用于制備糖食產(chǎn)品的方法和設(shè)備的制造方法
【專利說明】用于制備糖食產(chǎn)品的方法和設(shè)備
[0001] 本發(fā)明設(shè)及用于制備糖食產(chǎn)品的方法和設(shè)備。具體地講，本發(fā)明設(shè)及利用氣體射 流使糖食產(chǎn)品成形的方法，W及在所述方法中使用的設(shè)備。
[0002] 常見的糖食產(chǎn)品包括裝有填充物的糖食外殼，例如，裝有焦糖或其他對比鮮明的 填充物的巧克力外殼。巧克力外殼通常W殼模制法或冷沖壓法制得。
[0003] 在殼模制法(也稱為模反轉(zhuǎn)）中，模盤中的模腔被烙融巧克力完全填滿后再被部分 地冷卻，使得接觸模腔的巧克力凝固。接著，模具被反轉(zhuǎn)并搖晃，使得模具中央的烙融巧克 力傾出，留下巧克力外殼。運種方法效率不高，因為它需要大量多余的巧克力，而運些多余 的巧克力必須重新使用。所得外殼可能不均勻，而且過程十分雜亂。
[0004] 冷沖壓法更有效率，因為它只需要少量多余的巧克力料團，并且所得外殼通常很 均勻。在運種方法中，烙融巧克力被沉積到模具中，然后利用被冷卻的壓?；驔_模壓制成 形，該被冷卻的壓?；驔_模也起到使巧克力凝固的作用。然后移除壓模，留下固體的或半固 體的巧克力外殼。然而，運種方法依賴強化的模具或沖模，因此需要高昂的初期投資。還有 一個問題是液體在壓模表面上冷凝的風險，運對最終產(chǎn)品可能極度不利。為避免該問題，運 種方法必須在低濕度氣氛中實施。將壓模維持在低溫(如，(TC或更低溫度)下還消耗大量能 源。
[0005] 本發(fā)明尋求緩解上述一些問題。
[0006] 根據(jù)本發(fā)明的第一方面，提供了形成糖食產(chǎn)品的方法，所述方法包括
[0007] 將烙融或半固體糖食沉積到模具中，并且
[000引在糖食處于至少半固體時，通過向其中施加氣體射流使其成形，
[0009] 其中，氣體射流的溫度比糖食的溫度低。
[0010] 根據(jù)本發(fā)明的第二方面，提供了氣體射流使烙融或半固體糖食成形的用途。
[0011] 應(yīng)當理解，所謂"成形"是指氣體射流向糖食施加足W移動模具內(nèi)的糖食的力。換 句話講，氣體射流改變模具內(nèi)糖食材料的整體=維形狀。由于氣體射流的溫度比糖食的溫 度低，糖食同時被冷卻。
[0012] 氣體射流被施加于糖食，直至糖食凝固到足W使糖食在不再施加氣體射流后保持 氣體射流所賦予的形狀的程度。在一些實施例中，施加氣體射流直至糖食部分地凝固（即半 固體）?；蛘?，可施加氣體射流直至糖食完全凝固。
[0013] 通過利用氣體射流使糖食成形，除模具之外沒有其他設(shè)備與糖食接觸。所述方法 可避免需要殼模制法所要求的大量多余糖食材料，它還可克服提供低濕度氣氛的問題，并 且更節(jié)能，因為不像冷沖壓法那樣需要低溫壓模。
[0014] 應(yīng)當理解，W下陳述可視情況同等地適用于本發(fā)明的第一方面和第二方面，除非 另有說明。
[0015] 在一些實施例中，所述方法包括將烙融糖食沉積到模具中。在運些實施例中，氣體 射流被施加于糖食，直至糖食至少部分地凝固。
[0016] 在一些實施例中，所述方法包括沉積半固體狀態(tài)下的糖食。如本文所用，"半固體" 應(yīng)被理解為意指糖食未完全烙化，并且在糖食料團中已形成一些固態(tài)晶體，但所述糖食仍 可流動(例如，具有與28°C下的已調(diào)溫巧克力料團相似的流動特性）。
[0017] 在一些實施例中，所述方法包括向糖食施加至少2股、至少4股、至少6股、至少10股 或至少15股氣體射流。應(yīng)當理解，將根據(jù)一系列因素來選擇氣體射流的數(shù)量、強度和方向， W及施加氣體射流的持續(xù)時間，運些因素包括所需的糖食產(chǎn)品形狀和所沉積的糖食質(zhì)量。 使用兩股或更多股氣體射流能夠向糖食提供更均勻的氣流和多方向的力，從而有利于使糖 食成形。還應(yīng)當理解，可將多股氣體射流施加于單個模腔內(nèi)的糖食料團，或者可將多股氣體 射流中的每一股施加于不同的模腔。
[0018] 氣體射流產(chǎn)生氣層，即（相對于環(huán)境壓力而言）壓力增大的=維區(qū)域，所述氣層的 力足W移動模腔內(nèi)的糖食并使其成形。氣體射流賦予糖食的力必須足W使糖食成形，但不 會過高而使糖食完全移出模具或者在糖食中產(chǎn)生孔。
[0019] 在一些實施例中，氣體射流的壓強為至少1.5己（150000帕）、至少2己（200000帕）、 至少3己（300000帕）或至少4己（400000帕）。在另外的實施例中，所述壓強為不超過10己 (1000000帕）、不超過8己（800000帕)或不超過6己（600000帕）。在優(yōu)選的實施例中，所述壓 強為從2至6己（200000至600000帕）。
[0020] 在一些實施例中，在出氣口、氣孔或噴嘴的排出點測得的氣體射流中氣體的速度 為至少2、4、6、8、10、12、14、16、18或20111/3。在另外的實施例中，該流速為不超過25、20、15、 12或lOm/s。在一些實施例中，所述速度為從8至20m/s或從15至20m/s。
[0021] 應(yīng)當理解，施加氣體射流于糖食的持續(xù)時間足W使糖食形成所需形狀(就巧克力 而言，同時不會使料團去調(diào)溫），并且足W使糖食凝固到讓糖食能保持該形狀的程度。因此， 施加氣體射流的持續(xù)時間將取決于糖食的類型和質(zhì)量、糖食的沉積溫度(即，糖食是烙融的 還是半固體的）、氣體射流的速度/溫度W及所需的形狀。在一些實施例中，施加氣體射流于 糖食的時間持續(xù)至少0.5秒、至少1秒、至少2秒、至少3秒、至少5秒或至少8秒。在另外的實施 例中，施加氣體射流于糖食的持續(xù)時間不超過15、10、7、5、3、2.5或2秒。在一個實施例中，施 加氣體射流于糖食的持續(xù)時間為從1至3秒。
[0022] 可在成形過程中連續(xù)施加氣體射流于糖食，或者可按從0.1秒至3秒或從0.5秒至1 秒的時間間隔脈沖式地施加氣體射流。例如，氣體射流可W連發(fā)陣流來施加，每個連發(fā)陣流 從0.5至5秒，各連發(fā)陣流間隔從0.1至1秒。
[0023] 在成形過程中施加于糖食的力可為不變的，或者可為可變的。在一些實施例中，氣 體射流的壓強在成形過程中保持不變。在其他實施例中，在成形過程中增大或減小氣體射 流的壓強，W改變施加于糖食的力直至獲得所需的形狀。例如，可按5秒一陣的氣流施加氣 體射流，所述氣體射流具有6己(600000帕）的初始壓強，該初始壓強線性下降至4己(400000 帕）的壓強。
[0024] 氣體射流可由包括一個或更多個出氣口的設(shè)備提供。應(yīng)當理解，可根據(jù)糖食的類 型、氣體的壓強和所需的形狀來調(diào)整多個出氣口相對于糖食的位置。由氣體射流施加于糖 食的力是可通過改變(增加或減少)模具/糖食和出氣口之間的距離，和/或如上所述改變氣 體的壓強變化的。在一些實施例中，在將糖食沉積到模具中后，所述方法包括增加由氣體射 流施加于烙融糖食的力。運可通過減少出氣口與模具內(nèi)糖食之間的距離，或者通過增加氣 體的速度來實現(xiàn)。在一個實施例中，糖食與出氣口之間的距離為從5至100mm、從10至50mm、 從15至30mm或大約20mm。
[0025]在一些實施例中，將預(yù)定質(zhì)量的糖食沉積到模具中。所沉積的質(zhì)量將取決于所需 產(chǎn)品的大小和形狀。所沉積的糖食的質(zhì)量可等于形成產(chǎn)品所需的質(zhì)量。在一些實施例中，過 量的糖食料團被沉積到模具中。運考慮了在成形過程中少量糖食移出模具的情況。
[00%]應(yīng)當理解，"模具"可包括單個腔，或者其可包括多個腔。例如，典型的620mmX 320mm模具可包括12個適用于模制100g糖食片劑的腔。
[0027] 要形成單獨的注屯、產(chǎn)品，被沉積到模具(或者多腔模具的模腔）中的料團可為從約 2至約10克，或者從約3至約7克（如，約6克）?；蛘撸怀练e到模腔中的料團可為從15g至 150g、從30g至100g或從50g至75g(如，W形成糖食片劑）。應(yīng)當理解，對于此類相對較大的糖 食產(chǎn)品，可施加多股氣體射流W使糖食料團成形?？蓪⑦\些氣體射流結(jié)合W在糖食料團中 形成單個形狀（如，單個空桐），或者可施加多股氣體射流W在糖食料團中形成多個形狀 (如，多個空桐）。
[0028] 所述氣體可為與糖食相容的任何氣體，例如空氣、二氧化碳或惰性氣體諸如氮或 氣。如本文所用，"惰性"應(yīng)被理解為意指所述氣體在所使用的條件下與糖食不起反應(yīng)。在特 定實施例中，所述氣體為空氣。
[0029] 為使糖食冷卻并至少部分地凝固，氣體射流的溫度低于糖食的溫度。在一些實施 例中，氣體射流被施加于糖食，直至糖食部分地凝固。在此類實施例中，所述方法還可包括