技術編號：9481307
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。隨著科學技術的迅速發(fā)展，強激光光學系統(tǒng)和高清晰度光學系統(tǒng)，如戰(zhàn)術激光武器光學系統(tǒng)、遠距離紫外與紅外成像探測系統(tǒng)、深空光電探測系統(tǒng)、輕質(zhì)穩(wěn)像觀瞄系統(tǒng)、激光雷達系統(tǒng)、深紫外與極紫外光刻系統(tǒng)等，對具有亞納米級表面粗糙度和納米級面型精度光學元件的需求日益迫切，需要依靠超精密光學元件及其制造技術來實現(xiàn)。先進光電系統(tǒng)發(fā)展的要求日益提升，“超精密”所對應的精度和表面質(zhì)量也在日益精細化。以表面粗糙度和面型精度為例，超光滑的尺度已經(jīng)發(fā)展到表面粗糙度達到lnm以下，面型精度優(yōu)...
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