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薄膜層邊緣清除裝置及清除方法

文檔序號(hào):6959437閱讀:136來(lái)源:國(guó)知局
專利名稱:薄膜層邊緣清除裝置及清除方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種清除裝置,尤其涉及一種利用激光器對(duì)太陽(yáng)能電池基板的薄膜層 邊緣進(jìn)行清除的裝置及清除方法。
背景技術(shù)
太陽(yáng)能是人類取之不盡用之不竭的可再生能源。也是清潔能源,不產(chǎn)生任何的環(huán) 境污染。在太陽(yáng)能的有效利用當(dāng)中;大陽(yáng)能光電利用是近些年來(lái)發(fā)展最快,最具活力的研 究領(lǐng)域,是其中最受矚目的項(xiàng)目之一。薄膜太陽(yáng)電池作為太陽(yáng)能的應(yīng)用設(shè)備,可以使用在價(jià) 格低廉的玻璃、塑料、陶瓷、石墨,金屬片等不同材料當(dāng)基板來(lái)制造,形成可產(chǎn)生電壓的薄膜 厚度僅需數(shù)微米,目前轉(zhuǎn)換效率最高以可達(dá)13%。薄膜電池太陽(yáng)電池除了平面之外,也因 為具有可撓性可以制作成非平面構(gòu)造其應(yīng)用范圍大,可與建筑物結(jié)合或是變成建筑體的一 部份,應(yīng)用非常廣泛。在薄膜太陽(yáng)電池中,非晶硅薄膜太陽(yáng)能電池因?yàn)槠涑杀镜停夜に嚦?熟,發(fā)展迅猛,成為目前最成熟的技術(shù),非晶硅(a-Si)太陽(yáng)電池是在玻璃(glass)襯底上 沉積透明導(dǎo)電膜(TCO),然后依次用等離子體反應(yīng)沉積ρ型、i型、η型三層a-Si,接著再蒸 鍍金屬電極鋁(Al).光從玻璃面入射,電池電流從透明導(dǎo)電膜和鋁引出,其結(jié)構(gòu)可表示為 glass/TCO/pin/Al,還可以用不銹鋼片、塑料等作襯底。隨著人們對(duì)能源的需求量日益增大,太陽(yáng)能電池作為新興的環(huán)保資源,其應(yīng)用越 來(lái)越廣泛,相應(yīng)地,太陽(yáng)能電池制造產(chǎn)業(yè)也引起廣闊的應(yīng)用前景而不斷發(fā)展壯大。鍍膜是薄 膜太陽(yáng)能電池生產(chǎn)過(guò)程中一個(gè)必備工藝流程,薄膜太陽(yáng)能電池鍍膜時(shí)容易產(chǎn)生周邊的鍍膜 不完整的缺陷,其薄膜層邊緣具有不均勻性,容易剝落,會(huì)影響到后續(xù)工藝,影響電池板的 性能和最終的成品封裝。激光蝕刻是一種能在非晶硅薄膜太陽(yáng)能電池的四周5 10毫米 帶狀區(qū)域用激光蝕刻掉薄膜層的邊緣的新興技術(shù),能有效保證太陽(yáng)能電池片大小統(tǒng)一完整 封裝,保證良好的絕緣性與成品制作。然而現(xiàn)有的太陽(yáng)能電池基板的薄膜層的激光蝕刻設(shè) 備結(jié)構(gòu)復(fù)雜,生產(chǎn)效率低,蝕刻精度不高,因此,有必要一種高效可靠、能快速有效清除太陽(yáng) 能電池基板的薄膜層的邊緣的清除裝置來(lái)解決上述需求。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的一個(gè)目的在于提供一種高效可靠、能快速有效清除太陽(yáng)能電池基板的薄 膜層的邊緣,提高成品質(zhì)量的薄膜層邊緣清除裝置。本發(fā)明的另一目的在于提供一種高效可靠、能快速有效清除太陽(yáng)能電池基板的薄 膜層的邊緣,提高成品質(zhì)量的薄膜層邊緣清除方法。為實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明的技術(shù)方案為提供一種薄膜層邊緣清除裝置,適用于對(duì) 太陽(yáng)能電池基板上的薄膜層的邊緣進(jìn)行清除,其包括激光器、Y軸軌道、兩X軸軌道、兩滑 臺(tái)、至少兩推動(dòng)機(jī)構(gòu)及至少兩夾持機(jī)構(gòu),兩所述X軸軌道沿X軸方向呈水平置放并相互平行 設(shè)置,所述基板位于兩所述X軸軌道之間并沿X軸方向傳輸,所述基板上的薄膜層向下,所 述滑臺(tái)與所述X軸軌道滑動(dòng)連接,所述夾持機(jī)構(gòu)對(duì)稱固定在所述滑臺(tái)上并對(duì)基板的邊緣進(jìn)
3行夾持和釋放,所述推動(dòng)機(jī)構(gòu)對(duì)稱固定在所述滑臺(tái)上并沿Y軸方向?qū)λ龌暹M(jìn)行水平推 動(dòng),所述Y軸軌道垂直橫跨兩所述X軸軌道并位于所述滑臺(tái)、基板的上方,所述激光器與所 述Y軸軌道滑動(dòng)連接,所述激光器具有激光頭且所述激光頭位于所述基板的上方,所述激 光頭正對(duì)所述基板的邊緣。較佳地,還包括吸塵槽及負(fù)壓吸塵器,所述吸塵槽沿Y軸軌道設(shè)于兩所述X軸軌道 之間并位于所述基板的下方,所述激光頭正對(duì)所述吸塵槽。所述負(fù)壓吸塵器的吸塵口與所 述吸塵槽連通。薄膜層的所有邊緣都在吸塵槽上邊被蝕刻,隨重力自然飄落的塵粉被負(fù)壓 吸塵器及時(shí)吸走,能低能高效完成除塵功能,及時(shí)排除蝕刻完成的薄膜塵粉,高度清潔,提 高成品質(zhì)量。較佳地,所述激光器位于所述X軸軌道的中部。由于基板需隨滑臺(tái)與X軸軌道的 滑動(dòng)最終實(shí)現(xiàn)基板四周邊緣的蝕刻,X軸軌道的長(zhǎng)度需大于基板沿前進(jìn)方向的長(zhǎng)度,將激光 器設(shè)置于X軸軌道的中部,能最大范圍減小X軸軌道的長(zhǎng)度,減小占地面積,節(jié)約設(shè)備資源, 降低成本,使薄膜層邊緣清除裝置更加緊湊。相應(yīng)地,本發(fā)明同時(shí)還提供了 一種使用上述薄膜層邊緣清除裝置對(duì)太陽(yáng)能電池基 板上的薄膜層的邊緣進(jìn)行清除的清除方法,所述基板由外界滾輪送至兩X軸軌道之間,設(shè) 定所述基板沿輸入方向的前邊緣為第一邊緣,沿輸入方向的后邊緣為第三邊緣,與激光器 的起始位置位于同一側(cè)的基板邊緣為第四邊緣,位于與激光器的起始位置相對(duì)側(cè)的邊緣為 第二邊緣,所述清除方法包括以下步驟(1)由基板第二邊緣同側(cè)的推動(dòng)機(jī)構(gòu)將基板水平 推動(dòng)并由第四邊緣同側(cè)的夾持機(jī)構(gòu)將基板夾持住,通過(guò)滑臺(tái)與X軸軌道的滑動(dòng)連接,將基 板定位在使第一邊緣正對(duì)激光頭的位置,激光器從激光頭發(fā)射激光,并沿Y軸軌道對(duì)基板 的第一邊緣進(jìn)行蝕刻清除;( 滑臺(tái)帶動(dòng)基板沿基板輸入方向繼續(xù)向前滑動(dòng),激光器對(duì)基 板的第二邊緣進(jìn)行蝕刻清除;( 激光器沿Y軸軌道返回對(duì)基板的第三邊緣進(jìn)行蝕刻清除; (4)松開(kāi)夾持住基板的夾持機(jī)構(gòu),并通過(guò)同側(cè)第四邊緣的推動(dòng)機(jī)構(gòu)將基板水平推動(dòng)并由第 二邊緣同側(cè)的夾持機(jī)構(gòu)將基板夾持住,滑臺(tái)帶動(dòng)基板沿基板輸入方向的反向向后滑動(dòng),激 光器對(duì)基板的第四邊緣進(jìn)行蝕刻清除。與現(xiàn)有技術(shù)相比,由于本發(fā)明的薄膜層邊緣清除裝置通過(guò)兩X軸軌道與Y軸軌道 架設(shè)了基板與激光器的活動(dòng)軌道,為激光器對(duì)基板的四周邊緣的薄膜進(jìn)行蝕刻清除提供平 臺(tái),通過(guò)推動(dòng)機(jī)構(gòu)與夾持機(jī)構(gòu)實(shí)現(xiàn)對(duì)基板的定位抓取,保證蝕刻過(guò)程的穩(wěn)定可靠性,基板送 入兩X軸軌道之間后,由一邊的推動(dòng)機(jī)構(gòu)把基板推向另一邊,并由另一邊所在的夾持機(jī)構(gòu) 將基板夾持固定,然后通過(guò)激光器沿Y軸軌道清除基板的一邊,由滑臺(tái)帶動(dòng)基板沿X軸軌道 滑動(dòng)在激光器的蝕刻下清除一邊,接著激光器沿Y軸軌道回程蝕刻清除基板的第三邊,之 后再公開(kāi)原先夾持基板的夾持機(jī)構(gòu),將基板通過(guò)推動(dòng)機(jī)構(gòu)推向?qū)叄瑩Q邊夾持基板,滑臺(tái)帶 動(dòng)基板沿X軸軌道滑動(dòng)在激光器的蝕刻下清除基板的第四邊,最后松開(kāi)夾持機(jī)構(gòu),送出基 板,動(dòng)作連貫,操作簡(jiǎn)單,由于基板上的薄膜層向下,激光從激光頭射出并穿透過(guò)玻璃的基 板對(duì)薄膜層進(jìn)行蝕刻,激光頭位于基板的上方,從而保證薄膜層的邊緣被激光器蝕刻后隨 重力自然飄落,不殘留在基板上,保證較高的清潔度,本發(fā)明的薄膜層邊緣清除裝置能高效 可靠、同時(shí)快速有效地清除太陽(yáng)能電池板上的薄膜層的邊緣,提高電池板成品質(zhì)量。相應(yīng) 地,本發(fā)明所提供的薄膜層邊緣清除方法也實(shí)現(xiàn)了高效可靠、快速有效清除太陽(yáng)能電池板 薄膜層邊緣,提高成品質(zhì)量的效果。


圖1是本發(fā)明薄膜層邊緣清除裝置的俯視結(jié)構(gòu)示意圖。圖2是圖1中所示基板的結(jié)構(gòu)示意圖。圖3是本發(fā)明薄膜層邊緣清除方法的流程圖。
具體實(shí)施例方式現(xiàn)在參考附圖描述本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例,附圖中類似的元件標(biāo)號(hào)代表類似的元 件。如上所述,本發(fā)明提供一種薄膜層邊緣清除裝置,適用于對(duì)太陽(yáng)能電池基板上的薄膜層 的邊緣進(jìn)行清除,通過(guò)利用激光蝕刻方法處理基板的薄膜層邊緣,一般蝕刻的寬度為5-10 毫米,根據(jù)實(shí)際需要選擇不同的激光器。參考圖1及圖2,本發(fā)明實(shí)施例的薄膜層邊緣清除裝置包括激光器20、Y軸軌道 30、兩X軸軌道40、兩滑臺(tái)50、至少兩推動(dòng)機(jī)構(gòu)60及至少兩夾持機(jī)構(gòu)70,兩所述X軸軌道 40沿X軸方向呈水平置放并相互平行設(shè)置,基板10位于兩所述X軸軌道40之間并沿X軸 方向傳輸,如圖2所示,所述基板10具有薄膜層15,在本發(fā)明的薄膜層邊緣清除裝置中,所 述基板10上的薄膜層15向下,所述滑臺(tái)50與所述X軸軌道40滑動(dòng)連接,在本發(fā)明的實(shí)施 例中,所述夾持機(jī)構(gòu)70數(shù)量?jī)?yōu)選為6,所述推動(dòng)機(jī)構(gòu)60的數(shù)量?jī)?yōu)選為8,6個(gè)所述夾持機(jī)構(gòu) 70對(duì)稱固定在所述滑臺(tái)50上并對(duì)基板10的邊緣進(jìn)行夾持和釋放,8個(gè)所述推動(dòng)機(jī)構(gòu)60對(duì) 稱固定在所述滑臺(tái)50上并沿Y軸方向?qū)λ龌?0進(jìn)行水平推動(dòng),所述推動(dòng)機(jī)構(gòu)60可選 為直線電機(jī)或通過(guò)絲杠傳動(dòng)等方式傳遞驅(qū)動(dòng),所述推動(dòng)機(jī)構(gòu)60的推動(dòng)端可設(shè)置有推動(dòng)板, 有利于更穩(wěn)定可靠地作用基板10,實(shí)現(xiàn)基板10沿Y軸的位置調(diào)節(jié)。所述Y軸軌道30垂直 橫跨兩所述X軸軌道40并位于所述滑臺(tái)50、基板10的上方,所述激光器20與所述Y軸軌 道30滑動(dòng)連接,所述激光器20具有激光頭(圖未示)且所述激光頭位于所述基板10的上 方,所述激光頭正對(duì)所述基板10的邊緣。較佳地,還包括吸塵槽80和負(fù)壓吸塵器(圖未示),所述吸塵槽80沿Y軸軌道30 設(shè)于兩所述X軸軌道40之間并位于所述基板10的下方,所述激光頭正對(duì)所述吸塵槽80。 所述負(fù)壓吸塵器的吸塵口與所述吸塵槽80連通。所有薄膜層的邊緣都在吸塵槽80上邊被 蝕刻,隨重力自然飄落的塵粉被負(fù)壓吸塵器及時(shí)吸走,能低能高效完成除塵功能,及時(shí)排除 蝕刻完成的薄膜塵粉,高度清潔,提高成品質(zhì)量。較佳地,所述激光器20位于所述X軸軌道40的中部。由于基板10需隨滑臺(tái)50與 X軸軌道40的滑動(dòng)最終實(shí)現(xiàn)基板10四周邊緣的蝕刻,X軸軌道40的長(zhǎng)度需大于基板10沿 前進(jìn)方向的長(zhǎng)度,將激光器20設(shè)置于X軸軌道40的中部,能最大范圍減小X軸軌道40的 長(zhǎng)度,減小占地面積,節(jié)約設(shè)備資源,降低成本,使薄膜層邊緣清除裝置更加緊湊。參考圖3,相應(yīng)地,本發(fā)明同時(shí)還提供了一種使用上述薄膜層邊緣清除裝置對(duì)太陽(yáng) 能基板上的薄膜層的邊緣進(jìn)行清除的清除方法,所述基板10由外界滾輪送至兩X軸軌道40 之間,設(shè)定所述基板10沿輸入方向的前邊緣為第一邊緣11,沿輸入方向的后邊緣為第三邊 緣13,與激光器20的起始位置位于同一側(cè)的基板邊緣為第四邊緣14,位于與激光器20的 起始位置相對(duì)側(cè)的邊緣為第二邊緣12,所述清除方法包括以下步驟(SOl)由基板第二邊緣同側(cè)的推動(dòng)機(jī)構(gòu)將基板水平推動(dòng)并由第四邊緣同側(cè)的夾持
5機(jī)構(gòu)將基板夾持住,通過(guò)滑臺(tái)與X軸軌道的滑動(dòng)連接,將基板定位在使第一邊緣正對(duì)激光 頭的位置,激光器從激光頭發(fā)射激光,并沿Y軸軌道對(duì)基板的第一邊緣進(jìn)行蝕刻清除;(S02)滑臺(tái)帶動(dòng)基板沿基板輸入方向繼續(xù)向前滑動(dòng),激光器對(duì)基板的第二邊緣進(jìn) 行蝕刻清除;(S03)激光器沿Y軸軌道返回對(duì)基板的第三邊緣進(jìn)行蝕刻清除;(S04)松開(kāi)夾持住基板的夾持機(jī)構(gòu),并通過(guò)同側(cè)第四邊緣的推動(dòng)機(jī)構(gòu)將基板水平 推動(dòng)并由同側(cè)第二邊緣的夾持機(jī)構(gòu)將基板夾持住,滑臺(tái)帶動(dòng)基板沿基板輸入方向的反向向 后滑動(dòng),激光器對(duì)基板的第四邊緣進(jìn)行蝕刻清除。參考圖1至圖3,本發(fā)明實(shí)施例的薄膜層邊緣清除裝置的工作原理如下所述所述 激光器20位于基板10的第四邊緣14的同側(cè),基板10由外界滾輪類的傳輸裝置傳送入兩 X軸軌道40之后,通過(guò)基板10第二邊緣12 —側(cè)的推動(dòng)機(jī)構(gòu)60推動(dòng)基板10向第四邊緣14 一側(cè)水平移動(dòng),并利用第四邊緣14 一側(cè)的夾持機(jī)構(gòu)70對(duì)基板10的進(jìn)行抓取,此時(shí),基板10 的第四邊緣14為夾持邊,可實(shí)現(xiàn)對(duì)其他邊緣的清除,通過(guò)滑臺(tái)50與X軸軌道40的滑動(dòng)連 接,調(diào)整使基板10的第一邊緣11與激光器20的激光頭正對(duì),該對(duì)位過(guò)程可通過(guò)傳感器實(shí) 現(xiàn)精確對(duì)位,激光器20沿Y軸軌道30水平滑動(dòng)清除基板10的第一邊緣11,激光器20滑動(dòng) 至Y軸軌道30的另一端并與基板10的第二邊緣12對(duì)準(zhǔn),接著由滑臺(tái)50帶動(dòng)基板10沿X 軸軌道40滑動(dòng)在激光器20的蝕刻下清除第二邊緣12,再接著激光器20沿Y軸軌道30沿 回程方向滑動(dòng)蝕刻清除基板10的第三邊緣13,之后再公開(kāi)原先夾持基板10的第四邊緣14 的夾持機(jī)構(gòu)70,將基板10通過(guò)推動(dòng)機(jī)構(gòu)60推向?qū)叄沟诙吘?2被夾持,換邊夾持基板 10,對(duì)位后滑臺(tái)50帶動(dòng)基板10沿X軸軌道40滑動(dòng)在激光器20的蝕刻下清除基板10的第 四邊緣14,最后松開(kāi)夾持機(jī)構(gòu)70,送出基板10,動(dòng)作連貫,操作簡(jiǎn)單,蝕刻清除效果好,本發(fā) 明的推動(dòng)機(jī)構(gòu)60、夾持機(jī)構(gòu)70、激光器20以及滑臺(tái)50的驅(qū)動(dòng)均可同時(shí)電連接一控制器,實(shí) 現(xiàn)自動(dòng)化控制。與現(xiàn)有技術(shù)相比,由于本發(fā)明的薄膜層邊緣清除裝置通過(guò)兩X軸軌道40與Y軸軌 道30架設(shè)了基板10與激光器20的活動(dòng)軌道,為激光器20對(duì)基板10薄膜層15的四周邊 緣的蝕刻清除提供平臺(tái),通過(guò)推動(dòng)機(jī)構(gòu)60與夾持機(jī)構(gòu)70實(shí)現(xiàn)對(duì)基板10的定位抓取,保證 蝕刻過(guò)程的穩(wěn)定可靠性,基板10送入兩X軸軌道40之間后,由一邊的推動(dòng)機(jī)構(gòu)60把基板 10推向另一邊,并由另一邊所在的夾持機(jī)構(gòu)70將基板10夾持固定,然后通過(guò)激光器20沿 Y軸軌道30清除基板10的一邊,由滑臺(tái)50帶動(dòng)基板10沿X軸軌道40滑動(dòng)在激光器20 的蝕刻下清除一邊,接著激光器20沿Y軸軌道30回程蝕刻清除基板10的第三邊,之后再 公開(kāi)原先夾持基板10的夾持機(jī)構(gòu)70,將基板10通過(guò)推動(dòng)機(jī)構(gòu)60推向?qū)?,換邊夾持基板 10,滑臺(tái)50帶動(dòng)基板10沿X軸軌道40滑動(dòng)在激光器20的蝕刻下清除基板10的第四邊, 最后松開(kāi)夾持機(jī)構(gòu)70,送出基板10,動(dòng)作連貫,操作簡(jiǎn)單,由于基板10上的薄膜層15向下, 激光從激光頭射出并穿透過(guò)玻璃的基板10對(duì)薄膜層15進(jìn)行蝕刻,激光頭位于基板10的上 方,從而保證薄膜層15的邊緣被激光器20蝕刻后隨重力自然飄落,不殘留在基板10上,保 證較高的清潔度,本發(fā)明的薄膜層邊緣清除裝置能高效可靠、同時(shí)快速有效地清除太陽(yáng)能 電池板上的薄膜層的邊緣,提高電池板成品質(zhì)量。相應(yīng)地,本發(fā)明所提供的薄膜層邊緣清除 方法也實(shí)現(xiàn)了高效可靠、快速有效清除太陽(yáng)能電池板薄膜層邊緣,提高成品質(zhì)量的效果。以上所揭露的僅為本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例而已,當(dāng)然不能以此來(lái)限定本發(fā)明之權(quán)利范圍,因此依本發(fā)明申請(qǐng)專利范圍所作的等同變化,仍屬本發(fā)明所涵蓋的范圍。
權(quán)利要求
1.一種薄膜層邊緣清除裝置,適用于對(duì)太陽(yáng)能電池基板上的薄膜層的邊緣進(jìn)行清除, 其特征在于包括激光器、Y軸軌道、兩X軸軌道、兩滑臺(tái)、至少兩推動(dòng)機(jī)構(gòu)及至少兩夾持機(jī) 構(gòu),兩所述X軸軌道沿X軸方向呈水平置放并相互平行設(shè)置,所述基板位于兩所述X軸軌道 之間并沿X軸方向傳輸,所述基板上的薄膜層向下,所述滑臺(tái)與所述X軸軌道滑動(dòng)連接,所 述夾持機(jī)構(gòu)對(duì)稱固定在所述滑臺(tái)上并對(duì)基板的邊緣進(jìn)行夾持和釋放,所述推動(dòng)機(jī)構(gòu)對(duì)稱固 定在所述滑臺(tái)上并沿Y軸方向?qū)λ龌暹M(jìn)行水平推動(dòng),所述Y軸軌道垂直橫跨兩所述X 軸軌道并位于所述滑臺(tái)、基板的上方,所述激光器與所述Y軸軌道滑動(dòng)連接,所述激光器具 有激光頭且所述激光頭位于所述基板的上方,所述激光頭正對(duì)所述基板的邊緣。
2.如權(quán)利要求1所述的薄膜層邊緣清除裝置,其特征在于還包括吸塵槽,所述吸塵槽 沿Y軸軌道設(shè)于兩所述X軸軌道之間并位于所述基板的下方,所述激光頭正對(duì)所述吸塵槽。
3.如權(quán)利要求2所述的薄膜層邊緣清除裝置,其特征在于還包括負(fù)壓吸塵器,所述負(fù) 壓吸塵器的吸塵口與所述吸塵槽連通。
4.如權(quán)利要求1所述的薄膜層邊緣清除裝置,其特征在于所述激光器位于所述X軸 軌道的中部。
5.一種使用如權(quán)利要求1-4任一項(xiàng)所述的薄膜層邊緣清除裝置對(duì)太陽(yáng)能電池基板上 的薄膜層的邊緣進(jìn)行清除的清除方法,所述基板由外界滾輪送至兩X軸軌道之間,設(shè)定所 述基板沿輸入方向的前邊緣為第一邊緣,沿輸入方向的后邊緣為第三邊緣,與激光器的起 始位置位于同一側(cè)的基板邊緣為第四邊緣,位于與激光器的起始位置相對(duì)側(cè)的邊緣為第二 邊緣,其特征在于包括以下步驟(1)由基板第二邊緣同側(cè)的推動(dòng)機(jī)構(gòu)將基板水平推動(dòng)并由第四邊緣同側(cè)的夾持機(jī)構(gòu)將 基板夾持住,通過(guò)滑臺(tái)與X軸軌道的滑動(dòng)連接,將基板定位在使第一邊緣正對(duì)激光頭的位 置,激光器從激光頭發(fā)射激光,并沿Y軸軌道對(duì)基板的第一邊緣進(jìn)行蝕刻清除;(2)滑臺(tái)帶動(dòng)基板沿基板輸入方向繼續(xù)向前滑動(dòng),激光器對(duì)基板的第二邊緣進(jìn)行蝕刻 清除;(3)激光器沿Y軸軌道返回對(duì)基板的第三邊緣進(jìn)行蝕刻清除;(4)松開(kāi)夾持住基板的夾持機(jī)構(gòu),并通過(guò)第四邊緣同側(cè)的推動(dòng)機(jī)構(gòu)將基板水平推動(dòng)并 由第二邊緣同側(cè)的夾持機(jī)構(gòu)將基板夾持住,滑臺(tái)帶動(dòng)基板沿基板輸入方向的反向向后滑 動(dòng),激光器對(duì)基板的第四邊緣進(jìn)行蝕刻清除。
全文摘要
本發(fā)明公開(kāi)了一種薄膜層邊緣清除裝置,包括激光器、Y軸軌道、兩X軸軌道、兩滑臺(tái)、至少兩推動(dòng)機(jī)構(gòu)及至少兩夾持機(jī)構(gòu),兩X軸軌道沿X軸方向呈水平置放并相互平行設(shè)置,基板位于兩X軸軌道之間并沿X軸方向傳輸,基板上的薄膜層向下,滑臺(tái)與X軸軌道滑動(dòng)連接,夾持機(jī)構(gòu)對(duì)稱固定在滑臺(tái)上并對(duì)基板的邊緣進(jìn)行夾持和釋放,推動(dòng)機(jī)構(gòu)對(duì)稱固定在滑臺(tái)上并沿Y軸方向?qū)暹M(jìn)行水平推動(dòng),Y軸軌道垂直橫跨兩X軸軌道并位于滑臺(tái)、基板的上方,激光器具有激光頭且激光頭位于基板的上方并與Y軸軌道滑動(dòng)連接。本發(fā)明的薄膜層邊緣清除裝置能高效可靠、快速有效地清除太陽(yáng)能電池基板上的薄膜層的邊緣,提高成品質(zhì)量。本發(fā)明同時(shí)公開(kāi)了一種薄膜層邊緣清除方法。
文檔編號(hào)H01L31/18GK102110745SQ20101059487
公開(kāi)日2011年6月29日 申請(qǐng)日期2010年12月20日 優(yōu)先權(quán)日2010年12月20日
發(fā)明者余超平, 劉惠森, 楊明生, 王勇, 王曼媛, 范繼良, 藍(lán)劾 申請(qǐng)人:東莞宏威數(shù)碼機(jī)械有限公司
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