專利名稱：真空吸附裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種真空吸附半導(dǎo)體晶片、或玻璃基板等基板的裝置。
技術(shù)背景專利文獻1、 2公開的真空吸附裝置例如作為下述兩裝置為公眾所 知，裝置一在削薄半導(dǎo)體晶片的磨削加工中，固定半導(dǎo)體晶片的裝置； 裝置二在半導(dǎo)體晶片、或玻璃基板的表面上涂敷涂敷液，并使之轉(zhuǎn)動， 利用離心力使涂敷液均勻擴散時，保持半導(dǎo)體晶片、或玻璃基板的裝置。發(fā)明內(nèi)容在專利文獻l中公開了這樣一種構(gòu)成作為吸附玻璃基板的吸附工 作臺，在該工作臺的上表面外周部上形成有槽，在該槽內(nèi)開口形成鉆孔， 而且同時將與真空源相連的配管連接于該鉆孔。專利文獻2中公開了這樣一種真空吸附裝置作為與工作臺上開口 形成的真空吸附孔相連的真空源，預(yù)備了真空泵和真空噴射泵，在電源 正常的情況下使用真空泵，在不能使用電源的情況下使用噴射泵。專利文獻l:特開2003 - 145472號公報 專利文獻2:特開2004 - 200440號公報如專利文獻l所述，由于在整周上形成有吸附槽的情況下，鉆孔的 開口面積擴大到槽的開口面積，因此吸附力降低。另外，如專利文獻2 所述，在將吸附孔直接開口形成在工作臺上表面的情況下，吸附力雖然 不會降低，但卻有下述課題產(chǎn)生。圖3為以往的真空吸附裝置的剖視圖，在基板載置臺100的厚度方 向上貫通地形成有吸引孔101,該吸引孔101的上端開口形成在基板栽 置臺100的上表面，吸引孔101的下端與配管102連接，且配管102與 真空源相連，此外，在配管102的中途位置安裝有壓力傳感器103。
這樣，雖然在與真空源相連的配管102上安裝壓力傳感器103是合 理的，但有可能引起錯誤動作。即，即使配管內(nèi)的距離壓力傳感器103 較遠處的壓力沒有降到規(guī)定壓力，但配管內(nèi)的距離壓力傳感器103近處 的壓力一旦達到規(guī)定值，就會判斷為已被真空吸附。其結(jié)果，在一部分 沒有被吸附的狀態(tài)下，例如在基板的一部分浮起的狀態(tài)下，開始進行處 理，就有可能發(fā)生噴嘴下端與基板發(fā)生沖突而破損的情形。為了解決上述課題，本發(fā)明所涉及的真空吸附裝置是在基板載置 臺上形成有吸引孔，該吸引孔的一端開口形成在基板載置臺的上表面， 吸引孔的另一端連接于與真空源相連的配管，其特征在于，在上述吸引 孔之外另外形成有真空檢測孔，使該真空檢測孔的一端開口形成在基板 載置臺的上表面，使真空檢測孔的另 一端與安裝有壓力傳感器的檢測用 配管相連。真空檢測孔最好是，均等地配置在基板載置臺的上表面，或者設(shè)置 在有難以形成真空傾向的位置例如在配管上距離真空泵較遠的位置。并且，為了正確地檢測在各處是否被吸附，優(yōu)選為，針對每一真空檢測孔 而獨立地設(shè)置安裝有壓力傳感器的檢測用配管。根據(jù)本發(fā)明，可以正確地獲知半導(dǎo)體晶片、或玻璃基板是否可靠地 被真空吸附在栽放工作臺上表面。因此，例如，在使微縫噴嘴移動而進 行涂敷時，基板的一部分處于浮起的狀態(tài)下，不會發(fā)生噴嘴與基板相沖 突的問題。


圖1為本發(fā)明所涉及的真空吸附裝置的剖視圖。圖2為同一吸附裝置的平面圖。圖3為指出以往的吸附裝置的問題點的剖視圖。附圖符號1, 2， 3， 4， la， 2a, 3a，4a…吸引用配管;5…^L載置臺；6…吸引孔; 7…接頭；8…真空檢測孔；9…接頭；10…檢測用配管；11…壓力傳感器; 20…水平度調(diào)整;IM^; 21…基座；22…絲絲杠袖；23…楔部件；24… 腳部；W…基板；
具體實施方式
下面，結(jié)合附圖，對本發(fā)明的實施方式進行說明。圖l為本發(fā)明所涉及的真空吸附裝置的剖視圖，圖2為同一吸附裝置的平面圖。圖中1、 2、 3、 4為在俯視時呈環(huán)狀配置的吸引用配管，這些吸引 用配管1、 2、 3、 4經(jīng)獨立的配管la、 2a、 3a、 4a而與真空源相連。上述吸引用配管1、 2、 3、 4配置在基板載置臺5的下面?zhèn)?，吸?孔6在厚度方向上貫通地形成在基板載置臺5中，吸引孔6的上端開口 形成在基板載置臺5的上表面，下端經(jīng)接頭7而與上述吸引用配管1、2、 3、 4的任何一個相連。這樣，吸引用配管1、 2、 3、 4在被配置成環(huán)狀的同時，各自獨立 并與真空源相連，因此對照基板W的尺寸而可以分成使用的吸引用配管、 與不使用的吸引用配管，故而可以抑制無用的電力消費。另一方面，在基板載置臺5的厚度方向上，在上述吸引孔6之外另 外貫通地形成有真空檢測孔8。該真空檢測孔8的上端開口形成在基板 載置臺5的上表面，下端經(jīng)接頭9而與檢測用配管IO相連，在該檢測 用配管IO上安裝有壓力傳感器11，通過該壓力傳感器11來檢測基板W 與真空檢測孔8正上方之間的壓力。在上述壓力檢測的機構(gòu)中，真空檢測孔8、檢測用配管IO、與壓力 傳感器ll構(gòu)成為一組。即， 一根檢測用配管IO上只對應(yīng)有一個真空檢 測孔8，各個壓力檢測的機構(gòu)都是獨立的。因為這樣，假定即使發(fā)生沒 有被真空吸附的情況，可以立刻得知是哪一處沒有被真空吸附。并且，實施例的基板載置臺5還具有水平度調(diào)整機構(gòu)20。該水平度 調(diào)整機構(gòu)20在基座21上設(shè)置有通過滾珠絲杠機構(gòu)22來進退的楔部件 23，另一方面，支撐基板載置臺5下表面的腳部24,設(shè)置有與上述楔部 件23的上表面的傾斜面相抵接的傾斜面；通過滾珠絲杠機構(gòu)22，使楔 部件23在水平方向上滑動移動，由此基板載置臺5呈部分式地升降， 通過這樣來進行水平度的調(diào)整。在上述構(gòu)成基礎(chǔ)上，將基板W載放在基板載置臺5的上表面，并在 經(jīng)吸引用配管l、 2、 3、 4、以及吸引孔6來進行吸引固定時，在被真空
吸附的位置，基板W與真空檢測孔8正上方之間間隙變得極小，并通過 壓力傳感器11，來檢測與該真空檢測孔8接近的吸引孔6的壓力。在這 種情況下，則可以判斷為被正常地吸附。另一方面， 一旦有一部分沒有被真空吸附的位置，則在該處，基板 W會從基板載置臺5的上表面多少有些浮起。而且基板W—旦浮起，則 通過該處或者其附近各處呈開口的真空檢測孔8而檢測出的壓力也就會 因為從外部進入了空氣而變高。因此，在所設(shè)置的多個壓力傳感器11 全部都感知到真空時，就可以判斷為基板W被可靠地吸附在基板載置臺 5的上表面上。本發(fā)明的真空吸附裝置，例如可以適用于下述的裝置，即，裝置一 在削薄半導(dǎo)體晶片厚度的磨削工序中，固定半導(dǎo)體晶片的裝置；裝置二 在半導(dǎo)體晶片、或玻璃基板的表面上涂敷涂敷液的工序中，固定半導(dǎo)體晶片、玻璃基板的裝置。
權(quán)利要求
1. 一種真空吸附裝置，在基板載置臺上形成有吸引孔，該吸引孔 的一端開口形成在基板載置臺的上表面，吸引孔的另 一端連接于與真空源相連的配管，其特征在于，在上述吸引孔之外另外形成有真空檢測孔， 使該真空檢測孔的一端開口形成在基板載置臺的上表面，使真空檢測孔 的另一端與安裝有壓力傳感器的檢測用配管相連。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空吸附裝置，其特征在于，針對每一 上述真空檢測孔而獨立地設(shè)置安裝有壓力傳感器的檢測用配管。
全文摘要
本發(fā)明提供一種可以可靠且短時間地檢測出基板是否被真空吸附的真空吸附裝置。一旦有一部分沒有被真空吸附的位置，則在該處，基板W會從基板載置臺5的上表面多少有些浮起。而且基板W一旦浮起，則通過該處或者其附近各處呈開口的真空檢測孔(8)而檢測出的壓力也就會因為從外部進入了空氣而變高。因此，在所設(shè)置的多個壓力傳感器11全部都感知到真空時，就可以判斷為基板W被可靠地吸附在基板載置臺5的上表面上。
文檔編號H01L21/673GK101145536SQ20071014609
公開日2008年3月19日 申請日期2007年9月10日 優(yōu)先權(quán)日2006年9月11日
發(fā)明者升芳明, 吉澤健司, 宮本英典, 曽根康博, 谷本恒夫 申請人:東京應(yīng)化工業(yè)株式會社;龍云株式會社