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一種真空吸附裝置的制作方法

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一種真空吸附裝置的制造方法

本發(fā)明涉及一種真空吸附裝置。



背景技術(shù):

在一些生產(chǎn)設(shè)備或生產(chǎn)線上,對(duì)一些板狀零部件需要進(jìn)行運(yùn)送或移動(dòng)。而真空輸運(yùn)的方法就是一種可采用的方式。有些板狀零部件如果人工用手操作會(huì)對(duì)板面造成污染或損傷,影響板的質(zhì)量,包括可能的靜電危害。



技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:

本發(fā)明主要解決的技術(shù)問(wèn)題是提供一種真空吸附裝置,該真空吸附裝置可以利用真空吸附來(lái)輸運(yùn)一些板形的零部件,對(duì)所輸運(yùn)零部件的表面損傷小,沒(méi)有靜電危害。

為解決上述技術(shù)問(wèn)題,本發(fā)明采用的一個(gè)技術(shù)方案是:提供一種真空吸附裝置,包括承載板和升降板,所述升降板位于所述承載板的上方,所述升降板與所述承載板平行,所述承載板的頂面上設(shè)置有一凹槽,所述真空吸附裝置所吸附的被吸附板設(shè)置在所述凹槽內(nèi),所述升降板上垂直設(shè)置有兩根升降桿,所述兩根升降桿的底端均設(shè)置有吸嘴,所述升降板上還設(shè)置有驅(qū)動(dòng)所述升降板進(jìn)行升降和水平運(yùn)動(dòng)的驅(qū)動(dòng)裝置。

在本發(fā)明一個(gè)較佳實(shí)施例中,所述升降桿為中空的管狀,所述升降桿的頂端連接有氣管,所述氣管內(nèi)充有負(fù)壓氣體。

在本發(fā)明一個(gè)較佳實(shí)施例中,所述凹槽的深度小于所述被吸附板的深度。

在本發(fā)明一個(gè)較佳實(shí)施例中,所述吸嘴與所述升降桿的所述中空部分連通。

本發(fā)明的有益效果是:本發(fā)明的真空吸附裝置可以利用真空吸附來(lái)輸運(yùn)一些板形的零部件,對(duì)所輸運(yùn)零部件的表面損傷小,沒(méi)有靜電危害。

附圖說(shuō)明

為了更清楚地說(shuō)明本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案,下面將對(duì)實(shí)施例描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹,顯而易見(jiàn)地,下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實(shí)施例,對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)講,在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下,還可以根據(jù)這些附圖獲得其它的附圖,其中:

圖1是本發(fā)明的真空吸附裝置的實(shí)施例示意圖。

附圖中各部件的標(biāo)記如下:1、承載板,2、凹槽,3、被吸附板,4、升降板,5、升降桿,6、吸嘴,7、驅(qū)動(dòng)裝置,8、氣管。

具體實(shí)施方式

下面將對(duì)本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述,顯然,所描述的實(shí)施例僅是本發(fā)明的一部分實(shí)施例,而不是全部的實(shí)施例。基于本發(fā)明中的實(shí)施例,本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒(méi)有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其它實(shí)施例,都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。

請(qǐng)參閱圖1,本發(fā)明實(shí)施例包括:

一種真空吸附裝置,包括承載板1和升降板4,所述升降板4位于所述承載板1的上方,所述升降板4與所述承載板1平行,所述承載板1的頂面上設(shè)置有一凹槽2,所述真空吸附裝置所吸附的被吸附板3設(shè)置在所述凹槽2內(nèi),所述升降板4上垂直設(shè)置有兩根升降桿5,所述兩根升降桿5的底端均設(shè)置有吸嘴6,所述升降板4上還設(shè)置有驅(qū)動(dòng)所述升降板4進(jìn)行升降和水平運(yùn)動(dòng)的驅(qū)動(dòng)裝置7。

優(yōu)選地,所述升降桿5為中空的管狀,所述升降桿5的頂端連接有氣管8,所述氣管8內(nèi)充有負(fù)壓氣體。

優(yōu)選地,所述凹槽2的深度小于所述被吸附板3的深度。

優(yōu)選地,所述吸嘴6與所述升降桿5的所述中空部分連通。

驅(qū)動(dòng)裝置7驅(qū)動(dòng)升降板4下降,升降板4帶動(dòng)升降桿5和吸嘴6下降,吸嘴6壓住被吸附板3,在氣管8內(nèi)負(fù)壓氣體的作用下吸嘴6將被吸附板3吸附住。驅(qū)動(dòng)裝置7驅(qū)動(dòng)升降板4上升將被吸附板3提起并可以移走。整個(gè)過(guò)程不需要人工的手接觸被吸附板3,不會(huì)對(duì)被吸附板3造成表面污染或是靜電損害。

以上所述僅為本發(fā)明的實(shí)施例,并非因此限制本發(fā)明的專利范圍,凡是利用本發(fā)明說(shuō)明書(shū)內(nèi)容所作的等效結(jié)構(gòu)或等效流程變換,或直接或間接運(yùn)用在其它相關(guān)的技術(shù)領(lǐng)域,均同理包括在本發(fā)明的專利保護(hù)范圍內(nèi)。

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