專利名稱：用直流電等離子聚合在金屬表面連續(xù)形成聚合物的設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及用直流電等離子聚合在金屬表面連續(xù)形成聚合物的設(shè)備，更具體地說(shuō)，是涉及用于處理金屬表面的設(shè)備，從而通過(guò)基材的表面改性或形成新薄膜材料達(dá)到最大限度地使用基材。
同時(shí)，當(dāng)可能通過(guò)等離子聚合連續(xù)形成聚合物時(shí)，將提高聚合產(chǎn)品的生產(chǎn)率。對(duì)于絕緣材料，包括樹脂、織布、非織造織物等帶型基材，通過(guò)等離子聚合連續(xù)形成聚合物比較容易，并且已經(jīng)設(shè)計(jì)了很多設(shè)備(日本專利58-120859，61-21105和2-103206)。
但是，如果使用高頻放電等離子聚合用作基材的帶型金屬并使其保持在非接地電位，連續(xù)形成聚合物就存在問(wèn)題。其中的原因是，由于金屬材料具有導(dǎo)電性，放電電壓不但要施加到電極，也要施加到金屬基材和與金屬基材接觸的金屬零件。這樣，如果使用高頻放電等離子聚合金屬基材并使其保持在非接地電位，由于金屬的導(dǎo)電性將發(fā)生不正常的放電并因此污染設(shè)備。另外，由于不穩(wěn)定的放電，金屬基材聚合的表面上的涂層易于粉化或剝落，導(dǎo)致涂層退化，產(chǎn)品等級(jí)降低。
另一方面，也可能在保持接地電位的同時(shí)通過(guò)等離子聚合連續(xù)形成聚合物。即，在保持帶型金屬材料為接地電位時(shí)使其等離子聚合并連續(xù)地輸送它。但是，如果保持接地電位，就難以得到沉積層的特性，如耐磨性，而在非接地電位的等離子聚合基材上能夠得到這些特性。
在日本特許公報(bào)6-136506中，公開了一種通過(guò)等離子聚合形成聚合物的設(shè)備。在此設(shè)備中，在保持上述非接地電位的同時(shí)通過(guò)抑制不正常放電和不穩(wěn)定放電，等離子聚合帶型基材。此設(shè)備能在預(yù)定的氣壓下產(chǎn)生等離子放電，并因此僅在電極上施加放電電壓。
此設(shè)備包括輸送室10，其中配置了一套退卷輥11和卷取輥12、一對(duì)張緊輥13和14和支撐口15；沉積室20，基材在其中沉積；輥形電極21和與輥形電極相對(duì)的相反電極22；絕緣隔板30，裝在輸送室和沉積室之間；兩個(gè)差動(dòng)口31和32，位于隔板上，用于維持輸送室和沉積室之間的壓力差；真空泵17和18，用于控制輸送室和沉積室的氣壓；氣體注入口23，用于把原材料氣體注入到沉積室；和排出口16和24，與輸送室和沉積室連接。
將待等離子聚合的基材1從輸送室10的退卷輥11，通過(guò)一側(cè)的差動(dòng)口31輸送到沉積室20。接著，輸送到輥形電極21，通過(guò)相反電極22的附近，此后，通過(guò)另一側(cè)的差動(dòng)口32輸送到輸送室10中的卷取輥12。在上述設(shè)備中，在帶型基材從輸送室輸送到沉積室，通過(guò)高頻放電進(jìn)行等離子聚合，再輸送回輸送室的過(guò)程中，沉積室的氣氛是輝光放電氣氛，輸送室的氣氛是非輝光放電氣氛，其壓力低于沉積室的壓力。
根據(jù)放電的類型，等離子放電易于在預(yù)定的氣壓下產(chǎn)生。例如，等離子聚合一般易于在10-3～10乇氣壓下產(chǎn)生。超過(guò)此范圍，難以產(chǎn)生輝光放電。這樣，既使帶型導(dǎo)電金屬材料已經(jīng)完成聚合，仍優(yōu)選將輸送室與沉積室相互分開，通過(guò)差動(dòng)口維持每個(gè)區(qū)域在不同的氣壓，沉積室的氣壓為10-3～10乇，輸送室的氣壓在上述范圍之外，從而在沉積室中產(chǎn)生輝光放電，而在輸送室中難以產(chǎn)生輝光放電，因此抑制了不正常的放電。
因此，不是在整個(gè)基材上都產(chǎn)生放電，而是如上所述通過(guò)使沉積室內(nèi)的氣壓與輸送室的氣壓產(chǎn)生差別而僅在沉積室中產(chǎn)生放電。通過(guò)這種方式，在維持帶型金屬基材在非接地電位方面，能防止除電極部分之外的金屬材料的意外放電，從而形成優(yōu)良薄膜材料的涂層。
但是，在此設(shè)備中，輥形電極作為放電電極，彎曲的相對(duì)電極作為相反電極，二者安裝在沉積室中，通過(guò)高頻放電在其中產(chǎn)生等離子反應(yīng)，待沉積基材的一個(gè)表面與輥形電極接觸。在這種情況下，基材的兩個(gè)表面位于實(shí)際發(fā)生的等離子反應(yīng)的輥形電極和相反電極之間，沉積僅出現(xiàn)在與相反電極相對(duì)的表面上，因此，為了在另一表面沉積，就需要再次進(jìn)行等離子處理，這是不方便的。
另外，在根據(jù)傳統(tǒng)工藝通過(guò)等離子聚合形成聚合物的設(shè)備中，由于使用高頻電源實(shí)現(xiàn)放電，(+)、(-)電源交替施加到作為電極的基材上。此時(shí)，如果基材處于負(fù)電壓的輝光放電氣氛，則不論相反電極處于什么位置都易于在整個(gè)基材上產(chǎn)生放電。其原因在于，當(dāng)電子從低電位部分發(fā)射時(shí)開始放電。
此外，在根據(jù)傳統(tǒng)工藝通過(guò)等離子聚合形成聚合物的設(shè)備中，為了僅在相反電極位置處產(chǎn)生放電，在輸送室和沉積室之間設(shè)置了差動(dòng)口，輸送室和沉積室的氣氛相互間有差別，即，輸送室處于非接地放電氣氛中。在這種情況下，為了防止在整個(gè)基材上產(chǎn)生放電，必須增加閉合兩室之間縫隙的裝置。為了使每個(gè)室處于設(shè)定壓力的真空下，就需要額外的真空泵。因此，增加了需要組裝的零件數(shù)量，從而提高了設(shè)備的單價(jià)。
而且，沉積室中的電極具有預(yù)定的面積。在這種情況下，在電極面積的周圍部分發(fā)生反應(yīng)氣體的碳化，從而沉積不均勻，因此降低等離子聚合產(chǎn)品的均勻性。
本發(fā)明的另一目的是提供通過(guò)直流電等離子聚合連續(xù)形成聚合物的設(shè)備，直流電等離子聚合可以通過(guò)僅在相反電極部分內(nèi)產(chǎn)生放電沉積高質(zhì)量薄膜，而不需要通過(guò)差動(dòng)口閉合室之間的縫隙，可以使基材的兩個(gè)表面在相同條件下同時(shí)進(jìn)行等離子聚合。
為實(shí)現(xiàn)以上目的，本發(fā)明提供了通過(guò)直流電等離子聚合連續(xù)形成聚合物的設(shè)備，包括輸送室，其中具有用于退卷待表面處理的基材并將之輸送到其它室中的退卷輥，還有用于卷取表面處理后的基材的卷取輥；沉積室，通過(guò)直流放電等離子體等離子聚合基材表面，其中使用基材作為一個(gè)電極，并安裝另外的、與基材相對(duì)的相反電極；與基材電氣連接的高壓電源裝置，將高壓加到基材上；絕緣部件，用于電氣絕緣高壓電源裝置和基材與設(shè)備主體間的電流通道；泵裝置，用于維持沉積室的真空度；供氣部件，用于將反應(yīng)氣體和非反應(yīng)氣體注入到沉積室。
沉積室中的基材通電時(shí)能作為電極，即，陽(yáng)極或陰極。在優(yōu)選的實(shí)施方案中，按下面的方式接入電源基材作為陽(yáng)極，相反電極作為陰極。
輸送室可以包括退卷室和卷取室，退卷室中具有用于退卷待表面處理的基材并將之輸送到其它室的退卷輥，卷取室中具有用于卷取表面處理過(guò)的基材的卷取輥。
在輸送室和沉積室之間有開口，通過(guò)它待表面處理的基材或表面處理過(guò)的基材能自由移動(dòng)。
在本發(fā)明中，高壓電源裝置的電輸送到基材上。優(yōu)選地，通過(guò)將電接到退卷輥或卷取輥，使基材作為一個(gè)電極。在這種情況下，在退卷輥或卷取輥與室中支撐退卷輥或卷取輥的位置之間設(shè)置絕緣部件。另外，通過(guò)在輸送室中把電連接到張緊輥上，與張緊輥接觸的基材能作為一個(gè)電極。
此外，在本發(fā)明的設(shè)備中，在沉積室中的基材的上下兩側(cè)都可以安裝多個(gè)電極，沿著待表面處理基材的輸送方向排列。
并且，可以在沉積室和卷取輥之間通入非反應(yīng)氣體，也可以包括一個(gè)后處理室，用于在聚合的基材上進(jìn)行后聚合。
通過(guò)下文的描述，本發(fā)明的其它優(yōu)點(diǎn)、目的和特征將更加清楚。
圖5A是在輸送室中與張緊輥接觸的基材的俯視圖；圖5B是表示將電源加到輸送室中的輥上的方法的示意圖；圖5C是支撐張緊輥的軸支撐部件的剖面圖；圖6是輸送室中的退卷輥(或卷取輥)的俯視圖。
實(shí)施優(yōu)選實(shí)施例的方式下面，參考附圖
詳細(xì)描述本發(fā)明優(yōu)選的實(shí)施例。
圖2表示根據(jù)本發(fā)明的第一個(gè)實(shí)施方案，通過(guò)直流電等離子聚合連續(xù)形成聚合物的一個(gè)設(shè)備。該設(shè)備包括退卷輥11，用于將基材1退卷并將之輸送到沉積室；卷取輥12，用于卷取聚合后的基材；沉積室20，基材在其中聚合；電極22，它安裝在沉積室內(nèi)；室壁34，位于輸送室和沉積室之間；開口33，位于室壁上，基材能通過(guò)它自由移動(dòng)；真空泵(未示出)，用于控制沉積室的壓力；氣體注入口23，用于將氣體注入沉積室；氣體排出口24，它與沉積室相通。通過(guò)在退卷輥11上通直流電40，使待聚合的基材1作為陽(yáng)極；在沉積室中作為陰極的相反電極位于待沉積的基材的兩個(gè)表面上方。
將直流電40加在退卷輥11上，然后卷在輥11上的帶型基材1被輸送到沉積室20中，其上施加有直流電。接著，在沉積室中注入反應(yīng)氣體，在基材和相反電極22間產(chǎn)生等離子體，從而在基材的表面上沉積薄膜。
由于基材1作為陽(yáng)極，而對(duì)應(yīng)的陰極22僅位于沉積室20中，因此放電區(qū)域被限制在沉積室中。因此，不需要安裝額外的真空泵，用于閉合輸送室10和沉積室20之間的縫隙，或者使兩個(gè)室處于不同的壓力。
另外，由于陰極22位于沉積室基材的兩個(gè)表面上，因此在基材的兩個(gè)表面上以相同的方式發(fā)生放電，相應(yīng)地，在兩個(gè)表面上同時(shí)完成等離子聚合。
并且，室壁裝在輸送室10和沉積室20之間，用于自由移動(dòng)基材的開口位于室壁上。室壁能有效防止在沉積室中產(chǎn)生的污染物(例如碳化的反應(yīng)氣體)擴(kuò)散到輸送室中污染基材，同時(shí)使基材在兩個(gè)室之間平穩(wěn)地移動(dòng)。
圖3表示根據(jù)本發(fā)明的第二個(gè)實(shí)施例的一個(gè)設(shè)備。該設(shè)備包括退卷室36，其中有用于將基材1退卷并將之輸送到沉積室20的退卷輥11；沉積室20，從退卷輥11輸送來(lái)的基材在其中聚合；卷取室38，其中有卷取輥12，用于卷取在沉積室20中聚合后的基材；陰極22，它安裝在沉積室內(nèi)；室壁34，分別位于退卷室36和沉積室20以及沉積室20和卷取室38之間；開口33，位于室壁上，基材能通過(guò)它自由移動(dòng)；真空泵(未示出)，用于控制沉積室的壓力；氣體注入口23，用于將氣體注入沉積室；氣體排出口24，它與沉積室相通。
此實(shí)施例中的設(shè)備與圖2所示的設(shè)備的結(jié)構(gòu)相同之處在于，直流電源40加在退卷輥11上，陰極22位于基材1的兩個(gè)表面上方，基材1通電作為陽(yáng)極。
但是，此設(shè)備與圖2所示設(shè)備的不同之處在于，退卷輥11位于退卷室中，卷取輥12位于卷取室38中，退卷室、沉積室和卷取室依次連接在一起，因此室壁34也分別裝在退卷室和沉積室以及沉積室和卷取室之間。
通過(guò)這種排列方式，沉積室中電極和基材間的相對(duì)區(qū)域能達(dá)到最大值。另外，將連續(xù)聚合過(guò)程中拉伸強(qiáng)度對(duì)基材的影響降低到可以平穩(wěn)地進(jìn)行聚合的程度。因?yàn)橥司硎液途砣∈沂窍嗷シ珠_的，可以更容易地在卷取室中安裝另外的設(shè)備。并且，也可以以不同的方式控制沉積室和卷取室，從而使基材聚合的生產(chǎn)率達(dá)到最大值。
在將電源加到基材上的實(shí)施例中，通過(guò)將電源加到退卷室的退卷輥上，即使帶型基材在聚合過(guò)程中被切斷，或者基材與退卷輥分離，在沉積室和卷取室中，電源將被自動(dòng)切斷，從而防止對(duì)設(shè)備的電沖擊。
圖4是表示根據(jù)本發(fā)明另一個(gè)實(shí)施例的設(shè)備的剖面示意圖，其中電極22a、22b、22c和22d均安裝在圖3所示的設(shè)備基材的兩個(gè)表面上。在這種電極結(jié)構(gòu)中，可以防止由于主要發(fā)生在電極周圍的碳化而污染電極，因此形成不均勻的沉積，降低產(chǎn)品的均勻度。在放電區(qū)域的均勻碳化能提高產(chǎn)品的可靠性。與圖4所示的實(shí)施例不同，也可以安裝多個(gè)電極。另外，上述電極結(jié)構(gòu)能應(yīng)用到圖2所示的設(shè)備中。
在圖4所示的實(shí)施例中，每個(gè)電極上都連接著電阻41。這個(gè)電阻通過(guò)防止每個(gè)電極上電流和電壓的變化，使穩(wěn)定地產(chǎn)生等離子體成為可能。
作為另一個(gè)把電源加到基材上的方法，將張緊輥連接到電源上。張緊輥位于輸送室的退卷輥的后面，保持基材的輸送軌跡始終與被輸送的基材保持接觸，并對(duì)基材施加拉力，以使基材不下垂。圖5A是表示基材與輸送室中的張緊輥51接觸的俯視圖，圖5B表示將電源加到輸送室中的張緊輥的方法的示意圖。
張緊輥51由軸支撐部件支撐。圖5C表示了軸支撐部件的剖面圖。軸支撐部件包括軸承53，張緊輥的軸52插在其中旋轉(zhuǎn)；支座54，軸承裝在其中；連接器57，裝在支座的一端，與高壓電源裝置連接；支架56，用于從較低的部分支撐起支座，并把張緊輥上的載荷傳遞到室的底部；絕緣件55，插在支座和支架之間，將二者電氣絕緣。軸支撐部件用于將基材作用在張緊輥上的載荷傳遞到輸送室的底部。通過(guò)將電源連接到支座的連接器57上給張緊輥51加電，結(jié)果，與張緊輥接觸的基材1成為一個(gè)電極。因此，軸支撐部件上除去絕緣件之外的每個(gè)零件以及張緊輥必須由金屬制作。
當(dāng)基材通電時(shí)，退卷輥或卷取輥必須絕緣。絕緣方法的一個(gè)實(shí)施例表示在圖6中。
輸送室包括驅(qū)動(dòng)部件60A，用于在輸送室外為退卷輥60B提供旋轉(zhuǎn)的動(dòng)力；第一驅(qū)動(dòng)軸61，直接與驅(qū)動(dòng)部件連接，用于傳遞驅(qū)動(dòng)部件的旋轉(zhuǎn)力；第二驅(qū)動(dòng)軸62，與纏繞基材的輥64和第一驅(qū)動(dòng)軸連接；軸支撐部件63a、63b，用于支撐第二驅(qū)動(dòng)軸并把基材作用在第二驅(qū)動(dòng)軸上的載荷傳遞到輸送室；絕緣聯(lián)軸器66，插在第一驅(qū)動(dòng)軸和第二驅(qū)動(dòng)軸之間，用于絕緣兩個(gè)驅(qū)動(dòng)軸。第二驅(qū)動(dòng)軸62在與驅(qū)動(dòng)部件60A相反的一側(cè)與室壁80是分離的。驅(qū)動(dòng)部件60A還可以包括電機(jī)71和減速器70。參考數(shù)字67、68和69分別表示花鍵、旋轉(zhuǎn)傳遞通道和鏈。
軸支撐部件的結(jié)構(gòu)與圖5C所示相同，包括軸承53，第二驅(qū)動(dòng)軸62的末端插入其中旋轉(zhuǎn)；支座54，軸承裝在其中；連接器57，裝在支座的一端，與高壓電源裝置連接；支架56，用于從較低的部分支撐起支座，并把第二驅(qū)動(dòng)軸上的載荷傳遞到室的底部；以及絕緣件55，插在支座和支架之間，將二者電氣絕緣。
因此，退卷輥60B的一端是以定距離間隔的，另一端通過(guò)絕緣聯(lián)軸器與驅(qū)動(dòng)部件60A連接，絕緣件55插在軸支撐部件63a和63b中，從而將退卷輥60B與室完全絕緣。這里，解釋了關(guān)于退卷輥的絕緣方法，該方法也可以相同的方式應(yīng)用到卷取輥。
同時(shí)，如果退卷輥或卷取輥通電，電源連接在裝有軸支撐部件的軸承的支座上，退卷輥或卷取輥以與上述方法相同的方式與室間絕緣。
按照本發(fā)明，不必通過(guò)差動(dòng)開口和類似的裝置閉合室之間的間隙，通過(guò)僅在相反電極區(qū)域內(nèi)產(chǎn)生放電能夠沉積高質(zhì)量的薄膜，并且基材的兩個(gè)表面可以在相同的條件下同時(shí)完成等離子聚合，從而提高了產(chǎn)品的生產(chǎn)率。另外，可以通過(guò)安裝多個(gè)電極并在放電區(qū)域內(nèi)在電極上產(chǎn)生均勻碳化達(dá)到在基材上沉積均勻的薄膜。并且，通過(guò)使用基材作為一個(gè)電極，優(yōu)選作為陽(yáng)極，能夠提高聚合的效果，根據(jù)處理?xiàng)l件，可以選擇多種給基材通電的方法。因此，本發(fā)明提供的通過(guò)直流電等離子聚合形成聚合物的設(shè)備能以更有效的方式得到高質(zhì)量的等離子聚合薄膜。
由于可以按照幾種形式實(shí)施本發(fā)明而不會(huì)偏離本發(fā)明的精神或其實(shí)質(zhì)特征，所以也應(yīng)該理解的是，上述實(shí)施例不受前面描述的任何細(xì)節(jié)所限制，除非有其它的說(shuō)明，而應(yīng)在所附權(quán)利要求限定的本發(fā)明精神和范圍內(nèi)進(jìn)行廣義地解釋。因此，所有落在權(quán)利要求的目的和范圍內(nèi)或者這些目的和范圍的等同物內(nèi)的變化和修改，均包括在所附的權(quán)利要求內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種通過(guò)直流電等離子聚合連續(xù)形成聚合物的設(shè)備，包括具有退卷輥和卷取輥的輸送室，退卷輥用于退卷待表面處理的基材并將之輸送到其它室，卷取輥用于卷取表面處理后的基材；通過(guò)直流放電等離子體等離子聚合基材表面的沉積室，其中使用基材作為一個(gè)電極，并相對(duì)于基材安裝至少一個(gè)相反電極；與基材連接用于為基材提供高壓電的高壓電源裝置；用于電氣絕緣高壓電源裝置和基材與設(shè)備主體間的電流通道的絕緣部件；維持沉積室真空度的泵裝置；以及用于將反應(yīng)氣體和非反應(yīng)氣體注入沉積室的供氣裝置。
2.權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其特征在于輸送室包括退卷室，其中具有用于退卷待表面處理的基材并將之輸送到其它室的退卷輥；和卷取室，其中具有用于卷取表面處理后的基材的卷取輥。
3.權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其特征在于沉積室中的相反電極沿待表面處理的基材的傳送方向安裝在上、下兩側(cè)。
4.權(quán)利要求1所述的設(shè)備，還包括后處理室，在其中注入非反應(yīng)氣體，以及用于聚合基材的額外聚合。
5.權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其特征在于通過(guò)在沉積室中的基材上施加高壓電，使其作為陽(yáng)極；通過(guò)在相反電極上通高壓電，使其作為陰極。
6.權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其特征在于通過(guò)以給退卷輥通電使與退卷輥接觸的基材通電的方式使基材和高壓電源裝置相互電氣連接。
7.權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其特征在于絕緣裝置安裝在室中支撐退卷輥的位置，并包括使退卷輥與室絕緣的絕緣件。
8.權(quán)利要求1、6或7所述的設(shè)備，其特征在于，為了通過(guò)退卷輥為基材供電并使電流通路與設(shè)備主體絕緣，輸送室包括在輸送室外為退卷輥提供旋轉(zhuǎn)力的驅(qū)動(dòng)部件；直接連接到驅(qū)動(dòng)部件用于傳遞驅(qū)動(dòng)部件旋轉(zhuǎn)力的第一驅(qū)動(dòng)軸；與纏繞基材的輥和第一驅(qū)動(dòng)軸連接的第二驅(qū)動(dòng)軸；用于支撐第二驅(qū)動(dòng)軸并將第二驅(qū)動(dòng)軸上的基材載荷傳遞到輸送室的軸支撐部件；插在第一驅(qū)動(dòng)軸和第二驅(qū)動(dòng)軸之間用于絕緣兩個(gè)驅(qū)動(dòng)軸的絕緣聯(lián)軸器，和所述軸支撐部件包括軸承，第二驅(qū)動(dòng)軸插在其中旋轉(zhuǎn)；支座，軸承裝在其中；連接器，裝在支座的一端并與高壓電源裝置的電源連接；支架，用于從較低的部分支撐起支座并把第二驅(qū)動(dòng)軸上的載荷傳遞到室的底部；絕緣件，插在支座和支架之間將二者電氣絕緣。
9.權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其特征在于通過(guò)以給卷取輥供電使與卷取輥接觸的基材通電的方式使基材和高壓電源裝置相互電氣連接。
10.權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其特征在于絕緣裝置位于在室中支撐卷取輥的位置，并且還包括用于將卷取輥與室絕緣的絕緣件。
11.權(quán)利要求1、9或10所述的設(shè)備，其特征在于，為了通過(guò)卷取輥為基材供電并使電流通路與設(shè)備主體絕緣，輸送室包括在輸送室外為退卷輥提供旋轉(zhuǎn)力的驅(qū)動(dòng)部件；直接連接到驅(qū)動(dòng)部件用于傳遞驅(qū)動(dòng)部件旋轉(zhuǎn)力的第一驅(qū)動(dòng)軸；與纏繞基材的輥連接和通過(guò)嚙合與第一驅(qū)動(dòng)軸連接的第二驅(qū)動(dòng)軸；用于支撐第二驅(qū)動(dòng)軸并將第二驅(qū)動(dòng)軸上的基材載荷傳遞到輸送室的軸支撐部件；插在第一驅(qū)動(dòng)軸和第二驅(qū)動(dòng)軸之間用于絕緣兩個(gè)驅(qū)動(dòng)軸的絕緣聯(lián)軸器，和所述軸支撐部件包括軸承，第二驅(qū)動(dòng)軸插在其中旋轉(zhuǎn)；支座，軸承裝在其中；連接器，裝在支座的一端并與高壓電源裝置的電源連接；支架，用于從較低的部分支撐起支座并把第二驅(qū)動(dòng)軸上的載荷傳遞到室的底部；絕緣件，插在支座和支架之間將二者電氣絕緣。
12.權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其特征在于以通過(guò)給張緊輥供電使與張緊輥接觸的基材通電的方式使基材和高壓電源裝置相互電氣連接，其中張緊輥保持基材的輸送軌跡始終與被輸送的基材保持接觸，并對(duì)基材施加拉力，以使基材不下垂。
13.權(quán)利要求1或12所述的設(shè)備，其特征在于，為了通過(guò)張緊輥為基材通電并使電流通路與設(shè)備主體絕緣，輸送室包括張緊輥；用于將張緊輥上基材的載荷傳遞到輸送室底部的軸支撐部件，和所述軸支撐部件包括軸承，張緊輥的末端插在其中旋轉(zhuǎn)；支座，軸承裝在其中；連接器，裝在支座的一端并與高壓電源裝置的電源連接；支架，用于從較低的部分支撐起支座并把張緊輥上的載荷傳遞到室的底部；絕緣件，插在支座和支架之間將二者電氣絕緣。
全文摘要
本發(fā)明涉及用直流電等離子聚合形成聚合物的設(shè)備,其特征在于,在基材上通電使其作為一個(gè)電極,在沉積室中的相反電極位于待沉積基材的兩個(gè)表面上方。另外,通過(guò)將主體與通電的基材間絕緣,本發(fā)明能夠獲得在聚合期間的安全性。
文檔編號(hào)B01J19/08GK1370329SQ00811854
公開日2002年9月18日 申請(qǐng)日期2000年8月14日 優(yōu)先權(quán)日1999年8月21日
發(fā)明者鄭永萬(wàn), 李守源, 尹東植 申請(qǐng)人:Lg電子株式會(huì)社