軸22連接，該轉軸22上設有同步轉動的蝸桿23，轉軸22的兩端均設有軸承24。
[0034]結合圖4和圖5所示，托盤4包括兩個縱梁41及設于縱梁41之間的橫梁42，每個縱梁41上均設于端面朝上的第一定位球71，橫梁42上設有端面朝上的第二定位球72，并且，兩個第一定位球71和第二定位球72處于三角位置(即非直線上)并能重復定位光學元件10 ；
[0035]具體地，參考圖6所示，縱梁41橫向延伸有一承接板61，該承接板61下端面設有一調節(jié)板62，該調節(jié)板62的下端面設有一水平托板63，第一定位球71則設于該水平托板上。結合圖7所示，橫梁42下端設有一調節(jié)板65，調節(jié)板65下端面設有一水平托板64，第二定位球72則設于該水平托板64上
[0036]結合圖2所示，絲桿3的豎直地設置于托盤4的橫梁42上，上端具有轉動配合的旋轉螺母31，旋轉螺母31的外壁套設有一同步轉動的蝸輪32，該蝸輪32上成型有與蝸桿23嚙合傳動的蝸齒。
[0037]結合圖4所示，導向機構5對稱地布置于托盤4的兩側。每個導向機構5包括滑軌51和滑塊52，滑軌51豎直地設置于縱梁41上；滑塊52設于連接板14上并與滑軌51滑動導向配合。
[0038]進一步，旋轉螺母31設于一安裝座33內，該安裝座33上具有與絲桿3轉動配合的軸承34，安裝座33位于軸承34兩端分別設有擋圈36，對應地，絲桿3的上端和下端均設有與擋圈36限位配合的限位螺母35。
[0039]結合圖5所示，縱梁41向外延伸有一感應塊44，對應地，連接板14的下端部設于一供感應塊44觸碰以促使電機2停止工作的限位開關91和限位開關92 (見圖1所示)。
[0040]離子束拋光加工需要在真空環(huán)境進行，被加工的光學元件10首先被安裝于傳遞室真空室的上件工位，通過真空室與工藝真空室的傳遞窗傳遞送至工藝真空室加工工位后，關閉傳遞窗的插閥門。光學元件提升定位裝置啟動，首先電機2啟動旋轉，通過聯(lián)軸器21帶動蝸桿23軸轉動，通過鍵傳動帶動蝸桿23轉動，蝸桿23轉動帶動渦輪轉動，渦輪與旋轉螺母31通過緊定螺釘聯(lián)接在一起，因此，旋轉螺母31與渦輪同步轉動，旋轉螺母31轉動帶動提升桿轉動，由于旋轉螺母31固定不動，提升桿在轉動的同時將上下移動，提升桿9上下移動帶動放置有光學元件10的托盤4上下運動，達到被加工的光學元件10提升、定位要求。
[0041]真空系統(tǒng)啟動待工藝真空度等指標滿足工藝要求，系統(tǒng)發(fā)出指令，離子束運動系統(tǒng)啟動，進行離子束沉積修整加工。
[0042]此提升定位裝置提起被加工的光學元件的豎直方向的重復定位精度達到0.003mm，同時由于光學元件10提升盤2的機構包含有三個定位球，三點定位球將被加工的光學元件10的平面重復定位誤差為0.001mm。
【主權項】
1.一種真空室光學元件升降定位裝置，其特征在于包括 架體，包括至少兩塊立板及設于立板上的頂板； 電機，設于前述頂板上并具有水平輸出的動力輸出端，該動力輸出端上連接有一蝸桿， 托盤，包括至少兩個縱梁及設于縱梁之間的橫梁，每個縱梁上均設于端面朝上的第一定位球，前述橫梁上也設有端面朝上的第二定位球，并且，前述的兩個第一定位球和第二定位球處于非直線上并能重復定位光學元件； 絲桿，豎直地設置于前述托盤的橫梁上，上端具有轉動配合的旋轉螺母，該旋轉螺母外壁具有與前述蝸桿轉動配合的蝸齒，所述頂板開設有供絲桿通過的通孔；以及 導向機構，對稱地布置于前述托盤的兩側。2.根據(jù)權利要求1所述的真空室光學元件升降定位裝置，其特征在于所述的頂板下端面向下延伸設置有連接板，所述的導向機構包括 滑軌，豎直地設置于所述的縱梁上；以及 滑塊，設于前述的連接板上并與前述滑軌滑動導向配合。3.根據(jù)權利要求1所述的真空室光學元件升降定位裝置，其特征在于所述的旋轉螺母設于一安裝座內，該安裝座上具有與絲桿轉動配合的軸承，所述安裝座位于軸承兩端分別設有擋圈，對應地，所述絲桿的上端和下端均設有與前述擋圈限位配合的限位螺母。4.根據(jù)權利要求1或3所述的真空室光學元件升降定位裝置，其特征在于所述的縱梁向外延伸有一感應塊，對應地，所述連接板的下端部設于一供前述感應塊觸碰以促使電機停止工作的限位開關。5.根據(jù)權利要求1所述的真空室光學元件升降定位裝置，其特征在于所述縱梁橫向延伸有一承接板，該承接板下端面設有一調節(jié)板，該調節(jié)板的下端面設有一水平托板，所述的第一定位球則設于該水平托板上。6.根據(jù)權利要求1所述的真空室光學元件升降定位裝置，其特征在于所述電機輸出端設有一聯(lián)軸器，該聯(lián)軸器與一轉軸連接，該轉軸上設有同步轉動的蝸桿。7.根據(jù)權利要求1所述的真空室光學元件升降定位裝置，其特征在于所述旋轉螺母的外壁套設有一同步轉動的蝸輪，該蝸輪上成型有所述的蝸齒。
【專利摘要】一種真空室光學元件升降定位裝置，其特征在于包括架體、電機、托盤、絲桿及導向機構，架體包括至少兩塊立板及設于立板上的頂板；電機的動力輸出端上連接有一蝸桿，托盤包括至少兩個縱梁及設于縱梁之間的橫梁，每個縱梁上均設于端面朝上的第一定位球，前述橫梁上也設有端面朝上的第二定位球，并且，前述的兩個第一定位球和第二定位球處于非直線上并能重復定位光學元件；絲桿豎直地設置于前述托盤的橫梁上，上端具有轉動配合的旋轉螺母，該旋轉螺母外壁具有與前述蝸桿轉動配合的蝸齒。與現(xiàn)有技術相比，本發(fā)明的優(yōu)點在于：整體結構簡單、使用方便，控制精確并容易調整提升距離；具有精確的三點定位機構使得重復定位誤差較小。
【IPC分類】B24B41/02, B24B13/005, B24B13/00
【公開號】CN105234772
【申請?zhí)枴緾N201510661587
【發(fā)明人】王大森, 聶鳳明, 吳慶堂, 張廣平, 郭成君, 裴寧, 紀淑花, 朱鴻磊
【申請人】中國兵器科學研究院寧波分院
【公開日】2016年1月13日
【申請日】2015年10月14日