué)氣相沉積裝置中，在所述載臺(tái)上設(shè)置有第二凹槽，所述光接收器位于所述第二凹槽中。

在本發(fā)明的化學(xué)氣相沉積裝置中，所述光接收器的頂部與所述載臺(tái)的內(nèi)表面位于同一平面內(nèi)。

在本發(fā)明的化學(xué)氣相沉積裝置中，所述擴(kuò)散器的內(nèi)表面上還設(shè)置有第一保護(hù)罩，所述第一保護(hù)罩包裹在所述光發(fā)射器外；

所述載臺(tái)的內(nèi)表面上還設(shè)置有第二保護(hù)罩，所述第二保護(hù)罩包裹在所述光接收器外。

在本發(fā)明的化學(xué)氣相沉積裝置中，所述第一保護(hù)罩的材料和所述第二保護(hù)罩的材料都為耐高溫可透光材料。

在本發(fā)明的化學(xué)氣相沉積裝置中，所述第一保護(hù)罩的頂部與所述擴(kuò)散器的內(nèi)表面位于同一平面內(nèi)。

本發(fā)明的化學(xué)氣相沉積裝置，通過(guò)在擴(kuò)散器和載臺(tái)之間設(shè)置光距離檢測(cè)組件，該光距離檢測(cè)組件用于檢測(cè)擴(kuò)散器和所述載臺(tái)之間的間距，由于光距離檢測(cè)組件可以自動(dòng)檢測(cè)距離，因此不需要在檢測(cè)過(guò)程中進(jìn)行降溫處理，提高了生產(chǎn)效率。

【附圖說(shuō)明】

圖1為本發(fā)明一優(yōu)選實(shí)施例的化學(xué)氣相沉積裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖2為化學(xué)氣相沉積裝置中擴(kuò)散器的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖3為化學(xué)氣相沉積裝置中載臺(tái)的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖4為化學(xué)氣相沉積裝置中載臺(tái)的俯視圖。

圖5為本發(fā)明另一優(yōu)選實(shí)施例的化學(xué)氣相沉積裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。

【具體實(shí)施方式】

以下各實(shí)施例的說(shuō)明是參考附加的圖式，用以例示本發(fā)明可用以實(shí)施的特定實(shí)施例。本發(fā)明所提到的方向用語(yǔ)，例如「上」、「下」、「前」、「后」、「左」、「右」、「內(nèi)」、「外」、「?jìng)?cè)面」等，僅是參考附加圖式的方向。因此，使用的方向用語(yǔ)是用以說(shuō)明及理解本發(fā)明，而非用以限制本發(fā)明。在圖中，結(jié)構(gòu)相似的單元是以相同標(biāo)號(hào)表示。

請(qǐng)參照?qǐng)D1，圖1為本發(fā)明一優(yōu)選實(shí)施例的化學(xué)氣相沉積裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。

如圖1所示，本發(fā)明的化學(xué)氣相沉積裝置100包括載臺(tái)11和擴(kuò)散器12。該載臺(tái)11與該擴(kuò)散器12相對(duì)設(shè)置；該載臺(tái)11用于放置待沉積基板。該載臺(tái)11又稱下極板，比如該載臺(tái)11連接陰極。

該擴(kuò)散器12用于擴(kuò)散待沉積氣體，該待沉積氣體用于沉積在基板形成薄膜。該擴(kuò)散器12又稱上極板，比如該擴(kuò)散器12連接陽(yáng)極。

在該擴(kuò)散器12和該載臺(tái)11之間設(shè)置有三組光距離檢測(cè)組件13。該光距離檢測(cè)組件13用于測(cè)量該擴(kuò)散器12和該載臺(tái)11之間的間距?？梢岳斫獾模M管圖1中裝置的光距離檢測(cè)組件13為三組，但是并不能對(duì)本發(fā)明構(gòu)成限定，該裝置100可以設(shè)置一組、兩組或者三組以上的光距離檢測(cè)組件13。當(dāng)該裝置100包括一組光距離檢測(cè)組件13時(shí)，該光距離檢測(cè)組件13可以設(shè)置在擴(kuò)散器12的中間位置處。

在一實(shí)施例中，該光距離檢測(cè)組件13包括光發(fā)射器131和光接收器132，該光接收器132的位置與該光發(fā)射器131的位置相對(duì)應(yīng)。其中該光距離檢測(cè)組件13可以為耐高溫組件。在一實(shí)施例中，該光接收器132為紅外接收器，該發(fā)射器131為紅外發(fā)射器。

該光發(fā)射器131位于該擴(kuò)散器12的內(nèi)表面，該擴(kuò)散器12的內(nèi)表面靠近該載臺(tái)11側(cè)；該光接收器132位于該載臺(tái)11的內(nèi)表面，該載臺(tái)11的內(nèi)表面靠近該擴(kuò)散器12側(cè)。該光發(fā)射器131和光接收器132為耐高溫的器件。

優(yōu)選地，結(jié)合圖2，可以該擴(kuò)散器12上設(shè)置有第一凹槽121，該光發(fā)射器131位于該第一凹槽121中。該第一凹槽121的形狀與該光發(fā)射器131的形狀相匹配。且該第一凹槽121的尺寸略大于該光發(fā)射器131的尺寸。從而便于待沉積氣體的擴(kuò)散，進(jìn)而使得在基板上沉積的薄膜更加均勻。在一實(shí)施方式中，該光發(fā)射器131的底部粘結(jié)在第一凹槽121內(nèi)。

在一實(shí)施方式中，該光發(fā)射器131的頂部21與該擴(kuò)散器12的內(nèi)表面位于同一平面內(nèi)。也即擴(kuò)散器12的內(nèi)表面為平整表面，從而使得擴(kuò)散器12擴(kuò)散的沉積氣體更加均勻，進(jìn)而使得最后沉積的薄膜更加均勻。

可以理解的，優(yōu)選地，結(jié)合圖3，為了使得薄膜更加均勻，在該載臺(tái)11上設(shè)置有第二凹槽111，該光接收器132位于該第二凹槽111中。該第二凹槽111的形狀與該光接收器132的形狀相匹配。且該第二凹槽111的尺寸略大于該光接收器132的尺寸。在一實(shí)施方式中，該光接收器132的底部粘結(jié)在第二凹槽111內(nèi)。

在一實(shí)施方式中，該光接收器132的頂部22與該載臺(tái)11的內(nèi)表面位于同一平面內(nèi)。也即載臺(tái)11的內(nèi)表面為平整表面，從而使得基板的厚度一致，進(jìn)而使得最后沉積的薄膜更加均勻。

如圖4所示，比如在載臺(tái)11的四個(gè)角以及載臺(tái)11的中間位置設(shè)置該光接收器132?？梢岳斫獾模热缭跀U(kuò)散器12的四個(gè)角以及擴(kuò)散器12的中間位置設(shè)置該光發(fā)射器131。

在一實(shí)施方式中，由于不同沉積薄膜對(duì)溫度的要求不同，為了使光距離檢測(cè)組件的適用范圍更廣，也即不用頻繁地更換光距離檢測(cè)組件。如圖5所示，此時(shí)在該擴(kuò)散器12的內(nèi)表面上還設(shè)置有第一保護(hù)罩31，該第一保護(hù)罩31包裹在該光發(fā)射器131外；該載臺(tái)11的內(nèi)表面上還設(shè)置有第二保護(hù)罩32，該第二保護(hù)罩32包裹在該光接收器132外。該第一保護(hù)罩31的尺寸可以略大于該光發(fā)射器131的尺寸，該第二保護(hù)罩32的尺寸可以略大于該光接收器132的尺寸。

其中該第一保護(hù)罩31可以防止光發(fā)射器131被高溫?fù)p壞。此外，還可以在工作過(guò)程中對(duì)擴(kuò)散器和載臺(tái)的間距進(jìn)行檢測(cè)。該第二保護(hù)罩32可以防止光接收器132被高溫?fù)p壞。其中，該第一保護(hù)罩31的材料和該第二保護(hù)罩32的材料都為耐高溫可透光材料。

在一實(shí)施方式中，該第一保護(hù)罩31的材料和該第二保護(hù)罩32的材料為耐高溫的玻璃。由于光距離檢測(cè)組件13耐高溫的性能越強(qiáng)成本越高，因此采用耐高溫的性能較低的光距離檢測(cè)組件可以降低生產(chǎn)成本。

在一實(shí)施方式中，該第一保護(hù)罩31的頂部311與該擴(kuò)散器12的內(nèi)表面位于同一平面內(nèi)。也即擴(kuò)散器12的內(nèi)表面為平整表面，從而使得擴(kuò)散器12擴(kuò)散的沉積氣體更加均勻，進(jìn)而使得最后沉積的薄膜更加均勻。

該第二保護(hù)罩32的頂部321與該載臺(tái)11的內(nèi)表面位于同一平面內(nèi)。也即載臺(tái)11的內(nèi)表面為平整表面，從而使得基板的厚度一致，進(jìn)而使得最后沉積的薄膜更加均勻。

可以理解的，盡管圖1至圖5中該光發(fā)射器131位于該擴(kuò)散器12的內(nèi)表面，該光接收器132位于載臺(tái)11的內(nèi)表面，但是并不能對(duì)本發(fā)明構(gòu)成限定。該光接收器132也可位于該擴(kuò)散器12的內(nèi)表面；該光發(fā)射器131位于該載臺(tái)11的內(nèi)表面。

如圖1或5所示，該裝置100還包括固定板14和第一調(diào)節(jié)組件15，該固定板14與該擴(kuò)散器12相對(duì)設(shè)置，且固定板14與擴(kuò)散器12之間相互間隔。具體地，該固定板14位于該擴(kuò)散器12的上方，而載臺(tái)11位于擴(kuò)散器12的下方。

該第一調(diào)節(jié)組件15位于該固定板14的內(nèi)表面(也即靠近擴(kuò)散器12側(cè)的表面)和該擴(kuò)散器12的外表面(也即靠近固定板14側(cè)的表面)之間。該第一調(diào)節(jié)組件15可以將擴(kuò)散器12固定在固定板14上，以防止擴(kuò)散器12發(fā)生形變。此外，該第一調(diào)節(jié)組件15還可以用來(lái)調(diào)整該擴(kuò)散器12與該固定板14之間的間距，從而使得載臺(tái)11與擴(kuò)散器12之間的間距保持一致。

該裝置100還包括第二調(diào)節(jié)組件16，該第二調(diào)節(jié)組件16的一端固定在該固定板14的外表面(也即遠(yuǎn)離擴(kuò)散器側(cè)的表面)上。該第二調(diào)節(jié)組件16用于調(diào)節(jié)擴(kuò)散器14和載臺(tái)12之間的間距。其中該第二調(diào)節(jié)組件16用于小幅度地調(diào)節(jié)擴(kuò)散器14和載臺(tái)12之間的間距，而該第一調(diào)節(jié)組件15用于大幅度地調(diào)整該擴(kuò)散器12與該固定板14之間的間距。

上述裝置100具體使用過(guò)程如下：

在上述裝置100復(fù)位后，通過(guò)紅外發(fā)射器和接收器獲得各個(gè)預(yù)設(shè)檢測(cè)區(qū)域中擴(kuò)散器12與該載臺(tái)11之間的間距，將此間距作為標(biāo)準(zhǔn)值。

當(dāng)高溫和重力使擴(kuò)散器12發(fā)生形變時(shí)，此時(shí)通過(guò)紅外發(fā)射器和紅外接收器測(cè)量個(gè)預(yù)設(shè)檢測(cè)區(qū)域的距離值，將該距離值與標(biāo)準(zhǔn)值進(jìn)行比較。

若該距離值與標(biāo)準(zhǔn)值不相等，則通過(guò)調(diào)節(jié)第一調(diào)節(jié)組件15，使恢復(fù)擴(kuò)散器12與該固定板14之間的間距恢復(fù)至標(biāo)準(zhǔn)值。比如，擴(kuò)散器12向下發(fā)生形變，則調(diào)節(jié)第一調(diào)節(jié)組件15將擴(kuò)散器12向上調(diào)節(jié)一定的幅度，該幅度等于距離值與標(biāo)準(zhǔn)值之間的差值，從而使得擴(kuò)散器12與該固定板14之間的間距一致，進(jìn)而使薄膜更加均勻。

本發(fā)明的化學(xué)氣相沉積裝置，通過(guò)在擴(kuò)散器和載臺(tái)之間設(shè)置光距離檢測(cè)組件，該光距離檢測(cè)組件用于檢測(cè)擴(kuò)散器和該載臺(tái)之間的間距，由于光距離檢測(cè)組件可以自動(dòng)檢測(cè)距離，因此不需要在檢測(cè)過(guò)程中進(jìn)行降溫處理，提高了生產(chǎn)效率。

綜上該，雖然本發(fā)明已以優(yōu)選實(shí)施例揭露如上，但上述優(yōu)選實(shí)施例并非用以限制本發(fā)明，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員，在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi)，均可作各種更動(dòng)與潤(rùn)飾，因此本發(fā)明的保護(hù)范圍以權(quán)利要求界定的范圍為準(zhǔn)。