專利名稱：磁頭、帶狀磁記錄介質(zhì)的記錄/重放方法和旋轉(zhuǎn)磁頭機構(gòu)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及磁頭、用于帶狀磁記錄介質(zhì)的記錄/重放方法、和旋轉(zhuǎn)磁頭機構(gòu)。
背景技術(shù)：
作為將信號記錄到帶狀磁記錄介質(zhì)上和/或從帶狀磁記錄介質(zhì)上重放信號的設(shè)備，旋轉(zhuǎn)磁鼓型盒式錄像機設(shè)備得到廣泛應(yīng)用，其中為了通過安裝在旋轉(zhuǎn)磁鼓上的磁頭在帶狀磁記錄介質(zhì)上記錄，磁道以傾斜的角度形成，并且還通過跟蹤這種傾斜的磁道進行重放。尤其是，近年來，數(shù)字標準的旋轉(zhuǎn)磁鼓型盒式錄像機設(shè)備已逐漸得到廣泛應(yīng)用。
作為帶狀磁記錄介質(zhì)的實例，涂粉磁帶是可利用的。它的結(jié)構(gòu)是這樣的，通過作為粘合劑的膠，在塑料襯底上涂上針狀或細微粉末狀磁粒形成磁層或磁表面。對于磁表面，當進行高密記錄時，它的矯頑力Hc和它的剩磁通量密度Br往往會增加。例如，在DV標準的MP磁帶的情況中，矯頑力Hc達到2300奧斯特(oersted)，和剩磁通量密度Br達到3000高斯(guss)。
另一方面，在涂粉金屬帶的情況中，磁粒單質(zhì)的尺寸被微粉化成0.1×0.1μm的量級。此外，由于小型帶盒和長時間記錄和重放的要求，帶厚與傳統(tǒng)編輯機中采用的大約10至16μm的帶厚相比變得更薄。在用于DV標準的數(shù)字視頻信號的帶狀磁記錄介質(zhì)的情況中，帶厚度為7至8μm。
按這種方式用于記錄和/或重放具有這樣特性的磁帶的設(shè)備在與控制與磁帶的物理接觸有關(guān)的流體動力相互(hydrodynamic interference)作用和與記錄和重放有關(guān)的磁相互作用(hydrodynamic interference)兩方面都需要加以精心設(shè)計。
作為這樣磁帶記錄/重放設(shè)備的實例，的同時旋轉(zhuǎn)在磁帶介質(zhì)上進行記錄和/或從磁帶介質(zhì)進行重放的傳統(tǒng)旋轉(zhuǎn)磁鼓型磁頭采用了根據(jù)磁感應(yīng)原理的磁頭。這種磁頭通過在中間保持窄磁頭縫隙，形成彼此相對的一對磁極，并將磁帶介質(zhì)的磁表面布置得與最接近位置的這個磁頭縫隙正交。在記錄過程中，當驅(qū)動該對磁極生成的磁力線從一個磁極，穿過磁頭縫隙和磁表面到達另一個磁極時，構(gòu)成磁表面的磁性物質(zhì)被磁化，從而進行記錄，而在重放過程中，從構(gòu)成磁帶介質(zhì)的磁表面的磁性物質(zhì)生成的漏磁通通過磁頭縫隙被該對磁頭縫隙捕獲，并檢測移動的同時介質(zhì)擺動(flucuate)時電磁感應(yīng)生成的電動勢，從而進行重放。
為了提高記錄密度和改善S/N比，需要磁帶介質(zhì)與磁頭縫隙附著在一起，并且，在保持附著在一起的同時，還需要維持磁帶的穩(wěn)定移動。
在傳統(tǒng)的結(jié)構(gòu)中，為了實現(xiàn)上述附著狀態(tài)，把磁帶介質(zhì)對著磁頭縫隙加壓來獲得接觸壓力，尤其是，旋轉(zhuǎn)磁鼓型磁頭以這樣的方式構(gòu)成，使得上述接觸壓力，即所謂的“接觸”，通過施加給磁帶介質(zhì)的張力獲得。圖10是解釋這樣傳統(tǒng)旋轉(zhuǎn)磁鼓型磁頭的結(jié)構(gòu)的示意圖。圖11是從圖10所示的箭頭A方向看過去的視圖，和圖12是從圖10所示的箭頭B方向看過去的視圖。
正如每個圖所示的，旋轉(zhuǎn)磁鼓型磁頭100在凹進去以便使圓柱形旋轉(zhuǎn)磁鼓101的一部分圓柱表面露出來的磁頭窗口102中配置了含有磁頭縫隙103的磁頭104，并沿著旋轉(zhuǎn)方向106以預定速度旋轉(zhuǎn)。借助于這種旋轉(zhuǎn)，磁頭104也以同一速度移動。在沿著旋轉(zhuǎn)磁鼓101的磁帶介質(zhì)105上，施加張力107，并且，在這個張力107的拉動下，磁帶介質(zhì)被壓向磁頭縫隙103上，以比磁頭104的速度慢的速度沿著同一方向前進。此外，在這個旋轉(zhuǎn)磁鼓101的底部，還配置了相隔短距離的圓柱形固定磁鼓111。
這里，為了改善磁頭縫隙103與磁帶介質(zhì)105之間的接觸狀態(tài)，構(gòu)成與存在于磁頭縫隙103附近的磁帶介質(zhì)105接觸的表面108，沿著記錄磁道方向，即，沿著磁帶行進方向被構(gòu)造成凸曲率109的彎曲表面，并且，沿著磁道寬向也被構(gòu)造成凸曲率110的彎曲表面，此外，表面108被構(gòu)造成與磁頭縫隙103一起從旋轉(zhuǎn)磁鼓101的圓柱形表面伸出來。
當磁帶介質(zhì)105通過歸因于張力107的壓力，與由此構(gòu)成的磁頭104接觸時，磁帶介質(zhì)105沿著磁頭104的表面108變形成凸面形狀，從而改善接觸狀態(tài)。此外，磁頭104不與磁帶介質(zhì)105接觸的部分由于受到磁頭窗口102、旋轉(zhuǎn)磁鼓101和固定磁鼓111之間間隙的影響，有時也發(fā)生變形。
如上所述，按傳統(tǒng)方法構(gòu)成的旋轉(zhuǎn)磁鼓型磁頭100對磁帶介質(zhì)105施加了足夠的張力107，通過這種張力107，磁帶介質(zhì)105被強制地壓在凸磁頭104上，從而改善接觸狀態(tài)，并且，通過利用磁頭104和磁帶介質(zhì)105之間實現(xiàn)磁相互作用，進行磁記錄或重放。
但是，如上所述將磁帶介質(zhì)105強制地壓在凸磁頭104上的后果是，引起了使磁頭縫隙103受到磨損，從而縮短磁頭縫隙壽命的問題。還引起了由于非可逆變形，使磁帶介質(zhì)105的磁表面也受到磨損，從而縮短磁帶壽命等其它問題。
因此，為了延長磁頭的壽命，在傳統(tǒng)結(jié)構(gòu)中，將磁頭縫隙103的深度，即縫隙設(shè)計得足夠深，從而在那里留有余量。例如，根據(jù)這種結(jié)構(gòu)，在初始階段，把縫隙設(shè)置為20至30μm，從而延長由于磨損使縫隙深度降低至極限值的時間，從而延長了磁頭的壽命。
但是，把初始縫隙深度設(shè)置得很深這種結(jié)構(gòu)存在著靈敏度的提高受到限制、控制高密記錄、和高密重放受到限制等諸多問題。此外，對解決磁帶壽命縮短問題沒有任何作用。
并且，也不能實現(xiàn)通過利用磁阻效應(yīng)，借助于非常淺的縫隙，檢測含有磁場隨記錄介質(zhì)不同而不同的結(jié)構(gòu)的、磁阻效應(yīng)型(或磁通響應(yīng)型)的MR頭和GMR頭的裝置，這種MR頭和GMR頭主要應(yīng)用在硬磁盤驅(qū)動器(HDD)中，也可以取代根據(jù)上述磁感應(yīng)原理的磁頭，應(yīng)用在帶狀磁記錄介質(zhì)中。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是為了解決上述傳統(tǒng)技術(shù)中存在的問題而提出的，因此，本發(fā)明的目的是提供一種磁頭、用于帶狀磁記錄介質(zhì)的記錄/重放方法、和旋轉(zhuǎn)磁頭機構(gòu)，它們能夠在降低接觸壓力的同時，通過維持磁頭與帶狀介質(zhì)之間的極好接觸狀態(tài)，從而減少磨損，延長磁頭壽命和磁帶壽命，并且可以應(yīng)用于磁阻效應(yīng)型磁頭的帶狀介質(zhì)。
為了解決傳統(tǒng)技術(shù)的問題，根據(jù)本發(fā)明權(quán)利要求1的磁頭是安裝在能夠使帶狀磁記錄介質(zhì)在其上行進的旋轉(zhuǎn)磁鼓上，并隨著旋轉(zhuǎn)磁鼓的旋轉(zhuǎn)而移動以便在帶狀磁記錄介質(zhì)上記錄、或從帶狀磁記錄介質(zhì)重放的磁頭。所述磁頭包括面向帶狀磁記錄介質(zhì)、并通過上面旋轉(zhuǎn)移動的同時產(chǎn)生與帶狀磁記錄介質(zhì)的流體動力相互作用的表面；和通過接觸帶狀磁記錄介質(zhì)產(chǎn)生磁相互作用的記錄/重放部分，其中所述表面是光滑平表面，和所述記錄/重放部分位于帶狀磁記錄介質(zhì)與受到流體動力相互作用的表面相接觸的區(qū)域中，并且，配置這樣的記錄/重放部分，從而通過與帶狀磁記錄介質(zhì)接觸產(chǎn)生的磁相互作用，進行記錄或重放中的至少一種。
根據(jù)上述的結(jié)構(gòu)，所述表面是光滑平表面，因此，根據(jù)伯努利(Bernoulli)定律，在導致光滑平表面與相接近的帶狀磁記錄介質(zhì)之間的壓力降低，結(jié)果是，帶狀磁記錄介質(zhì)逐漸接近和接觸該表面。按這種方式，只利用壓力降低效應(yīng)，而無需施加強制力，就可以保證與記錄/重放部分的接觸壓力，從而使摩擦力得到控制和進行記錄或重放。
根據(jù)本發(fā)明權(quán)利要求2的磁頭安裝在能夠使帶狀磁記錄介質(zhì)在其上行進的旋轉(zhuǎn)磁鼓上，并隨著旋轉(zhuǎn)磁鼓的旋轉(zhuǎn)而移動以便在帶狀磁記錄介質(zhì)上進行記錄、或從帶狀磁記錄介質(zhì)上進行重放。所述磁頭包括面向帶狀磁記錄介質(zhì)、并當旋轉(zhuǎn)時通過上述移動產(chǎn)生與帶狀磁記錄介質(zhì)的流體動力相互作用的表面；和在非接觸狀態(tài)下產(chǎn)生與帶狀磁記錄介質(zhì)的磁相互作用的記錄/重放部分。所述表面是光滑平表面，和所述記錄/重放部分位于帶狀磁記錄介質(zhì)與受到流體動力相互作用的表面相接觸的區(qū)域之外，并且，配置這樣的記錄/重放部分以便在非接觸狀態(tài)下，通過與帶狀磁記錄介質(zhì)的磁相互作用，進行記錄或重放中的至少一種。
根據(jù)上述的結(jié)構(gòu)，所述表面是光滑平表面，因此，根據(jù)伯努利定律，導致光滑平表面與相接近的帶狀磁記錄介質(zhì)之間的壓力降低，結(jié)果是，帶狀磁記錄介質(zhì)逐漸接近和接觸該表面。在穩(wěn)定狀態(tài)下，接觸點的位置是穩(wěn)定的，到緊臨接觸位置之前的部分中的帶狀磁記錄介質(zhì)的距離是穩(wěn)定值，并維持穩(wěn)定的非接觸狀態(tài)。按這種方式當非接觸型的記錄/重放部分，例如，磁阻檢測系統(tǒng)的重放磁頭單元被安排在這個位置上時，即使在旋轉(zhuǎn)磁記錄的情況下，也可以在非接觸狀態(tài)下記錄到帶狀磁記錄介質(zhì)上和/或從帶狀磁記錄介質(zhì)上重放。
根據(jù)本發(fā)明權(quán)利要求3的磁頭是根據(jù)權(quán)利要求1或權(quán)利要求2的磁頭，其中，面向帶狀磁記錄介質(zhì)的表面具有其曲率比旋轉(zhuǎn)磁鼓的曲率更平緩的光滑彎曲表面，因此，壓力降低效應(yīng)取決于表面的形狀或光滑度，并且，當平緩度相同時，對曲率平緩又光滑的表面的壓力降低效應(yīng)更明顯。這樣就能夠進行通過壓力降低效應(yīng)，進行使帶狀磁記錄介質(zhì)與磁頭相接觸，而無需使其與旋轉(zhuǎn)磁鼓相接觸的操作，或者，通過強得多的壓力降低效應(yīng)生成的所需接觸壓力，進行使帶狀磁記錄介質(zhì)與磁頭相接觸的同時，利用較弱的接觸壓力使其與旋轉(zhuǎn)磁鼓相接觸的操作。
根據(jù)本發(fā)明權(quán)利要求4的、用于帶狀磁記錄介質(zhì)的記錄和重放方法的特征在于，在具有圓柱形表面的旋轉(zhuǎn)磁鼓的表面上形成了光滑平表面或其曲率比上述旋轉(zhuǎn)磁鼓的曲率平緩的光滑彎曲表面，并且，在上述光滑平表面或上述光滑彎曲表面上提供了產(chǎn)生與帶狀磁記錄介質(zhì)的磁相互作用的記錄/重放部分，從而使上述帶狀磁記錄介質(zhì)能夠接近上述正在旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)磁鼓，和通過光滑平表面或光滑彎曲表面之間產(chǎn)生的流體動力相互作用引起壓力降低。因此，通過使上述記錄/重放部分與上述帶狀磁記錄介質(zhì)相接觸，進行記錄或重放中的至少一種，或者，通過使上述帶狀磁記錄介質(zhì)與上述記錄/重放部分之間的距離短于能夠產(chǎn)生相互磁相互作用的最大距離，進行記錄或重放中的至少一種。
根據(jù)上述的記錄/重放方法，由于所述表面是光滑平表面或具有平緩曲率的光滑彎曲表面，因此，根據(jù)伯努利定律，導致該表面與相接近的帶狀磁記錄介質(zhì)之間的壓力降低。結(jié)果是，帶狀磁記錄介質(zhì)逐漸接近和接觸該表面。于是，使記錄/重放部分處在與帶狀磁記錄介質(zhì)相接觸的狀態(tài)下，并且，只通過壓力降低效應(yīng)，而無需施加強制力，就可以保證接觸壓力，從而使摩擦力得到控制和進行記錄或重放。
此外，當處在穩(wěn)定狀態(tài)下時，接觸點是穩(wěn)定的，緊鄰接觸位置之前的部分中的帶狀磁記錄介質(zhì)的浮動距離是穩(wěn)定值，并維持穩(wěn)定的非接觸狀態(tài)。按這種方式當非接觸型的記錄/重放部分，例如，磁阻檢測系統(tǒng)的重放磁頭單元被安排在這個位置上時，即使在旋轉(zhuǎn)磁記錄的情況下，也可以在非接觸狀態(tài)下記錄到帶狀磁記錄介質(zhì)上和/或從帶狀磁記錄介質(zhì)上重放。
根據(jù)本發(fā)明權(quán)利要求5的旋轉(zhuǎn)磁頭機構(gòu)包括含有使帶狀磁記錄介質(zhì)能夠在其上行進的圓柱形表面和含有磁頭以便旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)磁鼓。所述磁頭包括面向帶狀磁記錄介質(zhì)、和在上述旋轉(zhuǎn)磁鼓旋轉(zhuǎn)的同時產(chǎn)生與帶狀磁記錄介質(zhì)的流體動力相互作用的表面；和通過產(chǎn)生與帶狀磁記錄介質(zhì)的磁相互作用，進行記錄或重放中的至少一種的記錄/重放部分，其中，所述表面是光滑平表面，和所述記錄/重放部分位于帶狀磁記錄介質(zhì)與受到流體動力相互作用的表面相接觸的區(qū)域上，并且，將磁頭的每個部分的高度構(gòu)造成不超過旋轉(zhuǎn)磁鼓的圓柱形表面的高度。
根據(jù)上述的結(jié)構(gòu)，所述表面是光滑平表面，因此，通過光滑平表面與相接近的帶狀磁記錄介質(zhì)之間的流體動力相互作用引起基于伯努利定律的壓力降低，結(jié)果是，帶狀磁記錄介質(zhì)逐漸接近和接觸該表面。從而，只通過壓力降低效應(yīng)，而無需施加強制力，就能保證與記錄/重放部分的接觸壓力，從而使摩擦力得到控制和進行記錄或重放。
根據(jù)本發(fā)明權(quán)利要求6的旋轉(zhuǎn)磁頭機構(gòu)包括含有使帶狀磁記錄介質(zhì)能夠在其上行進的圓柱形表面和含有磁頭以便旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)磁鼓。所述磁頭包括面向帶狀磁記錄介質(zhì)、和在上述旋轉(zhuǎn)磁鼓旋轉(zhuǎn)的同時產(chǎn)生與帶狀磁記錄介質(zhì)的流體動力相互作用的表面；和通過產(chǎn)生與帶狀磁記錄介質(zhì)的磁相互作用，進行記錄或重放中的至少一種的記錄/重放部分。所述表面是光滑平表面，所述記錄/重放部分位于帶狀磁記錄介質(zhì)與受到流體動力相互作用的表面相接觸的區(qū)域中，并且，將磁頭放置得從旋轉(zhuǎn)磁鼓的圓柱形表面伸出來。
根據(jù)上述的結(jié)構(gòu)，磁頭從旋轉(zhuǎn)磁鼓的圓柱形表面伸出來使得帶狀磁記錄介質(zhì)可以容易地與伸出來的磁頭相接觸，從而防止伴隨著旋轉(zhuǎn)在旋轉(zhuǎn)磁鼓附近形成的氣流由于帶狀磁記錄介質(zhì)流入光滑平表面。另一方面，通過光滑平表面與相接近的帶狀磁記錄介質(zhì)之間的流體動力相互作用產(chǎn)生基于伯努利定律的壓力降低，和通過如上所述，防止旋轉(zhuǎn)磁鼓附近的氣流流入光滑平表面，可以有效地實現(xiàn)這種壓力降低，因此帶狀磁記錄介質(zhì)迅速地接近和接觸該表面。按這種方式按更短距離接觸，從而使磁頭更緊湊。
并且，只通過壓力降低效應(yīng)，而無需施加強制力，就能保證與記錄/重放部分的接觸壓力，從而使摩擦力得到控制和進行記錄或重放。
根據(jù)本發(fā)明權(quán)利要求7的旋轉(zhuǎn)磁頭機構(gòu)包括旋轉(zhuǎn)磁鼓。所述旋轉(zhuǎn)磁鼓包括使帶狀磁記錄介質(zhì)能夠在其上行進的圓柱形表面、在圓柱形表面上的含有開孔的凹窗口部分、位于窗口部分內(nèi)部的磁頭，和在窗口部分壁表面與磁頭壁表面之間形成的凹通道。所述磁頭包括面向帶狀磁記錄介質(zhì)、和在上述旋轉(zhuǎn)磁鼓旋轉(zhuǎn)的同時產(chǎn)生與帶狀磁記錄介質(zhì)的流體動力相互作用的表面；和通過產(chǎn)生與帶狀磁記錄介質(zhì)的磁相互作用，進行記錄或重放中的至少一種的記錄/重放部分。所述表面是光滑平表面，所述記錄/重放部分位于帶狀磁記錄介質(zhì)與受到流體動力相互作用的表面相接觸的區(qū)域中的表面上，并且，將磁頭的每個部分的高度構(gòu)造成不超過旋轉(zhuǎn)磁鼓的圓柱形表面的高度。
根據(jù)上述的結(jié)構(gòu)，通過凹通道產(chǎn)生的負壓力，吸引正在通過的帶狀磁記錄介質(zhì)，使軌跡內(nèi)移，從而帶狀磁記錄介質(zhì)接近或接觸磁頭，使通道引出的氣流得到控制或被擋住，和使磁頭上的氣流形成得到控制。
并且，由于磁頭的表面是光滑平表面，因此，通過光滑平表面與相接近的帶狀磁記錄介質(zhì)之間的流體動力相互作用引起基于伯努利定律的壓力降低，結(jié)果是，帶狀磁記錄介質(zhì)接近和接觸該表面。于是，只通過壓力降低效應(yīng)，而無需施加強制力，就能保證與記錄/重放部分的接觸壓力，從而使摩擦力得到控制和進行記錄或重放。
根據(jù)本發(fā)明權(quán)利要求8的旋轉(zhuǎn)磁頭機構(gòu)包括旋轉(zhuǎn)磁鼓。所述旋轉(zhuǎn)磁鼓包括使帶狀磁記錄介質(zhì)能夠在其上行進的圓柱形表面、在圓柱形表面上的含有開孔的凹窗口部分、位于窗口部分內(nèi)部的磁頭，和在窗口部分壁表面與磁頭壁表面之間形成的凹通道。所述磁頭包括面向帶狀磁記錄介質(zhì)、和在上述旋轉(zhuǎn)磁鼓旋轉(zhuǎn)的同時產(chǎn)生與帶狀磁記錄介質(zhì)的流體動力相互作用的表面；和通過產(chǎn)生與帶狀磁記錄介質(zhì)的磁相互作用，進行記錄或重放中的至少一種的記錄/重放部分。所述表面是光滑平表面，所述記錄/重放部分位于帶狀磁記錄介質(zhì)與受到流體動力相互作用的表面相接觸的區(qū)域中的表面上，并且，將磁頭放置得從旋轉(zhuǎn)磁鼓的圓柱形表面伸出來。
根據(jù)上述的結(jié)構(gòu)，通過凹通道上產(chǎn)生的負壓力，吸引正在通過的帶狀磁記錄介質(zhì)，使軌跡內(nèi)移，以及使磁頭從圓柱形表面伸出來，從而帶狀磁記錄介質(zhì)更有效地接近或接觸磁頭端部，使通道引出的氣流得到控制或被擋住，和使磁頭上的氣流形成得到有效控制。
并且，由于磁頭的表面是光滑平表面，因此，通過光滑平表面與相接近的帶狀磁記錄介質(zhì)之間的流體動力相互作用引起基于伯努利定律的壓力降低，而另一方面，伴隨著對氣流形成的控制，帶狀磁記錄介質(zhì)迅速地接近和接觸該表面。于是，只通過壓力降低效應(yīng)，而無需施加強制力，就能保證與記錄/重放部分的接觸壓力，從而使摩擦力得到控制和進行記錄或重放。
在根據(jù)權(quán)利要求9的旋轉(zhuǎn)磁頭是根據(jù)權(quán)利要求5、6、7、或8的磁頭的情況下，面向上述帶狀磁記錄介質(zhì)的上述表面是其曲率比上述旋轉(zhuǎn)磁鼓的曲率更平緩的光滑彎曲表面，因此，上述壓力降低效應(yīng)取決于表面的形狀或平緩度，并且，當平緩度相同時，對光滑的曲率表面的壓力降低效應(yīng)更明顯。這樣就能夠通過壓力降低效應(yīng)，進行使帶狀磁記錄介質(zhì)與磁頭相接觸，而無需使其與旋轉(zhuǎn)磁鼓相接觸的操作，或者，通過強得多的壓力降低效應(yīng)生成的所需接觸壓力，進行使帶狀磁記錄介質(zhì)與磁頭相接觸的同時，利用較弱的接觸壓力使其與旋轉(zhuǎn)磁鼓相接觸的操作。


圖1是表示本發(fā)明旋轉(zhuǎn)磁頭機構(gòu)的第一實施例的主要組成部分的示意性透視圖；圖2是作為本發(fā)明一個實施例的、圖1所示的磁頭的結(jié)構(gòu)的說明圖；圖3是從圖1所示的箭頭A的方向看過去的視圖；圖4是從圖1所示的箭頭B的方向看過去的視圖；圖5是當如圖1所示的旋轉(zhuǎn)磁鼓旋轉(zhuǎn)時，磁帶裝載狀態(tài)的說明圖；圖6是本發(fā)明旋轉(zhuǎn)磁頭機構(gòu)的原理性說明圖；圖7是本發(fā)明旋轉(zhuǎn)磁頭機構(gòu)的第三實施例的原理性說明圖；圖8是本發(fā)明旋轉(zhuǎn)磁頭機構(gòu)的第四實施例的原理性說明圖；圖9是本發(fā)明旋轉(zhuǎn)磁頭機構(gòu)的第五實施例的原理性說明圖；圖10說明傳統(tǒng)旋轉(zhuǎn)磁鼓型磁頭的結(jié)構(gòu)的示意圖；圖11是從圖10所示的箭頭A的方向看過去的視圖；圖12是從圖10所示的箭頭B的方向看過去的視圖。
實施方式下文參照附圖描述本發(fā)明的優(yōu)選實施例。應(yīng)該注意到，下文所述的實施例是用于表示本發(fā)明的主要結(jié)構(gòu)和效果的實施例的一部分，因此，盡管從技術(shù)的觀點來看，存在著施加了各種優(yōu)選限制的一些情況，但是，除非在下列說明中特別提及施加在本發(fā)明上的任何限制，本發(fā)明不受這些實施例的限制。
圖1是顯示本發(fā)明旋轉(zhuǎn)磁頭機構(gòu)的第一實施例的主要單元的示意性透視圖。
圖2是也作為本發(fā)明一個實施例的、圖1所示的磁頭的結(jié)構(gòu)的說明圖；圖3是從圖1所示的箭頭A看過去的視圖。
圖4是從圖1所示的箭頭B看過去的視圖。
下文將參照圖1到圖4描述旋轉(zhuǎn)磁頭機構(gòu)RHA1。
如圖1所示，本發(fā)明的旋轉(zhuǎn)磁頭機構(gòu)RHA1是這樣構(gòu)造的，每一個都含有直徑基本相同的圓柱形表面的圓柱形旋轉(zhuǎn)磁鼓和固定磁鼓同軸地排列著，兩個磁鼓彼此相對的兩側(cè)面之間存在縫隙。旋轉(zhuǎn)磁鼓DR1是可旋轉(zhuǎn)的上磁鼓，固定磁鼓DF是固定在底盤或機架上的下磁鼓。
旋轉(zhuǎn)磁鼓DR1具有軸線在中心上的可旋轉(zhuǎn)圓柱形表面，和數(shù)個窗口WD1位于這個圓柱形表面下部的預定位置上，在每個窗口WD1中形成平頭(flathead)FH1。注意，為了使圖示簡化起見，在圖中省略了其它窗口和平頭。
如圖1到圖4所示，平頭FH1是長方形，它的邊與窗口WD1具有相同的高度，也就是說，與圓柱形表面處在同一層面上。并且，把平頭FH1設(shè)置得比窗口WD1稍微小一點。結(jié)果，在平頭FH1與旋轉(zhuǎn)磁鼓DR1之間形成凹通道Ch1。平頭FH1由鐵氧體、鐵硅鋁磁合金和非晶體合金之類的磁性物質(zhì)和陶瓷之類的襯底材料組成。
平頭FH1面向磁帶MT的部分是一個表面，在本實施例中，是經(jīng)過處理以便變得光滑的光滑平表面PL1(下文稱之為平表面PL1)。
另外，這個表面可以是其曲率比旋轉(zhuǎn)磁鼓DR1的曲率更平緩的光滑彎曲表面。這個表面工作時與面對的磁帶MT發(fā)生流體動力相互作用。
并且，平頭FH1的光滑平表面PL1具有在其上形成以便不從光滑平表面PL1伸出來的、用作記錄/重放部分的磁頭單元HE1(參照圖3)。這個磁頭單元HE1與面對的磁帶MT存在磁相互作用，并且，在旋轉(zhuǎn)磁鼓DR1以磁鼓線速度Vd，沿著固定方向旋轉(zhuǎn)的同時，使磁帶MT的磁性表面接近或接觸，進行記錄或重放。例如，在圖3所示的磁頭是基于磁感應(yīng)原理的的情況中，使這個磁頭單元HE1形成一個磁頭縫隙。
此外，如圖1所示，為了校準磁帶MT的行進路徑，在固定磁鼓DF上形成一條引線LD。
磁帶MT(帶狀磁記錄介質(zhì))在旋轉(zhuǎn)磁鼓DR1和固定磁鼓DF的圓柱形表面上，以給定角度，沿著固定磁鼓DF的引線Ld行進，并且卷繞在其上。另外，由未示出的張力控制裝置將張力Ts施加在磁帶MT上，和磁帶MT以磁帶線速度Vmt行進，從而在旋轉(zhuǎn)磁鼓DR1旋轉(zhuǎn)的同時，在帶有磁頭單元HE1的螺旋掃描系統(tǒng)中記錄在其上和/或從上面重放。
當旋轉(zhuǎn)磁鼓DR1旋轉(zhuǎn)時，圓柱形表面的線速度是Vd，因此，平頭FH1也以線速度Vd行進。磁帶MT以比線速度Vd慢的線速度Vmt，沿同一方向行進。這兩個線速度之差是平頭FH1相對于磁帶MT的有效速度。
請注意，盡管如上所述的結(jié)構(gòu)包括單個旋轉(zhuǎn)磁鼓DR1和位于下面的單個固定磁鼓DF，但本發(fā)明并不僅限于此，而是，可以利用，例如，包括三個或更多個磁鼓的磁頭機構(gòu)，這樣的磁頭機構(gòu)代表著中等磁鼓旋轉(zhuǎn)型。
圖5是當如圖1所示的旋轉(zhuǎn)磁鼓旋轉(zhuǎn)時，磁帶裝載狀態(tài)的說明圖。
圖6是說明本發(fā)明旋轉(zhuǎn)磁頭機構(gòu)的原理圖。
下文參照圖5和圖6描述旋轉(zhuǎn)磁頭機構(gòu)RHA1的操作。
首先，假設(shè)沒有裝載磁帶MT的非裝載狀態(tài)，旋轉(zhuǎn)磁鼓DR1的旋轉(zhuǎn)在旋轉(zhuǎn)磁鼓DR1和平頭FH1的外圍表面上形成氣層(氣膜)。例如，最接近旋轉(zhuǎn)磁鼓DR1的表面的氣體相對于旋轉(zhuǎn)磁鼓DR1的相對速度是零，因此，氣膜中接觸外圍表面的第一薄氣層以與旋轉(zhuǎn)磁鼓DR1的表面相同的線速度移動，而由于氣體粘滯作用，氣膜中第一氣層上的第二氣層則不能維持第一薄氣層的線速度，以較慢的線速度移動。這意味著形成了相對于外圍表面的相對速度。因此，由于發(fā)生了因相對速度的延遲。
類似地，第三薄氣層和隨后的薄氣層逐漸增加相對速度的絕對值，因此也逐漸增大了延遲。于是，同一氣膜中離外圍表面最遠的第n薄氣層具有最大的相對速度絕對值。然后，恰恰在具有與第一薄氣層相同的線速度絕對值的時候，氣膜消失了，氣體是線速度為零的環(huán)境氣體(靜態(tài)氣體)。
這里，氣膜內(nèi)部的各氣層將它的狀態(tài)從接近端面的、由氣層形成的層流區(qū)(layer basin)過渡到遠離端面時的湍流區(qū)(turbulent basin)。
非裝載狀態(tài)下的旋轉(zhuǎn)磁鼓在外圍表面上形成氣膜的同時，繼續(xù)旋轉(zhuǎn)，磁帶將被卷繞在這個磁鼓的外圍表面上。于是，在位于外圍表面的磁頭上也形成氣膜。然而，磁頭并不總是面對著裝載的磁帶，而是，例如，在旋轉(zhuǎn)磁鼓以高旋轉(zhuǎn)速度旋轉(zhuǎn)的時候，磁頭面對著半圈磁帶進行記錄和重放，而不面對著另半圈磁帶，從而通過與環(huán)境氣體接觸恢復氣膜。然后，磁頭面對著隨后半圈的磁帶再進行記錄和重放。
這里，當磁帶越來越接近高速旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)磁鼓的外圍表面時，在旋轉(zhuǎn)磁鼓的外圍表面與磁帶之間產(chǎn)生流體動力相互作用。按照伯努利定律(廣義意義上的能量守恒定律)，動能和氣壓之和保持恒定。假設(shè)符號**代表乘方，那么，可以表示為P+v**2/2ρ＝常數(shù)此處，ρ是氣體密度。請注意，勢能項省略了。
如上所述，在旋轉(zhuǎn)磁鼓的外圍表面上形成的氣膜中，作為最接近外圍表面的層流的第一薄氣層相對于外圍表面是靜止的，與旋轉(zhuǎn)磁鼓的外圍表面之間存在零的速度差。因此，相對于外圍表面的視在動能是零，按這種方式根據(jù)伯努利定律，不會產(chǎn)生與外圍表面的視在壓力差。HDD(硬磁盤驅(qū)動器)的浮動頭正是利用了這種效應(yīng)。然而，在本發(fā)明中，磁帶受到吸引，使其與外圍表面相接觸，接觸型磁頭利用這種接觸壓力，或者，安排在偏離接觸點的位置上的非接觸型磁頭與磁帶非接觸地產(chǎn)生磁相互作用，這要求這樣一種結(jié)構(gòu)，它能夠產(chǎn)生出盡可能多地減少或消除在外圍表面附近存在小壓力差的氣層的流體動力相互作用。
另一方面，通過舉例的方式，將通過通道Ch1的操作描述如下。
在上述旋轉(zhuǎn)狀態(tài)下，在旋轉(zhuǎn)磁鼓DR1與平頭FH1之間的通道Ch1中不存在氣膜。然而，由于通道Ch1相對于環(huán)境氣體高速移動，因此，當考慮通道Ch1時，環(huán)境氣體的高速移動流應(yīng)該通過通道Ch1的開孔部分。通道Ch1含有微凹部分，因此，由于文丘里(Venturi)效應(yīng)，形成負壓(-ΔP)，降低通道Ch1內(nèi)部的壓力。這個壓力降低是通過引出通道Ch1內(nèi)部的氣體發(fā)生的。
對于渦流等的形成來說，即使在穩(wěn)態(tài)下，在高速旋轉(zhuǎn)的凹通道Ch1附近的流體也是異常復雜的。如果從宏觀的方面來考慮，上述引出的氣流沿著通道Ch1端表面形成的流徑流動，從而被引出到通道Ch1的外部，而同時將環(huán)境氣體引入到在通道Ch1開孔部分中路徑阻力低的中央部分上的通道Ch1內(nèi)部，并認為這個差異產(chǎn)生穩(wěn)定的負壓。
接著，描述通過裝載在其上的磁帶MT將負載施加給旋轉(zhuǎn)磁鼓DR1的情況。
在旋轉(zhuǎn)磁鼓DR1的圓柱形表面上慢速行進的磁帶MT受到未示出的處在磁帶卷動那一側(cè)的張力臂的拉動，因此，張力Ts施加在磁帶MT上。傳統(tǒng)的旋轉(zhuǎn)頭具有這樣的結(jié)構(gòu)，把這個張力(張力)設(shè)置得足夠強，致使磁帶MT被強制地壓在旋轉(zhuǎn)頭上，從而接觸它。但是，在本實施例中，給磁帶MT施加適當?shù)膲毫s，它不把磁帶MT強制地壓在旋轉(zhuǎn)頭上。在這種結(jié)構(gòu)中，當磁帶MT處在沿著在裝載狀態(tài)下形成的氣膜，在旋轉(zhuǎn)磁鼓DR1上移動的穩(wěn)態(tài)下時，如圖6所示，氣膜Aflm1和氣膜Aflm2分別在旋轉(zhuǎn)磁鼓DR1的外圍表面和平頭FH1的端部附近形成。請注意，由于裝載的磁帶MT的存在，氣膜Aflm1和Aflm2與上述非裝載狀態(tài)下的氣膜不同。例如，由于施加給磁帶MT的張力Ts，在旋轉(zhuǎn)磁鼓DR1與磁帶MT之間形成的氣膜Aflm1比上述非裝載狀態(tài)下的氣膜薄。并且，通過調(diào)整張力Ts以便破壞氣膜Aflm1，磁帶TM總能夠與旋轉(zhuǎn)磁鼓DR1接觸著行進。
順便說一下，作為實驗結(jié)果，可以看到這樣的軌跡，磁帶MT在從通道Ch1穿過平頭FH1的邊緣Ej時，在平頭FH1的平表面PL1上上升，到達頂峰，然后，接近平頭FH1的平表面PL1(參照圖5和6)。這種現(xiàn)象可以解釋如下。
使通道Ch1形成得與氣流的流線垂直，它的作用可以根據(jù)文丘里管效應(yīng)來解釋，其中由于文丘里管效應(yīng)，在通道Ch1內(nèi)部形成壓力降(負壓-ΔP)，利用這種壓力降，磁帶MT沿著圖6中箭頭所示的方向被吸引到通道Ch1的底部，結(jié)果是，磁帶的移動軌跡接近通道Ch1的底部。這被看作是吸引軌跡Tr1。同時，如上所述，從通道Ch1到平頭FH1的平表面PL1穩(wěn)定地生成引出的氣流Asuc(參照圖6)，這個氣流Asuc成為形成氣膜Aflm2的那一部分氣體的供應(yīng)源。
當磁帶MT沿著這條吸引軌跡Tr1接近平頭FH1角上的邊緣部分Ej時，引出的氣流Asuc部分地流入在平頭FH1的平表面PL1與磁帶MT之間形成的區(qū)域中，并在那里稍停，這是使磁帶MT的軌跡上升的因素。
在這種上升之后，因為磁帶MT處在覆蓋平表面PL1的位置上，所以，氣膜Aflm2在平表面PL1上的形成受到控制。
另一方面，由于磁帶MT具有剛度，因此，穿過邊緣部分Ej之后的磁帶MT垂直于平頭FH1的平表面PL1上升，這是使磁帶MT的軌跡上升的另一個因素。
同時，作為控制軌跡上升的因素，施加給磁帶MT的張力Ts控制磁帶MT的上述偏移。
這里，在平頭FH1的平表面PL1與磁帶MT之間，根據(jù)伯努利定律出現(xiàn)的壓力降低起到將磁帶MT吸引到平頭FH1的平表面PL1上的吸引力的作用。
上述各種因素和作用力的效果可以用這樣的方式來解釋，穿過邊緣部分Ej，在平頭FH1的平表面PL1上的磁帶MT上升，到達頂峰，然后逐漸接近平頭FH1的平表面PL1，形成上升軌跡Tr2(參照圖6)。
當磁帶MT比上述狀態(tài)更接近一點時，它就接觸到邊緣部分Ej，擋住引出的氣流Asuc。因而，進入平頭FH1的平表面PL1上的氣體量減少了，另外，磁帶MT處在覆蓋平表面PL1的位置上，使得氣膜Aflm2在平表面PL1上的形成得到有效控制。此外，磁帶MT上升形成的區(qū)域，即，在擴展軌跡Tr2上的磁帶MT與平頭FH1的平表面PL1之間形成的區(qū)域是突然形成的，因此，變成壓力降低狀態(tài)。
請注意，在其上的描述中，邊緣部分Ej不僅是一個銳角，而且還能夠具有保護磁帶MT的曲率。
接著，如圖5所示，除了上述上升區(qū)中的壓力降低之外，伯努利效應(yīng)對又平又滑的平表面PL1是非常有效的，其中，隨著磁帶MT沿著平表面PL1離邊緣部分Ej越來越遠，它迅速地接近平表面PL1，并破壞其余的氣膜Aflm2，從而在接觸點Cp上接觸平表面PL1。
由于接觸狀態(tài)在這次接觸之后的連續(xù)性取決于平表面PL1的布置角，以及平表面PL1的光滑度和平坦度之類的因素，因此，設(shè)置上述因素的每一個，致使接觸連續(xù)到足以由磁頭單元HE1產(chǎn)生與磁帶MT的磁相互作用，也就是說，穩(wěn)定地進行記錄和重放。
因此，本實施例是這樣實現(xiàn)的，使磁頭單元HE1位于比接觸點Cp更后一點的位置上。這種定位使磁頭單元HE1總是，并且穩(wěn)定地接觸磁帶MT。
磁帶MT與平頭FH1的邊緣部分Ej的這種接觸控制著氣膜Aflm2的形成，和新的氣膜Aflm2在平表面PL1的形成受到后面接近平頭FH1上的平表面PL1的磁帶MT的控制，從而，伯努利效應(yīng)進一步起有效作用，致使磁帶MT在短距離內(nèi)，馬上接觸平表面PL1。
結(jié)果是，可以縮短磁帶MT與平表面PL1的接觸點Cp和邊緣部分Ej，即平頭FH1的角之間的距離dst(參照圖5)，從而可以使磁頭最小化。
本實施例將磁感應(yīng)頭用作平頭FH1。磁頭單元HE1是磁頭縫隙，和如圖5所示，它的位置被設(shè)置在接觸點Cp之后的位置上，即，在相對于接觸點Cp，與邊緣部分Ej方向相反的位置上，從而磁頭單元HE1可以與磁帶MT維持穩(wěn)定的接觸狀態(tài)。
此外，至于磁頭單元HE1的接觸壓力，如上所述，在本實施例中，在磁帶MT的大區(qū)域與平頭FH1的平表面PL1的接觸中，利用了根據(jù)伯努利定律的壓力降低效應(yīng)，從而可以有效地降低對磁頭單元HE1的接觸壓力，并且可以穩(wěn)定地產(chǎn)生對磁感效應(yīng)來說不成問題的接觸壓力。于是，舉例來說，由于不需要通過張力將磁帶強制地壓在磁頭上，因此，與傳統(tǒng)結(jié)構(gòu)不同，極大地減少了磁頭的摩擦力，從而解決了由于磁頭摩擦力引起的各種問題。另外，不但可以延長磁頭的壽命，而且由于施加在其上的負載變小，避免了磁帶MT的不可逆變形，從而可以延長磁帶的壽命。
并且，由于磁頭的摩擦力減少了，因此，可以把圖5所示的縫隙gdp做得足夠小，例如，小到幾個微米或更小的量級，從而能夠提高磁頭性能，和以高靈敏度進行高密記錄/重放。
并且，由于磁頭的摩擦力減少了，因此，即使使磁帶與磁頭相接觸，也可以應(yīng)用磁阻效應(yīng)型(或磁通響應(yīng)型)的MP頭和GMR頭，它通過利用磁阻效應(yīng)，借助于非常淺的縫隙，檢測記錄介質(zhì)上的磁場改變。
在上述中，即使存在通道，當它的深度與它的寬度相比較小，因此不能形成足夠的負壓時，上述負壓引起磁帶的軌跡移動也是微小的，不能擋住在邊緣部分上引出的氣流。然而，這與后面圖8中所述的操作相同。
并且，類似地，即使剛度很大的磁帶在穿過通道時的軌跡移動是微小的，其操作也與后面圖8中所述的操作相同。
順便提一下，在上述實施例的結(jié)構(gòu)中，平頭FH1的邊緣部分與旋轉(zhuǎn)磁鼓DR1的圓柱形表面具有相同的高度。但是，在第二實施例的結(jié)構(gòu)中，還可以將平頭放置得從旋轉(zhuǎn)磁鼓DR1的圓柱形表面伸出來。根據(jù)這種結(jié)構(gòu)，在應(yīng)用確定上述磁帶軌跡的因素之一的剛度很大的磁帶的情況中，歸因于這種剛度的因素成為主要的，并且，與通道引起的負壓效應(yīng)一起，使磁帶更易于與伸出的磁磁頭分相接觸，從而能夠更容易地和更有效地擋住從通道引出的氣流。結(jié)果，氣膜在平頭的表面上的形成可以更有效地得到控制，由磁帶破壞光滑平表面上的氣膜變得更加容易，和到接觸點的距離也可以縮短。
這里，即使存在通道，當它的深度與它的寬度相比較小，因此不能形成足夠的負壓時，盡管上述負壓引起磁帶的軌跡移動也是微小的，但是，如上所述，如果歸因于磁帶剛度的因素是主要的，那么，磁帶接觸伸出來的磁頭的角，從而在邊緣部分上擋住引出的氣流。這與后面圖9中所述的操作相同。
圖7是本發(fā)明旋轉(zhuǎn)磁頭機構(gòu)的第三實施例的主要組成部分的示意圖。
在本實施例中，磁帶MH包括表面PL3和非接觸型磁頭單元NCC，表面PL3面向磁帶MT，在旋轉(zhuǎn)地移動的同時，通過生成與磁帶MT的流體動力相互作用吸引和接觸磁帶MT；非接觸型磁頭單元NCC作為記錄/重放部分，在非接觸狀態(tài)下生成與磁帶MT的磁相互作用。
這個表面PL3可以是光滑平表面，也可以是擁有平緩光滑曲率的彎曲表面，非接觸型磁頭單元NCC位于磁帶MT通過流體動力相互作用與表面PL3相接觸的范圍之外。
根據(jù)這種結(jié)構(gòu)，通過是光滑平表面或擁有光滑曲率的表面PL3，造成表面PL3與接近的磁帶MT之間的壓力降低，因此，磁帶MT逐漸接近表面PL3，并在接觸點Cp接觸表面PL3。在穩(wěn)態(tài)下，接觸點Cp的位置是穩(wěn)定的，因此，在表面PL3上接觸點Cp稍靠前一點的位置上，到磁帶MT的距離是穩(wěn)定值。在這個位置上，磁帶MT以浮動量flo穩(wěn)定地浮動，因此，在這個位置上維持磁帶MT的穩(wěn)定非接觸狀態(tài)。
于是，通過將非接觸型磁頭單元NCC，例如，磁阻檢測系統(tǒng)的重放磁頭單元放置在這個位置上，在旋轉(zhuǎn)磁記錄中，磁頭表面部分PL3可以與磁帶MT相接觸，并可保持用于實現(xiàn)與磁帶MT的磁相互作用的非接觸型磁頭單元NCC處在與磁帶MT的非接觸狀態(tài)，從而可以在非接觸狀態(tài)下進行到磁帶MT記錄和/或從磁帶MT的重放。結(jié)果，包括MR頭和GMR頭的非接觸型磁頭可以應(yīng)用于帶有磁帶MT的旋轉(zhuǎn)磁記錄設(shè)備。
圖8是起本發(fā)明旋轉(zhuǎn)磁頭機構(gòu)的第四實施例的主要組成部分作用的旋轉(zhuǎn)磁鼓的示意圖。
如本圖所示，數(shù)個窗口WD4配置在圓柱形表面的預定位置上，圓柱形表面能夠繞著作為中心的、旋轉(zhuǎn)磁頭機構(gòu)RHA4的旋轉(zhuǎn)磁鼓DR4的軸線旋轉(zhuǎn)，平頭FH4嵌在每個窗口WD4中。為了使圖示簡化起見，圖中省略了其它窗口和平頭。在這個旋轉(zhuǎn)磁鼓DR4上，將張力Ts施加到磁帶MT上，在旋轉(zhuǎn)磁鼓DR4的圓柱形表面以磁鼓線速度Vd旋轉(zhuǎn)的同時，磁帶MT以磁帶線速度Vmt行進。
平頭FH4是基于磁感應(yīng)原理的磁頭，并且被做成長方形，從而沿著圓柱形表面的縱向的邊與窗口WD4具有相同的高度，也就是說，與旋轉(zhuǎn)磁鼓DR4的圓柱形表面處在同一層面上，并且，平頭FH4填滿窗口WD4的整個內(nèi)部。
平頭FH4面向磁帶MT的部分是一個表面，在本實施例中，是經(jīng)過平表面拋光處理的光滑平表面。
另外，這個表面也可以是其曲率比旋轉(zhuǎn)磁鼓DR4的曲率更平緩的光滑彎曲表面。這個表面產(chǎn)生與面對面磁帶MT的流體動力相互作用。
在這個光滑平表面上，形成磁頭縫隙HG作為記錄/重放部分，和它的位置被設(shè)置在磁帶MT與受到流體動力相互作用的表面相接觸的范圍之內(nèi)。
為了解釋這種操作，部分位于沿著旋轉(zhuǎn)磁鼓DR4的圓柱形表面形成的氣膜上的磁帶MT到達保持其狀態(tài)的平頭FH4。由于平頭FH4的光滑平表面的表面粗糙度比旋轉(zhuǎn)磁鼓DR4的圓柱形表面的表面粗糙度更平緩一些，以及它的形狀是平的的事實，在那里形成的湍流區(qū)達到最小，因此，基于沿著流向均勻度更高的層流區(qū)的、磁帶MT與光滑平表面之間的壓力降低比旋轉(zhuǎn)磁鼓DR4的圓柱形表面上的壓力降低更加有效。于是，通過引出存在于光滑平表面與磁帶MT之間的氣體，造成壓力降低，和隨著平頭FH4旋轉(zhuǎn)，存在于光滑平表面與磁帶MT之間的氣層Aflm4的厚度也越來越薄。結(jié)果是，磁帶MT接近光滑平表面，并在接觸點Cp4接觸到光滑平表面。接觸狀態(tài)的微觀解釋與上述相同。并且，從平頭FH4的邊緣部分到接觸點Cp4的距離由平頭FH4的邊緣部分中氣流的狀態(tài)，即，氣膜提供氣體的數(shù)量和流速、光滑平表面的表面粗糙度、磁帶MT的表面粗糙度等來調(diào)整。
當按如上所述建立起接觸狀態(tài)時，因為這個接觸狀態(tài)維持在接觸點Cp4之后，所以磁帶MT與處在比接觸點Cp4更后一點的磁頭縫隙HG相接觸，并可以獲得穩(wěn)定的接觸壓力。
為了進一步解釋有關(guān)對磁頭縫隙HG的接觸壓力，在上述的本實施例中，由于利用了通過壓力降低效應(yīng)使磁帶MT的大區(qū)域與平頭FH4的光滑平表面的接觸，因此，可以有效地降低對磁頭縫隙HG的接觸壓力，并且，還可以穩(wěn)定地獲得對處理磁感效應(yīng)沒有任何麻煩的接觸壓力。于是，例如，與傳統(tǒng)結(jié)構(gòu)不同，沒有必要通過張力將磁帶強制地壓在磁頭上使其與磁頭接觸，因此，可以極大地減少磁頭的摩擦力，并可以解決與磁頭摩擦力相關(guān)的問題。從而，不僅可以延長磁頭的壽命，而且通過使磁帶MT上的負載變小，避免了磁帶MT的不可逆變形，可以延長磁帶的壽命。
并且，由于磁頭的摩擦力減少了，因此，磁頭縫隙HG(未示出)的縫隙深度很淺，并且可以做成，例如，小到幾個微米或更小量級的尺寸，從而能夠提高磁頭性能，和以高靈敏度進行高密記錄/重放。
并且，由于磁頭的摩擦力減少了，因此，即使使磁帶與磁頭相接觸，也可以應(yīng)用磁阻效應(yīng)型(或磁通響應(yīng)型)的MP頭和GMR頭，來替代磁感應(yīng)型磁頭，這種MP頭和GMR頭通過利用磁阻效應(yīng)，借助于非常淺的縫隙，檢測記錄介質(zhì)磁場的改變。
圖9是作為本發(fā)明旋轉(zhuǎn)磁頭機構(gòu)的第五實施例的主要組成部分的旋轉(zhuǎn)磁鼓的示意圖。
如本圖所示，數(shù)個窗口WD5配置在圓柱形表面的預定位置上，圓柱形表面能夠繞著作為中心的、由旋轉(zhuǎn)磁頭機構(gòu)RHA5擁有的旋轉(zhuǎn)磁鼓DR5的軸線旋轉(zhuǎn)，平頭FH5嵌在每個窗口WD5中。為了使圖示簡化起見，圖中省略了其它窗口和平頭。在這個旋轉(zhuǎn)磁鼓DR5上，將張力Ts施加到磁帶MT上，在旋轉(zhuǎn)磁鼓DR5的圓柱形表面以磁鼓線速度Vd旋轉(zhuǎn)的同時，磁帶MT以磁帶線速度Vmt旋轉(zhuǎn)。
平頭FH5是基于磁感應(yīng)原理的磁頭，并且被做成長方形，從旋轉(zhuǎn)磁鼓DR5的圓柱形表面伸出來，填滿窗口WD5的整個內(nèi)部。
平頭FH5面向磁帶MT的部分是一個表面，在本實施例中，是經(jīng)過平表面拋光處理的光滑平表面。
另外，這個表面也可以是其曲率比旋轉(zhuǎn)磁鼓DR5的曲率更平緩的光滑彎曲表面。這里，該表面產(chǎn)生與面對面磁帶MT的流體動力相互作用。
在這個光滑平表面上，形成磁頭縫隙HG作為記錄/重放部分，和它的位置被設(shè)置在磁帶MT與受到流體動力相互作用的表面相接觸的范圍之內(nèi)。
為了描述這種操作，部分位于沿著旋轉(zhuǎn)磁鼓DR5的圓柱形表面形成的氣膜上的磁帶MT到達保持這種狀態(tài)的平頭FH5，通過與邊緣部分Ej相撞使它的軌跡向外轉(zhuǎn)，憑借著磁帶MT的剛度從平頭FH5向上行進，和依靠與施加給磁帶MT的張力Ts的平衡到達頂峰。
另一方面，在平頭FH5的光滑平表面與磁帶MT之間形成的上升空間中，與上述每一個實施例類似的壓力降低是有效的。并且，隨著平頭FH5旋轉(zhuǎn)，存在于光滑平表面與磁帶MT之間的氣層Aflm5的厚度也越來越薄。結(jié)果是，磁帶MT接近光滑平表面，并在接觸點Cp5接觸到光滑平表面。接觸狀態(tài)的微觀解釋與上述相同。并且，因為來自由旋轉(zhuǎn)磁鼓DR5保存的氣膜的氣流被與邊緣部分Ej相撞的磁帶MT擋住，所以從平頭FH5的邊緣部分Ej到接觸點Cp5的距離比上述圖8所示的距離dst4縮得更短。按這種方式可以使平頭FH5變小。
當按如上所述建立起接觸狀態(tài)時，因為這個接觸狀態(tài)維持在接觸點Cp5之后，所以磁帶MT與處在比接觸點Cp5更后一點的磁頭縫隙HG相接觸，并可以獲得穩(wěn)定的接觸壓力。
為了更詳細地解釋有關(guān)對磁頭縫隙HG的接觸壓力，在上述的本實施例中，由于利用了通過壓力降低效應(yīng)使磁帶MT的大區(qū)域與平頭FH5的光滑平表面相接觸，因此，可以有效地降低對磁頭縫隙HG的接觸壓力，并且，還可以穩(wěn)定地獲得對磁感效應(yīng)沒有麻煩的接觸壓力。于是，例如，與傳統(tǒng)結(jié)構(gòu)不同，沒有必要通過張力將磁帶強制地壓在磁頭上使其與磁頭接觸，因此，可以極大地減少磁頭的摩擦力，并可以解決與磁頭摩擦力相關(guān)的問題。從而，不僅可以延長磁頭的壽命，而且通過使磁帶MT上的負載變小，避免了磁帶MT的不可逆變形，可以延長磁帶的壽命。
并且，由于磁頭的摩擦力減少了，因此，磁頭縫隙HG(未示出)的縫隙深度很淺，并且可以做成，例如，小到幾個微米或更小量級的尺寸，從而能夠提高磁頭性能，和以高靈敏度進行高密記錄/重放。
并且，由于磁頭的摩擦力減少了，因此，即使使磁帶與磁頭相接觸，也可以應(yīng)用磁阻效應(yīng)型(或磁通響應(yīng)型)的MP頭和GMR頭，來替代磁感應(yīng)型磁頭，這種MP頭和GMR頭通過利用磁阻效應(yīng)，借助于非常淺的縫隙，檢測記錄介質(zhì)磁場的改變。
并且，在記錄和/或重放本發(fā)明帶狀磁記錄介質(zhì)的方法中，在具有圓柱形表面的旋轉(zhuǎn)磁鼓的表面上形成了光滑平表面或其曲率比旋轉(zhuǎn)磁鼓的曲率更平緩的光滑彎曲表面，并且，在光滑平表面或光滑彎曲表面上形成了產(chǎn)生與帶狀磁記錄介質(zhì)的磁相互作用的記錄/重放部分，從而使帶狀磁帶MT能夠接近正在旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)磁鼓，從而通過光滑平表面或光滑彎曲表面與磁帶之間產(chǎn)生的流體動力相互作用引起的壓力降低，使記錄/重放部分與磁帶MT相接觸，進行記錄或重放中的至少一種。
另外，這種壓力降低使磁帶MT與記錄/重放部分之間的距離短于能夠產(chǎn)生相互磁相互作用的最大距離，這就能夠進行記錄或重放中的至少一種。
根據(jù)這種記錄/重放方法，由于該表面是光滑平表面或光滑彎曲表面，因此，在該表面與相接近的帶狀磁記錄介質(zhì)之間造成基于伯努利定律的壓力降低。結(jié)果是，磁帶MT逐漸接近和接觸該表面。于是，可使記錄/重放部分處在與帶狀磁記錄介質(zhì)相接觸的狀態(tài)下，并且，只通過壓力降低效應(yīng)，而無需施加強制力，就能保證接觸壓力，從而使摩擦力得到控制的情況下，進行記錄或重放。
并且，在穩(wěn)定狀態(tài)下，接觸點是穩(wěn)定的，緊鄰接觸位置之前的位置上的磁帶的上升距離成為穩(wěn)定值，并維持穩(wěn)定的非接觸狀態(tài)。按這種方式當非接觸型的記錄/重放部分，例如，磁阻檢測系統(tǒng)的重放磁頭單元被放置在這個位置上，在旋轉(zhuǎn)磁記錄時，也可以在非接觸狀態(tài)下記錄到磁帶MT上和/或從磁帶MT上重放。
如上所述，根據(jù)本發(fā)明，可以實現(xiàn)如下優(yōu)點。
1.可以有效地降低對磁頭的接觸壓力，并且，還可以穩(wěn)定地獲得對磁感效應(yīng)沒有麻煩的接觸壓力。
2.可以解決由于磁頭的摩擦力引起的問題，因此，不但可以延長磁頭的壽命，而且可以延長磁帶MT的壽命。
3.由于使縫隙變淺了，因此，可以以高靈敏度進行高密記錄/重放。
4.可以使磁頭緊湊。
5.作為使磁帶與磁頭相接觸的結(jié)構(gòu)，可以以接觸的形式，將磁阻效應(yīng)型(或磁通響應(yīng)型)的MP頭和GMR頭應(yīng)用于帶狀磁記錄介質(zhì)，這種MP頭和GMR頭通過利用磁阻效應(yīng)，借助于非常淺的縫隙，檢測磁場隨記錄介質(zhì)的改變。
6.并且，盡管使產(chǎn)生與磁帶的流體動力相互作用的磁頭表面部分與磁帶相接觸，但通過使產(chǎn)生與磁帶的磁相互作用的磁頭單元不與磁帶相接觸，可以以非接觸的形式，將包括MP頭和GMR頭的非接觸磁頭應(yīng)用于帶狀磁記錄介質(zhì)。
正如上面所詳細描述的，在根據(jù)本發(fā)明權(quán)利要求1的磁頭中，產(chǎn)生與帶狀磁記錄介質(zhì)的流體動力相互作用的表面是光滑平表面，使帶狀磁記錄介質(zhì)與該表面接觸，并將產(chǎn)生磁相互作用的記錄/重放部分配置在帶狀磁記錄介質(zhì)與表面接觸的區(qū)域中。然后，在光滑平表面的表面與接近光滑平表面的帶狀磁記錄介質(zhì)之間造成基于伯努利定律的壓力降低。結(jié)果是，無需施加強制力，就能使帶狀磁記錄介質(zhì)與表面相接觸，并且還與記錄/重放部分相接觸。如上所述，只通過壓力降低效應(yīng)，就可以保證對記錄/重放部分的壓力，從而可以控制摩擦力，和可以進行記錄或重放。
在根據(jù)本發(fā)明權(quán)利要求2的磁頭中，產(chǎn)生與帶狀磁記錄介質(zhì)的流體動力相互作用的表面是光滑平表面，使帶狀磁記錄介質(zhì)與表面接觸，并將在非接觸狀態(tài)下產(chǎn)生與帶狀磁記錄介質(zhì)的磁相互作用的記錄/重放部分放置在該表面與帶狀磁記錄介質(zhì)相接觸的區(qū)域之外的其它地方。因此，在光滑平表面的表面與接近光滑平表面的帶狀磁記錄介質(zhì)之間發(fā)生了基于伯努利定律的壓力降低。結(jié)果是，無需施加強制力，就能使帶狀磁記錄介質(zhì)與表面相接觸。另一方面，在接觸部分之外的部分上，維持帶狀磁記錄介質(zhì)的穩(wěn)定非接觸狀態(tài)。于是，當非接觸型的記錄/重放部分，例如，磁阻檢測系統(tǒng)的重放磁頭單元被放置在這個位置上，在旋轉(zhuǎn)磁記錄時，也可以在非接觸狀態(tài)下進行到/從帶狀磁記錄介質(zhì)的記錄/重放。因此，可以在不引起摩擦力的情況下，進行非接觸記錄或重放。
根據(jù)本發(fā)明權(quán)利要求3的磁頭是根據(jù)權(quán)利要求1或權(quán)利要求2的磁頭，由于表面是其曲率比旋轉(zhuǎn)磁鼓的曲率更平緩的光滑彎曲表面，因此，在含有光滑曲率的表面上的壓力降低是有效的。這樣就能夠進行通過壓力降低效應(yīng)，進行使帶狀磁記錄介質(zhì)與磁頭相接觸，而無需使其與旋轉(zhuǎn)磁鼓相接觸的操作，或者，通過強得多的壓力降低效應(yīng)生成的所需接觸壓力，進行使帶狀磁記錄介質(zhì)與磁頭相接觸的同時，利用較弱的接觸壓力使其與旋轉(zhuǎn)磁鼓相接觸的操作。
在根據(jù)本發(fā)明權(quán)利要求4的、用于帶狀磁記錄介質(zhì)的記錄和重放方法中，在位于旋轉(zhuǎn)磁鼓的表面上的光滑平表面或平緩光滑彎曲表面上形成了產(chǎn)生與帶狀磁記錄介質(zhì)的磁相互作用的記錄/重放部分，和通過在帶狀磁記錄介質(zhì)與光滑平表面或光滑彎曲表面之間發(fā)生的壓力降低，使帶狀磁記錄介質(zhì)與記錄/重放部分相接觸，或使由壓力降低決定的、帶狀磁記錄介質(zhì)與記錄/重放部分之間的距離接近發(fā)生相互相互作用的最短距離，從而進行記錄/重放。結(jié)果是，帶狀磁記錄介質(zhì)通過在該表面與正在接近的帶狀磁記錄介質(zhì)之間產(chǎn)生的壓力降低，接近和接觸該表面。從而，使記錄/重放部分處在與帶狀磁記錄介質(zhì)的接觸狀態(tài)，和只通過壓力降低效應(yīng)，而無需施加強制力，就能保證接觸壓力，從而使摩擦力得到控制，和可以進行記錄或重放。
并且，帶狀磁記錄介質(zhì)的上升距離恰好在接觸位置之前變得穩(wěn)定，從而維持穩(wěn)定非接觸狀態(tài)。按這種方式當非接觸型的記錄/重放部分，例如，磁阻檢測系統(tǒng)的重放磁頭單元被安排在這個位置上時，即使在旋轉(zhuǎn)磁記錄的情況下，也可以在非接觸狀態(tài)下進行到/從帶狀磁記錄介質(zhì)上的記錄/重放。
根據(jù)本發(fā)明權(quán)利要求5的旋轉(zhuǎn)磁頭機構(gòu)包括含有圓柱形表面和磁頭的旋轉(zhuǎn)磁鼓。所述磁頭包括是光滑平表面的表面，和所述記錄/重放部分配置在帶狀磁記錄介質(zhì)與表面相接觸的區(qū)域上，通過磁相互作用進行記錄或重放。另外，磁頭的每個部分不高于旋轉(zhuǎn)磁鼓的圓柱形表面。結(jié)果是，通過光滑平表面的表面與帶狀磁記錄介質(zhì)之間由流體動力相互作用造成的壓力降低，使帶狀磁記錄介質(zhì)與表面部分相接觸。同時，使帶狀磁記錄介質(zhì)與記錄/重放部分相接觸。從而，只通過壓力降低效應(yīng)，而無需施加強制力，就能保證與記錄/重放部分的接觸壓力，從而使摩擦力得到控制，和可以進行記錄或重放。
根據(jù)本發(fā)明權(quán)利要求6的旋轉(zhuǎn)磁頭機構(gòu)包括含有圓柱形表面和磁頭的旋轉(zhuǎn)磁鼓。所述磁頭包括是光滑平表面的表面，和所述記錄/重放部分配置在帶狀磁記錄介質(zhì)與表面相接觸的區(qū)域上，通過磁相互作用進行記錄或重放。另外，將磁頭放置得從旋轉(zhuǎn)磁鼓的圓柱形表面伸出來。結(jié)果是，可以容易地使帶狀磁記錄介質(zhì)與伸出的磁頭端部相接觸，從而可以把磁頭做得更小。
并且，通過光滑平表面的表面與帶狀磁記錄介質(zhì)之間由流體動力相互作用造成的壓力降低，使帶狀磁記錄介質(zhì)與表面部分相接觸，和同時，使帶狀磁記錄介質(zhì)與記錄/重放部分相接觸。從而，只通過壓力降低效應(yīng)，而無需施加強制力，就能保證與記錄/重放部分的接觸壓力，從而使摩擦力得到控制，和可以進行記錄或重放。
在根據(jù)本發(fā)明權(quán)利要求7的旋轉(zhuǎn)磁頭機構(gòu)中，旋轉(zhuǎn)磁鼓配置了圓柱形表面、窗口部分、位于窗口部分內(nèi)部的凹通道、和配置在通道上的磁頭。磁頭包括作為光滑平表面的表面、和記錄/重放部分，放置在使帶狀磁記錄介質(zhì)與表面相接觸的區(qū)域中，通過磁相互作用進行記錄或重放。另外，磁頭的每個部分不高于旋轉(zhuǎn)磁鼓的圓柱形表面。結(jié)果是，在凹通道上生成的負壓力吸引正在通過的帶狀磁記錄介質(zhì)，帶狀磁記錄介質(zhì)接近和接觸磁頭端部，從而控制和擋住從通道引出的氣流，于是控制磁頭氣流的形成。并且，通過光滑平表面的表面與帶狀磁記錄介質(zhì)之間由流體動力相互作用產(chǎn)生的壓力降低效應(yīng)，使帶狀磁記錄介質(zhì)與表面相接觸，同時，使帶狀磁記錄介質(zhì)與記錄/重放部分相接觸。從而，只通過壓力降低效應(yīng)，而無需施加強制力，就能保證與記錄/重放部分的接觸壓力，從而使摩擦力得到控制，和可以進行記錄或重放。
在根據(jù)本發(fā)明權(quán)利要求8的旋轉(zhuǎn)磁頭機構(gòu)中，配置的旋轉(zhuǎn)磁鼓包括圓柱形表面、窗口部分、位于窗口部分內(nèi)部的凹通道、和配置在通道上的磁頭。磁頭包括作為光滑平表面的表面、和放置在使帶狀磁記錄介質(zhì)與表面相接觸的區(qū)域中，通過磁相互作用進行記錄或重放的記錄/重放部分。另外，把磁頭放置得從旋轉(zhuǎn)磁鼓的圓柱形表面伸出來。結(jié)果是，在凹通道中生成的負壓力吸引正在通過的帶狀磁記錄介質(zhì)，并且，由于磁頭從圓柱形表面伸出來，因此，帶狀磁記錄介質(zhì)有效地接近或接觸磁頭端部，從而控制或擋住從通道引出的氣流，和有效地控制磁頭上的氣流形成。
并且，通過光滑平表面的表面與帶狀磁記錄介質(zhì)之間由流體動力相互作用產(chǎn)生的壓力降低效應(yīng)，以及通過控制上述氣流形成，使帶狀磁記錄介質(zhì)迅速地接近或接觸該表面，同時，使帶狀磁記錄介質(zhì)與記錄/重放部分相接觸。從而，只通過壓力降低效應(yīng)，而無需施加強制力，就能保證與記錄/重放部分的接觸壓力，從而使摩擦力得到控制，和可以進行記錄或重放。
根據(jù)權(quán)利要求9的旋轉(zhuǎn)磁頭機構(gòu)由權(quán)利要求5、6、7、或8的任何一項表示，磁頭的表面是其曲率比旋轉(zhuǎn)磁鼓的曲率更平緩的光滑彎曲表面，因此，在含有光滑曲率的表面上的壓力降低是非常有效的。這樣就能夠進行通過壓力降低效應(yīng)，使帶狀磁記錄介質(zhì)與磁頭相接觸，而無需使其與旋轉(zhuǎn)磁鼓相接觸的操作，或者，通過強得多的壓力降低效應(yīng)生成的所需接觸壓力，使帶狀磁記錄介質(zhì)與磁頭相接觸的同時，利用較弱的接觸壓力使其與旋轉(zhuǎn)磁鼓相接觸的操作。
工業(yè)可應(yīng)用性本發(fā)明可應(yīng)用于基于數(shù)字標準的、帶有旋轉(zhuǎn)磁鼓的VTR設(shè)備，譬如，用于到/從帶狀磁記錄介質(zhì)的記錄/重放的、帶有旋轉(zhuǎn)磁鼓的盒式錄像機設(shè)備、用在其上設(shè)備中的旋轉(zhuǎn)磁頭、和磁頭機構(gòu)。
權(quán)利要求
1.一種磁頭，安裝在能夠使帶狀磁記錄介質(zhì)在其上行進的旋轉(zhuǎn)磁鼓上，并隨著所述旋轉(zhuǎn)磁鼓的旋轉(zhuǎn)而移動，從而在所述帶狀磁記錄介質(zhì)上進行記錄、或從所述帶狀磁記錄介質(zhì)上進行重放，所述磁頭包括面向所述帶狀磁記錄介質(zhì)、并通過所述旋轉(zhuǎn)一邊移動一邊產(chǎn)生與所述帶狀磁記錄介質(zhì)的流體動力相互作用的表面；和通過接觸所述帶狀磁記錄介質(zhì)產(chǎn)生與它的磁相互作用的記錄/重放部分，其中所述表面是光滑平表面；和所述記錄/重放部分位于所述帶狀磁記錄介質(zhì)與受到流體動力相互作用的所述表面形成接觸的區(qū)域中，并且，配置所述記錄/重放部分，從而能夠通過與所述帶狀磁記錄介質(zhì)接觸產(chǎn)生的磁相互作用，進行記錄或重放中的至少一種。
2.一種磁頭，安裝在能夠使帶狀磁記錄介質(zhì)在其上行進的旋轉(zhuǎn)磁鼓上，并隨著所述旋轉(zhuǎn)磁鼓的旋轉(zhuǎn)而移動，從而在所述帶狀磁記錄介質(zhì)上進行記錄、或從所述帶狀磁記錄介質(zhì)上進行重放，所述磁頭包括面向所述帶狀磁記錄介質(zhì)、并通過所述旋轉(zhuǎn)移動的同時產(chǎn)生與所述帶狀磁記錄介質(zhì)的流體動力相互作用的表面；和在非接觸狀態(tài)下產(chǎn)生與所述帶狀磁記錄介質(zhì)的磁相互作用的記錄/重放部分，其中所述表面是光滑平表面；和所述記錄/重放部分位于所述帶狀磁記錄介質(zhì)與受到流體動力相互作用的所述表面相接觸的區(qū)域之外，并且，配置所述記錄/重放部分以便能夠在非接觸狀態(tài)下，通過與所述帶狀磁記錄介質(zhì)的磁相互作用，進行記錄或重放中的至少一種。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的磁頭，其中面向所述帶狀磁記錄介質(zhì)的所述表面是其曲率比所述旋轉(zhuǎn)磁鼓的曲率更平緩的光滑彎曲表面。
4.一種用于帶狀磁記錄介質(zhì)的記錄和重放方法，其中在具有圓柱形表面的所述旋轉(zhuǎn)磁鼓的表面上形成了光滑平表面或其曲率比所述旋轉(zhuǎn)磁鼓的曲率更平緩的光滑彎曲表面，在所述光滑平表面或所述光滑彎曲表面上提供了產(chǎn)生與帶狀磁記錄介質(zhì)的磁相互作用的記錄/重放部分，和使所述帶狀磁記錄介質(zhì)能夠接近所述正在旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)磁鼓，從而在所述光滑平表面或所述光滑彎曲表面與所述帶狀磁記錄介質(zhì)之間通過流體動力相互作用引起的壓力降低，因此，通過使所述帶狀磁記錄介質(zhì)與所述記錄/重放部分相接觸，進行記錄或重放中的至少一種，或者，因此，所述壓力降低使所述帶狀磁記錄介質(zhì)與所述記錄/重放部分接近到大約等于能夠產(chǎn)生相互磁相互作用的最小距離的距離，進行記錄或重放中的至少一種。
5.一種旋轉(zhuǎn)磁頭機構(gòu)，包括含有使帶狀磁記錄介質(zhì)能夠在其上行進的圓柱形表面和含有可以旋轉(zhuǎn)的磁頭的旋轉(zhuǎn)磁鼓，其中所述磁頭包括面向所述帶狀磁記錄介質(zhì)、和在所述旋轉(zhuǎn)磁鼓旋轉(zhuǎn)的同時產(chǎn)生與所述帶狀磁記錄介質(zhì)的流體動力相互作用的表面；和通過產(chǎn)生與所述帶狀磁記錄介質(zhì)的磁相互作用，進行記錄或重放中的至少一種的記錄/重放部分，其中所述表面是光滑平表面；和所述記錄/重放部分位于所述帶狀磁記錄介質(zhì)與受到流體動力相互作用的所述表面相接觸的區(qū)域內(nèi)的所述表面上；和將所述磁頭的每個部分的高度設(shè)置成不超過所述旋轉(zhuǎn)磁鼓的所述圓柱形表面的高度。
6.一種旋轉(zhuǎn)磁頭機構(gòu)，包括含有使帶狀磁記錄介質(zhì)能夠在其上行進的圓柱形表面和含有可以旋轉(zhuǎn)的磁頭的旋轉(zhuǎn)磁鼓，其中所述磁頭包括面向帶狀磁記錄介質(zhì)、和在所述旋轉(zhuǎn)磁鼓旋轉(zhuǎn)的同時產(chǎn)生與所述帶狀磁記錄介質(zhì)的流體動力相互作用的表面；和通過產(chǎn)生與所述帶狀磁記錄介質(zhì)的磁相互作用，進行記錄或重放中的至少一種的記錄/重放部分，其中所述表面是光滑平表面；所述記錄/重放部分位于所述帶狀磁記錄介質(zhì)與受到流體動力相互作用的所述表面相接觸的區(qū)域內(nèi)的所述表面上；和將所述磁頭放置得從所述旋轉(zhuǎn)磁鼓的所述圓柱形表面伸出來。
7.一種旋轉(zhuǎn)磁頭機構(gòu)，包括旋轉(zhuǎn)磁鼓，包括使帶狀磁記錄介質(zhì)能夠在其上行進的圓柱形表面；在所述圓柱形表面上的、含有開孔的凹窗口部分；配置在所述窗口部分內(nèi)部的磁頭；和在所述窗口部分壁表面與所述磁頭壁表面之間形成的凹通道，其中所述磁頭包括面向所述帶狀磁記錄介質(zhì)、和在所述旋轉(zhuǎn)磁鼓旋轉(zhuǎn)的同時產(chǎn)生與所述帶狀磁記錄介質(zhì)的流體動力相互作用的表面；和通過產(chǎn)生與所述帶狀磁記錄介質(zhì)的磁相互作用，進行記錄或重放中的至少一種的記錄/重放部分，其中所述表面是光滑平表面；所述記錄/重放部分位于所述帶狀磁記錄介質(zhì)與受到流體動力相互作用的所述表面相接觸的區(qū)域內(nèi)的所述表面上；和將所述磁頭的每個部分的高度設(shè)置成不超過所述旋轉(zhuǎn)磁鼓的所述圓柱形表面的高度。
8.一種旋轉(zhuǎn)磁頭機構(gòu)，包括旋轉(zhuǎn)磁鼓，包括使帶狀磁記錄介質(zhì)能夠在其上行進的圓柱形表面；在圓柱形表面上的、含有開孔的凹窗口部分；配置在所述窗口部分內(nèi)部的磁頭；和在所述窗口部分壁表面與所述磁頭壁表面之間形成的凹通道，其中所述磁頭包括面向所述帶狀磁記錄介質(zhì)、和在所述旋轉(zhuǎn)磁鼓旋轉(zhuǎn)的同時產(chǎn)生與所述帶狀磁記錄介質(zhì)的流體動力相互作用的表面；和通過產(chǎn)生與所述帶狀磁記錄介質(zhì)的磁相互作用，進行記錄或重放中的至少一種的記錄/重放部分，其中所述表面是光滑平表面；所述記錄/重放部分位于所述帶狀磁記錄介質(zhì)與受到流體動力相互作用的所述表面相接觸的區(qū)域內(nèi)的所述表面上；和將所述磁頭放置得從所述旋轉(zhuǎn)磁鼓的所述圓柱形表面伸出來。
9.根據(jù)權(quán)利要求5、6、7、或8所述的旋轉(zhuǎn)磁頭機構(gòu)，其中面向所述帶狀磁記錄介質(zhì)的所述表面是其曲率比上述旋轉(zhuǎn)磁鼓的曲率更平緩的光滑彎曲表面。
全文摘要
本發(fā)明提供了一種用于帶狀磁記錄介質(zhì)的記錄/重放方法的磁頭和旋轉(zhuǎn)磁頭機構(gòu)。平頭FH1安裝在能夠使磁帶M在其上行進的旋轉(zhuǎn)磁鼓DR1上,面向磁帶MT、產(chǎn)生與磁帶MT的流體動力相互作用的光滑平表面PL1配置在平頭FH1上,與磁帶MT接觸和產(chǎn)生磁相互作用的磁頭單元HE1配置在磁帶MT與光滑平表面PL1相接觸的區(qū)域中。
文檔編號G11B5/53GK1363084SQ01800302
公開日2002年8月7日 申請日期2001年2月28日 優(yōu)先權(quán)日2000年2月29日
發(fā)明者高山純, 杉崎靖夫, 金口政弘 申請人:索尼公司