)被吸附于形成在加強(qiáng)板(基板)上的吸附層而構(gòu)成為層疊體。之后，在層疊體的狀態(tài)下在基板的表面形成功能層。然后，在形成功能層之后，從基板上剝離加強(qiáng)板和吸附層。
[0039]〔層疊體I〕
[0040]圖1是表示層疊體I的一例的主要部分放大側(cè)視圖。
[0041]層疊體I包括供功能層形成的基板2和用于對(duì)基板2進(jìn)行加強(qiáng)的加強(qiáng)板(基板)3。另外，加強(qiáng)板3在表面3a具有樹(shù)脂層(吸附層)4，在樹(shù)脂層4上吸附有基板2的背面2b。即，基板2在作用于基板2與樹(shù)脂層4之間的范德華力或樹(shù)脂層4的粘合力的作用下，隔著樹(shù)脂層4被吸附于加強(qiáng)板3。
[0042][基板2]
[0043]基板2在表面2a形成有功能層。作為基板2，能夠例示玻璃基板、陶瓷基板、樹(shù)脂基板、金屬基板、半導(dǎo)體基板。在這些基板中，玻璃基板的耐藥品性、耐透濕性優(yōu)異，而且，線膨脹系數(shù)較小，因此適合作為電子設(shè)備用的基板2。另外，隨著線膨脹系數(shù)變小，也具有在高溫下形成的功能層的圖案在冷卻時(shí)難以發(fā)生偏移的優(yōu)點(diǎn)。
[0044]作為玻璃基板的玻璃，能夠例示無(wú)堿玻璃、硼硅酸玻璃、鈉鈣玻璃、高硅玻璃、以其他氧化硅為主要成分的氧化物系玻璃。作為氧化物系玻璃，優(yōu)選以氧化物計(jì)的氧化硅的含量為40質(zhì)量％?90質(zhì)量％的玻璃。
[0045]玻璃基板的玻璃優(yōu)選選擇并采用與所制造的電子設(shè)備的種類相適合的玻璃。例如，液晶面板用的玻璃基板優(yōu)選采用實(shí)質(zhì)上不含堿金屬成分的玻璃(無(wú)堿玻璃)。
[0046]基板2的厚度根據(jù)基板2的種類進(jìn)行設(shè)定。例如，在基板2采用玻璃基板的情況下，基板2的厚度為了電子設(shè)備的輕型化、薄板化而優(yōu)選設(shè)定為0.7mm以下，更優(yōu)選設(shè)定為0.3mm以下，進(jìn)一步優(yōu)選設(shè)定為0.1mm以下。當(dāng)厚度為0.3mm以下時(shí)，能夠賦予玻璃基板良好的撓性。而且，當(dāng)厚度為0.1mm以下時(shí)，能夠?qū)⒉ＡЩ寰頌榫頎?，但是基于玻璃基板的制造的觀點(diǎn)以及玻璃基板的處理的觀點(diǎn)考慮，玻璃基板的厚度優(yōu)選為0.03mm以上。
[0047]另外，在圖1中，基板2由一張基板構(gòu)成，但是基板2也可以由多張基板構(gòu)成。即，基板2也能夠由層疊了多張基板而得到的層疊體構(gòu)成。在該情況下，構(gòu)成層疊體的所有基板的合計(jì)厚度成為上述厚度范圍。另外，在該情況下，構(gòu)成層疊體的基板的種類也可以不同。
[0048][加強(qiáng)板3]
[0049]作為加強(qiáng)板3，能夠例示玻璃基板、陶瓷基板、樹(shù)脂基板、金屬基板、半導(dǎo)體基板或者層疊了這些板狀體而得到的板狀體。
[0050]加強(qiáng)板3的種類根據(jù)所制造的電子設(shè)備的種類、電子設(shè)備所使用的基板2的種類等進(jìn)行選擇。若加強(qiáng)板3與基板2是相同的材質(zhì)，則能夠減少由溫度變化引起的翹曲、剝離。
[0051]加強(qiáng)板3與基板2之間的平均線膨脹系數(shù)之差(絕對(duì)值)根據(jù)基板2的尺寸形狀等適當(dāng)?shù)卦O(shè)定，優(yōu)選為35X10_7/°C以下。在此，“平均線膨脹系數(shù)”是指50°C?300°C溫度范圍內(nèi)的平均線膨脹系數(shù)(日本工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)JIS R3102:1995)。另外，日本工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)JISR3102:1995的內(nèi)容作為參照被引用于此。
[0052]優(yōu)選的是，加強(qiáng)板3的厚度設(shè)定為0.7mm以下，根據(jù)加強(qiáng)板3的種類、所加強(qiáng)的基板2的種類、厚度等進(jìn)行設(shè)定。另外，加強(qiáng)板3的厚度既可以比基板2的厚度厚，也可以比基板2的厚度薄，但是為了對(duì)基板2進(jìn)行加強(qiáng)而優(yōu)選為0.4mm以上。
[0053]另外，在本例中，加強(qiáng)板3由一張基板構(gòu)成，但是加強(qiáng)板3也能夠由層疊了多張基板而得到的層疊體構(gòu)成。在該情況下，構(gòu)成層疊體的所有加強(qiáng)板的合計(jì)厚度成為上述厚度范圍。另外，在該情況下，構(gòu)成層疊體的加強(qiáng)板的種類也可以不同。
[0054][樹(shù)脂層4]
[0055]為了防止在樹(shù)脂層4與加強(qiáng)板3之間剝離而將樹(shù)脂層4與加強(qiáng)板3之間的結(jié)合力設(shè)定得比樹(shù)脂層4與基板2之間的結(jié)合力高。由此，在樹(shù)脂層4與基板2之間，從基板2上剝離加強(qiáng)板3。
[0056]構(gòu)成樹(shù)脂層4的樹(shù)脂并不特別限定，能夠例示丙烯酸類樹(shù)脂、聚烯烴樹(shù)脂、聚氨酯樹(shù)脂、聚酰亞胺樹(shù)脂、有機(jī)硅樹(shù)脂、聚酰亞胺有機(jī)硅樹(shù)脂。也能夠混合使用幾種樹(shù)脂。其中，基于耐熱性、剝離性的觀點(diǎn)考慮而優(yōu)選有機(jī)硅樹(shù)脂、聚酰亞胺樹(shù)脂、聚酰亞胺有機(jī)硅樹(shù)脂，基于耐熱性和高溫處理后的剝離性的觀點(diǎn)考慮而優(yōu)選有機(jī)硅樹(shù)脂或聚酰亞胺樹(shù)脂。在本實(shí)施方式中，作為樹(shù)脂層4，例示有機(jī)硅樹(shù)脂層。
[0057]在本發(fā)明中使用的有機(jī)硅樹(shù)脂優(yōu)選為日本特開(kāi)2011 - 046174號(hào)公報(bào)所公開(kāi)的有機(jī)硅樹(shù)脂。例如，所述有機(jī)硅樹(shù)脂是含有下述線性有機(jī)聚硅氧烷(a)與下述線性有機(jī)聚硅氧烷(b)的固化性有機(jī)硅樹(shù)脂組合物的固化物，優(yōu)選的是使用通過(guò)使所述固化性有機(jī)硅樹(shù)脂組合物在所述加強(qiáng)板的表面固化而形成的固化有機(jī)硅樹(shù)脂層。
[0058]線性有機(jī)聚硅氧烷(a):是每一個(gè)分子具有至少兩個(gè)鏈烯基的線性有機(jī)聚硅氧烷。
[0059]線性有機(jī)聚硅氧烷(b):是每一個(gè)分子具有至少3個(gè)鍵合于硅原子的氫原子的線性有機(jī)聚硅氧烷，而且，是前述鍵合于硅原子的氫原子中的至少一個(gè)存在于分子末端的硅原子的線性有機(jī)聚硅氧烷。
[0060]樹(shù)脂層4的厚度并不特別限定，優(yōu)選設(shè)定為I μ m?50 μ m，更優(yōu)選設(shè)定為4 μ m?20 μ mo通過(guò)將樹(shù)脂層4的厚度設(shè)為I ym以上，從而當(dāng)氣泡、異物混入樹(shù)脂層4與基板2之間時(shí)，能夠利用樹(shù)脂層4的變形來(lái)吸收氣泡、異物的厚度。另一方面，通過(guò)將樹(shù)脂層4的厚度設(shè)為50 μ m以下，能夠縮短樹(shù)脂層4的形成時(shí)間，而且不必過(guò)度使用樹(shù)脂層4的樹(shù)脂，因此是經(jīng)濟(jì)的。
[0061]另外，為了能夠使加強(qiáng)板3支承樹(shù)脂層4整體，樹(shù)脂層4的外形優(yōu)選與加強(qiáng)板3的外形相同或者比加強(qiáng)板3的外形小。另外，為了能夠使樹(shù)脂層4緊貼基板2整體，樹(shù)脂層4的外形優(yōu)選與基板2的外形相同或者比基板2的外形大。
[0062]另外，在圖1中，樹(shù)脂層4由一層構(gòu)成，但是樹(shù)脂層4也能夠由兩層以上構(gòu)成。在該情況下，構(gòu)成樹(shù)脂層4的所有層的合計(jì)厚度成為樹(shù)脂層的厚度。另外，在該情況下，構(gòu)成各層的樹(shù)脂的種類也可以不同。
[0063]而且，在本實(shí)施方式中，作為吸附層使用了作為有機(jī)膜的樹(shù)脂層4，但是取代樹(shù)脂層4也可以使用無(wú)機(jī)層。構(gòu)成無(wú)機(jī)層的無(wú)機(jī)膜例如含有從由金屬硅化物、氮化物、碳化物及碳氮化物構(gòu)成的組中選擇的至少一種。
[0064]金屬硅化物例如含有從由W、Fe、Mn、Mg、Mo、Cr、Ru、Re、Co、N1、Ta、T1、Zr 及 Ba 構(gòu)成的組中選擇的至少一種，優(yōu)選為硅化鎢。
[0065]氮化物例如含有從由S1、Hf、Zr、Ta、T1、Nb、Na、Co、Al、Zn、Pb、Mg、Sn、In、B、Cr、Mo及Ba構(gòu)成的組中選擇的至少一種，優(yōu)選為氮化鋁、氮化鈦或氮化硅。
[0066]碳化物例如含有從由T1、W、S1、Zr及Nb構(gòu)成的組中選擇的至少一種，優(yōu)選為碳化娃。
[0067]碳氮化物例如含有從由T1、W、S1、Zr及Nb構(gòu)成的組中選擇的至少一種，優(yōu)選為碳氮化娃。
[0068]金屬硅化物、氮化物、碳化物及碳氮化物在其材料中所含有的S1、N或C與在其材料中所含有的其他元素之間的電負(fù)性之差較小，極化較小。因此，無(wú)機(jī)膜與水之間的反應(yīng)性較低，難以在無(wú)機(jī)膜的表面產(chǎn)生羥基。因此，無(wú)機(jī)膜與作為玻璃基板的基板2之間的脫模性保持得良好。
[0069]在層疊體I的基板2的表面2a形成有功能層。作為功能層的形成方法，使用CVD (Chemical Vapor Deposit1n:化學(xué)氣相沉積)法、PVD (Physical Vapor Deposit1n:物理氣相沉積)法等蒸鍍法、濺射法。功能層利用光刻法、蝕刻法形成為預(yù)定的圖案。在基板2的表面2a形成了功能層之后，加強(qiáng)板3和樹(shù)脂層4自基板2剝離。
[0070]〔劃痕施加裝置10的結(jié)構(gòu)〕
[0071]接著，說(shuō)明用于對(duì)自基板2剝離了的加強(qiáng)板3上的樹(shù)脂層4施加劃痕的劃痕施加裝置10。
[0072]圖2是表示劃痕施加裝置10的一例的立體圖，圖3是表示劃痕施加裝置10的整體結(jié)構(gòu)的說(shuō)明圖。
[0073]劃痕施加裝置10包括作為劃痕施加部件的旋轉(zhuǎn)自如的輥刷(輥狀刷構(gòu)件)12和作為移動(dòng)部件的輥式輸送機(jī)14等而構(gòu)成。
[0074]輥刷12通過(guò)在圓盤或圓柱狀的芯材16的周圍嵌設(shè)刷18而構(gòu)成。另外，輥刷12的長(zhǎng)度L構(gòu)