鍍膜機(jī)用抽真空接口裝置及鍍膜系統(tǒng)的制作方法
【專利摘要】一種鍍膜機(jī)用抽真空接口裝置，包括：本體，為具有開(kāi)口端及封閉端的筒狀結(jié)構(gòu)，且本體的側(cè)壁上設(shè)有接口，開(kāi)口端用于與鍍膜機(jī)連接，以使本體與鍍膜機(jī)的腔體連通，接口用于與抽真空設(shè)備連接；過(guò)濾網(wǎng)，具有容納腔及缺口，容置于本體內(nèi)，過(guò)濾網(wǎng)具有缺口的部分沿本體的周向固定于本體的開(kāi)口端的內(nèi)壁上，用于使過(guò)濾網(wǎng)的容納腔與鍍膜機(jī)的腔體連通，過(guò)濾網(wǎng)遠(yuǎn)離缺口的部分位于接口與封閉端之間，用于沉積進(jìn)入容納腔內(nèi)的碎片。本實(shí)施實(shí)用新型還提供一種鍍膜系統(tǒng)，該鍍膜系統(tǒng)具有較高的生產(chǎn)效率。
【專利說(shuō)明】鍍膜機(jī)用抽真空接口裝置及鍍膜系統(tǒng)

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及玻璃鍍膜【技術(shù)領(lǐng)域】，特別是涉及一種鍍膜機(jī)用抽真空接口裝置及鍍膜系統(tǒng)。

【背景技術(shù)】
[0002]在多種因素的影響下，TFT (Thin Film Transistor，薄膜晶體管)玻璃在鍍膜過(guò)程中容易產(chǎn)生破裂，進(jìn)而掉落在真空腔體中。在連續(xù)生產(chǎn)的過(guò)程中，由于真空鍍膜機(jī)的進(jìn)片室與出片室的真空度較低，需要用抽真空裝置在短時(shí)間內(nèi)提高進(jìn)片室與出片室的真空度。而傳統(tǒng)的真空鍍膜機(jī)的抽氣口處設(shè)置的過(guò)濾網(wǎng)為平面狀。在快速抽氣的過(guò)程中，氣流會(huì)把玻璃碎片抽到抽氣口處，堆積在過(guò)濾網(wǎng)上。而堆積在過(guò)濾網(wǎng)上的玻璃碎片會(huì)阻塞過(guò)濾網(wǎng)，進(jìn)而影響抽氣速率。需要經(jīng)常開(kāi)箱清理玻璃碎片才能正常的抽真空，耽誤正常生產(chǎn)時(shí)間且增加工作量，從而導(dǎo)致真空鍍膜機(jī)的生產(chǎn)效率低下。
實(shí)用新型內(nèi)容
[0003]基于此，有必要提供一種具有較高生產(chǎn)效率的鍍膜機(jī)用抽真空接口裝置及鍍膜系統(tǒng)。
[0004]一種鍍膜機(jī)用抽真空接口裝置，包括:
[0005]本體，為具有開(kāi)口端及封閉端的筒狀結(jié)構(gòu)，且所述本體的側(cè)壁上設(shè)有接口，所述開(kāi)口端用于與鍍膜機(jī)連接，以使所述本體與鍍膜機(jī)的腔體連通，所述接口用于與抽真空設(shè)備連接；
[0006]過(guò)濾網(wǎng)，具有容納腔及缺口，容置于所述本體內(nèi)，所述過(guò)濾網(wǎng)具有缺口的部分沿所述本體的周向固定于所述本體的開(kāi)口端的內(nèi)壁上，用于使所述過(guò)濾網(wǎng)的容納腔與鍍膜機(jī)的腔體連通，所述過(guò)濾網(wǎng)遠(yuǎn)離所述缺口的部分位于所述接口與所述封閉端之間，用于沉積進(jìn)入所述容納腔內(nèi)的碎片。
[0007]在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述過(guò)濾網(wǎng)遠(yuǎn)離所述缺口的部分與所述本體的封閉端接觸。
[0008]在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述接口距離所述封閉端的距離為所述本體長(zhǎng)度的1/3?1/2。
[0009]在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述過(guò)濾網(wǎng)與所述本體的形狀相同，所述過(guò)濾網(wǎng)的外壁與所述本體的內(nèi)壁匹配且接觸。
[0010]在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述本體與所述過(guò)濾網(wǎng)呈圓柱體形。
[0011]一種鍍膜系統(tǒng),包括:
[0012]鍍膜機(jī)，具有腔體；
[0013]抽真空設(shè)備；及
[0014]上述鍍膜機(jī)用抽真空接口裝置，所述開(kāi)口端連接于所述鍍膜機(jī)上，且所述本體及所述過(guò)濾網(wǎng)的容納腔與所述鍍膜機(jī)的腔體連通；所述接口通過(guò)抽氣管道與所述抽真空設(shè)備連接；
[0015]其中，所述本體在所述鍍膜系統(tǒng)中位于豎直方向上。
[0016]在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述過(guò)濾網(wǎng)遠(yuǎn)離所述缺口的部分與所述本體的封閉端接觸。
[0017]在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述接口距離所述封閉端的距離為所述本體長(zhǎng)度的1/3?1/2。
[0018]在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述過(guò)濾網(wǎng)與所述本體的形狀相同，所述過(guò)濾網(wǎng)的外壁與所述本體的內(nèi)壁匹配且接觸。
[0019]在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述本體與所述過(guò)濾網(wǎng)呈圓柱體形。
[0020]采用上述鍍膜機(jī)用抽真空接口裝置的鍍膜系統(tǒng)工作時(shí)，例如，生產(chǎn)鍍膜玻璃時(shí)。玻璃等物質(zhì)的碎片隨著氣流進(jìn)入至過(guò)濾網(wǎng)中，并沉積于過(guò)濾網(wǎng)遠(yuǎn)離缺口的部分內(nèi)。從而在連續(xù)生產(chǎn)的過(guò)程中，不會(huì)出現(xiàn)玻璃等物質(zhì)的碎片阻塞過(guò)濾網(wǎng)的情況。不需要在中途開(kāi)箱清理玻璃等物質(zhì)的碎片。只需要在一個(gè)生產(chǎn)周期結(jié)束后，設(shè)備停機(jī)保養(yǎng)時(shí)，開(kāi)箱，用吸塵器將沉積于過(guò)濾網(wǎng)中的玻璃等物質(zhì)的碎片吸出即可。因此，在連續(xù)生產(chǎn)的過(guò)程中，上述鍍膜系統(tǒng)具有較高的生產(chǎn)效率。

【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0021]圖1為一實(shí)施方式的鍍膜系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖。

【具體實(shí)施方式】
[0022]為了便于理解本實(shí)用新型，下面將參照相關(guān)附圖對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行更全面的描述。附圖中給出了本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例。但是，本實(shí)用新型可以以多種不同的形式來(lái)實(shí)現(xiàn)，并不限于本文所描述的實(shí)施例。相反地，提供這些實(shí)施例的目的是使對(duì)本實(shí)用新型的公開(kāi)內(nèi)容的理解更加透徹全面。
[0023]需要說(shuō)明的是，當(dāng)元件被稱為“固定于”另一個(gè)元件，它可以直接在另一個(gè)元件上或者也可以存在居中的元件。當(dāng)一個(gè)元件被認(rèn)為是“連接”另一個(gè)元件，它可以是直接連接到另一個(gè)元件或者可能同時(shí)存在居中元件。
[0024]除非另有定義，本文所使用的所有的技術(shù)和科學(xué)術(shù)語(yǔ)與屬于本實(shí)用新型的【技術(shù)領(lǐng)域】的技術(shù)人員通常理解的含義相同。本文中在本實(shí)用新型的說(shuō)明書(shū)中所使用的術(shù)語(yǔ)只是為了描述具體的實(shí)施例的目的，不是旨在于限制本實(shí)用新型。本文所使用的術(shù)語(yǔ)“及/或”包括一個(gè)或多個(gè)相關(guān)的所列項(xiàng)目的任意的和所有的組合。
[0025]如圖1所示，一實(shí)施方式的鍍膜系統(tǒng)10，包括鍍膜機(jī)100、抽真空設(shè)備200及鍍膜機(jī)用抽真空接口裝置300。
[0026]鍍膜機(jī)100具有腔體110。在本實(shí)施方式中，鍍膜機(jī)100包括進(jìn)片室、鍍膜室及出片室。鍍膜機(jī)100具有多個(gè)腔體110，分別為進(jìn)片室形成的腔體、鍍膜室形成的腔體及出片室形成的腔體。
[0027]在本實(shí)施方式中，抽真空設(shè)備200為真空泵。可以理解，在其他實(shí)施方式中，抽真空設(shè)備200也可以為其他能抽真空的設(shè)備。
[0028]鍍膜機(jī)用抽真空接口裝置300，包括本體310及過(guò)濾網(wǎng)320。
[0029]本體310為具有開(kāi)口端312及封閉端314的筒狀結(jié)構(gòu)。本體310的側(cè)壁上設(shè)有接口 316。開(kāi)口端312用于與鍍膜機(jī)100連接，以使本體310與鍍膜機(jī)100的腔體110連通。接口 316用于與抽真空設(shè)備300連接。
[0030]過(guò)濾網(wǎng)320具有容納腔(圖未標(biāo))及缺口(圖未標(biāo))。過(guò)濾網(wǎng)320容置于本體310內(nèi)。過(guò)濾網(wǎng)320具有缺口的部分沿本體310的周向固定于本體310的開(kāi)口端312的內(nèi)壁上，用于使過(guò)濾網(wǎng)320的容納腔與鍍膜機(jī)100的腔體110連通。過(guò)濾網(wǎng)320遠(yuǎn)離缺口的部分322位于接口 316與封閉端314之間，用于沉積進(jìn)入容納腔內(nèi)的碎片。在本實(shí)施方式中，進(jìn)入容納腔內(nèi)的碎片為玻璃碎片?？梢岳斫?，在其他實(shí)施方式中，進(jìn)入容納腔內(nèi)的碎片也可以為陶瓷碎片等。
[0031]上述鍍膜機(jī)用抽真空接口裝置300中的開(kāi)口端312連接于鍍膜機(jī)100上，且本體310及過(guò)濾網(wǎng)320的容納腔均與鍍膜機(jī)100的腔體110連通。接口 316通過(guò)抽氣管道210與抽真空設(shè)備200連接。在本實(shí)施方式中，本體310在鍍膜系統(tǒng)10中位于豎直方向上，以便進(jìn)入過(guò)濾網(wǎng)320的容納腔內(nèi)的碎片在自身重量的作用下，沉積于過(guò)濾網(wǎng)320的容納腔內(nèi)。
[0032]進(jìn)一步，在本實(shí)施方式中，過(guò)濾網(wǎng)320遠(yuǎn)離缺口的部分與本體310的封閉端314接觸。當(dāng)玻璃等碎片物質(zhì)沉積于過(guò)濾網(wǎng)320中時(shí)，本體310的封閉端314對(duì)過(guò)濾網(wǎng)320能起到一定的支撐作用。進(jìn)而能有效保護(hù)過(guò)濾網(wǎng)320，增加過(guò)濾網(wǎng)320的使用壽命。
[0033]進(jìn)一步，在本實(shí)施方式中，接口 316距離封閉端314的距離為本體310長(zhǎng)度的1/3?1/2。從而使得過(guò)濾網(wǎng)320具有足夠的空間來(lái)沉積玻璃等碎片物質(zhì)。
[0034]進(jìn)一步，在本實(shí)施方式中，過(guò)濾網(wǎng)320與本體310的形狀相同，且過(guò)濾網(wǎng)320的外壁與本體310的內(nèi)壁匹配且接觸。過(guò)濾網(wǎng)320具有確定的結(jié)構(gòu)，從而使得在過(guò)濾網(wǎng)320即使在較大氣流的作用下，也不會(huì)出現(xiàn)過(guò)濾網(wǎng)320位于接口 315處的內(nèi)壁接觸的問(wèn)題。也即玻璃等碎片物質(zhì)在進(jìn)入過(guò)濾網(wǎng)320的容納腔中的過(guò)程中不會(huì)受到阻力。
[0035]進(jìn)一步，在本實(shí)施方式中，本體310與過(guò)濾網(wǎng)320均呈圓柱體形。可以理解，在他實(shí)施方式中，本體310與過(guò)濾網(wǎng)320可以均成長(zhǎng)方體形。
[0036]采用上述鍍膜機(jī)用抽真空接口裝置300的鍍膜系統(tǒng)10工作時(shí)，例如，生產(chǎn)鍍膜玻璃時(shí)。玻璃等物質(zhì)的碎片隨著氣流進(jìn)入至過(guò)濾網(wǎng)320中，并沉積于過(guò)濾網(wǎng)320遠(yuǎn)離缺口的部分內(nèi)。從而在連續(xù)生產(chǎn)的過(guò)程中，不會(huì)出現(xiàn)玻璃等物質(zhì)的碎片阻塞過(guò)濾網(wǎng)320的情況。不需要在中途開(kāi)箱清理玻璃等物質(zhì)的碎片。只需要在一個(gè)生產(chǎn)周期結(jié)束后，設(shè)備停機(jī)保養(yǎng)時(shí)，開(kāi)箱，用吸塵器將沉積于過(guò)濾網(wǎng)中的玻璃等物質(zhì)的碎片吸出即可。因此，在連續(xù)生產(chǎn)的過(guò)程中，上述鍍膜系統(tǒng)10具有較高的生產(chǎn)效率。
[0037]以上所述實(shí)施例僅表達(dá)了本實(shí)用新型的幾種實(shí)施方式，其描述較為具體和詳細(xì)，但并不能因此而理解為對(duì)本實(shí)用新型專利范圍的限制。應(yīng)當(dāng)指出的是，對(duì)于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來(lái)說(shuō)，在不脫離本實(shí)用新型構(gòu)思的前提下，還可以做出若干變形和改進(jìn)，這些都屬于本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。因此，本實(shí)用新型專利的保護(hù)范圍應(yīng)以所附權(quán)利要求為準(zhǔn)。
【權(quán)利要求】
1.一種鍍膜機(jī)用抽真空接口裝置，其特征在于，包括: 本體，為具有開(kāi)口端及封閉端的筒狀結(jié)構(gòu)，且所述本體的側(cè)壁上設(shè)有接口，所述開(kāi)口端用于與鍍膜機(jī)連接，以使所述本體與鍍膜機(jī)的腔體連通，所述接口用于與抽真空設(shè)備連接； 過(guò)濾網(wǎng)，具有容納腔及缺口，容置于所述本體內(nèi)，所述過(guò)濾網(wǎng)具有缺口的部分沿所述本體的周向固定于所述本體的開(kāi)口端的內(nèi)壁上，用于使所述過(guò)濾網(wǎng)的容納腔與鍍膜機(jī)的腔體連通，所述過(guò)濾網(wǎng)遠(yuǎn)離所述缺口的部分位于所述接口與所述封閉端之間，用于沉積進(jìn)入所述容納腔內(nèi)的碎片。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鍍膜機(jī)用抽真空接口裝置，其特征在于，所述過(guò)濾網(wǎng)遠(yuǎn)離所述缺口的部分與所述本體的封閉端接觸。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的鍍膜機(jī)用抽真空接口裝置，其特征在于，所述接口距離所述封閉端的距離為所述本體長(zhǎng)度的1/3?1/2。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的鍍膜機(jī)用抽真空接口裝置，其特征在于，所述過(guò)濾網(wǎng)與所述本體的形狀相同，所述過(guò)濾網(wǎng)的外壁與所述本體的內(nèi)壁匹配且接觸。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的鍍膜機(jī)用抽真空接口裝置，其特征在于，所述本體與所述過(guò)濾網(wǎng)呈圓柱體形。
6.—種鍍膜系統(tǒng),其特征在于,包括: 鍍膜機(jī)，具有腔體； 抽真空設(shè)備 '及 如權(quán)利要求1所述的鍍膜機(jī)用抽真空接口裝置，所述開(kāi)口端連接于所述鍍膜機(jī)上，且所述本體及所述過(guò)濾網(wǎng)的容納腔與所述鍍膜機(jī)的腔體連通；所述接口通過(guò)抽氣管道與所述抽真空設(shè)備連接； 其中，所述本體在所述鍍膜系統(tǒng)中位于豎直方向上。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的鍍膜系統(tǒng)，其特征在于，所述過(guò)濾網(wǎng)遠(yuǎn)離所述缺口的部分與所述本體的封閉端接觸。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的鍍膜系統(tǒng)，其特征在于，所述接口距離所述封閉端的距離為所述本體長(zhǎng)度的1/3?1/2。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的鍍膜系統(tǒng)，其特征在于，所述過(guò)濾網(wǎng)與所述本體的形狀相同，所述過(guò)濾網(wǎng)的外壁與所述本體的內(nèi)壁匹配且接觸。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的鍍膜系統(tǒng)，其特征在于，所述本體與所述過(guò)濾網(wǎng)呈圓柱體形。
【文檔編號(hào)】C23C14/56GK203834011SQ201420073797
【公開(kāi)日】2014年9月17日 申請(qǐng)日期:2014年2月20日 優(yōu)先權(quán)日:2014年2月20日
【發(fā)明者】陽(yáng)威, 張迅, 易偉華 申請(qǐng)人:江西沃格光電股份有限公司