專利名稱：氟氣生成裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種極其容易進(jìn)行對用于吸附氟化氫的吸附劑進(jìn)行回收、更換的維護(hù)的氟氣生成裝置。
背景技術(shù)：
以往，公知一種氟氣生成裝置，其包括用于在由包含氟化氫的熔融鹽構(gòu)成的電解液中電解氟化氫的電解槽，在陽極側(cè)產(chǎn)生以氟氣作為主成分的主生成氣體，并且在陰極側(cè)產(chǎn)生以氫氣作為主成分的副生成氣體。在這種氟氣生成裝置中，在從電解槽的陽極產(chǎn)生的氟氣中混入了由熔融鹽氣化產(chǎn)生的氟化氫氣體。因此，需要從產(chǎn)生于陽極的氟氣中分離除去氟化氫而對氟氣進(jìn)行精制。在專利文獻(xiàn)I中，公示下述技術(shù)，即，為了從產(chǎn)生于陽極的氟氣中除去氟化氫，使用填充有氟化鈉(NaF)等填充劑的氟化氫吸附塔，為了更換填充劑而并聯(lián)配置兩臺以上氟化氫吸附裝置，利用切換閥將這些吸附裝置切換為其中的任意一個吸附裝置，從而容易進(jìn)行填充劑的維護(hù)、更換作業(yè)。專利文獻(xiàn)I :日本特開2004-107761號公報在使用氟化鈉(NaF)作為用于吸附氟化氫的吸附劑的情況下，雖然在室溫左右的溫度范圍內(nèi)可以提高氟化氫的收集效率，但是由于增大了氟化氫的吸附，使吸附劑容易凝固而縮短吸附劑的壽命。另一方面，在100°c左右的溫度范圍內(nèi)，與室溫的情況相比較，雖然延長了吸附劑的壽命，但是降低了氟化氫的收集效率。在記載于專利文獻(xiàn)I的氟化氫生成裝置中在使用NaF作為吸附劑的情況下，產(chǎn)生下述問題，即，當(dāng)使氟化氫在吸附塔中的溫度為室溫左右時，雖然提高了氟化氫的收集效率，但是縮短了吸附劑的壽命，從而增加吸附劑的更換作業(yè)。另一方面，當(dāng)氟化氫吸附塔的溫度升高時，雖然延長了吸附劑的壽命，但是降低了氟化氫的收集效率。如上所述，若使用并聯(lián)配置兩臺以上氟化氫吸附裝置的方法，則難以高效地進(jìn)行氟化氫的吸附、回收，且難以減少吸附劑的老化。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明鑒于上述的問題點(diǎn)，目的在于提供一種容易進(jìn)行對用于吸附氟化氫的吸附劑進(jìn)行回收、更換的維護(hù)，并且能夠穩(wěn)定地供給氟氣的氟氣生成裝置。本發(fā)明人們?yōu)榱私鉀Q上述課題，經(jīng)過專心研討，其結(jié)果發(fā)現(xiàn)通過將至少兩臺具有用于吸附氟化氫的吸附劑的精制裝置串行連接，控制各精制裝置的氟化氫的吸附量，從而降低由吸附氟化氫導(dǎo)致的填充劑的老化，并且能夠高效地回收氟化氫，以至完成本發(fā)明。此外，本發(fā)明人們獲得下述見解，即，能夠通過回收吸附在各精制裝置中的氟化氫，將其供給到電解槽的原料源，且進(jìn)行再利用，從而高效地進(jìn)行氟氣的生成。即，本發(fā)明是通過電解包含氟化氫的熔融鹽中的氟化氫而生成氟氣的氟氣生成裝置，其特征在于，其包括電解槽，其通過在由包含氟化氫的熔融鹽構(gòu)成的電解液中電解氟化氫，從而在陽極側(cè)產(chǎn)生以氟氣作為主成分的主生成氣體，并且在陰極側(cè)產(chǎn)生以氫氣作為主成分的副生成氣體；精制線，其具有精制裝置，該精制裝置利用吸附劑除去由上述電解槽的熔融鹽氣化而混入到從上述陽極生成的氟氣中的氟化氫氣體，上述精制線包括并聯(lián)配置有至少兩臺精制裝置的第I精制部和并聯(lián)配置有至少兩臺精制裝置且配置在第I精制部的下游的第2精制部，經(jīng)過上述第I精制部的任一精制裝置的氟氣被引導(dǎo)到上述第2精制部的任一精制裝置。此外，本發(fā)明的上述氟氣生成裝置，其特征在于，上述精制裝置包括吸附劑收納部件，其內(nèi)置吸附劑，該吸附劑用于吸附產(chǎn)生在上述電解槽中的氟氣中的氟化氫，該吸附劑的吸附能力根據(jù)溫度而變化；溫度調(diào)節(jié)器，其用于調(diào)節(jié)上述吸附劑收納部件內(nèi)的溫度；濃度檢測器，其用于檢測通過了上述吸附劑收納部件內(nèi)的上述氟氣中的氟化氫濃度，基于上述濃度檢測器的檢測結(jié)果，在上述第I精制部或者上述第2精制部中進(jìn)行運(yùn)轉(zhuǎn)切換，從而向待機(jī)狀態(tài)的精制裝置導(dǎo)入氟氣，從由于上述運(yùn)轉(zhuǎn)切換而停止的精制裝置的上述吸附劑收納部件內(nèi)排出氟化氫，利用上述溫度調(diào)節(jié)器調(diào)整上述精制裝置內(nèi)的溫度，使停止過程中的精
制裝置變?yōu)榇龣C(jī)狀態(tài)。這里所說的吸附劑收納部件是指能夠?qū)⑽絼┦占{在一定空間內(nèi)的裝置，例如，具體來說可以舉出筒狀構(gòu)件。此外，筒狀構(gòu)件是指在內(nèi)部收納用于吸附氟化氫的吸附劑的、供從電解槽產(chǎn)生的氟氣通過且吸附氟氣中的氟化氫氣體所用的容器，并不對其形狀等進(jìn)行特別限制。此外，本發(fā)明的上述氟氣生成裝置，在上述第I精制部及上述第2精制部的基礎(chǔ)上，其特征在于，將導(dǎo)入氟氣的精制裝置內(nèi)的溫度設(shè)定在0°C 120°C的范圍內(nèi)，并且使上述第I精制部中的該精制裝置內(nèi)的溫度高于上述第2精制部中的該精制裝置內(nèi)的溫度。特別地，優(yōu)選在第I精制部中將導(dǎo)入氟氣的吸附劑收納部件內(nèi)的溫度設(shè)定為70°C 100°C，在第2精制部中將導(dǎo)入氟氣的吸附劑收納部件內(nèi)的溫度設(shè)定為0°C 50°C。此外，本發(fā)明優(yōu)選在上述吸附劑收納部件內(nèi)設(shè)有以具有用于確保氣體流路的空隙的方式配置的吸附劑保持件。此外，本發(fā)明優(yōu)選在上述吸附劑保持件上設(shè)有貫穿孔。此外，本發(fā)明優(yōu)選上述吸附劑保持件為盆狀構(gòu)件。此外，本發(fā)明優(yōu)選以使上述吸附劑收納部件內(nèi)的氣體的流動為蜿蜒曲折狀的方式設(shè)有上述吸附劑保持件。此外，本發(fā)明優(yōu)選在上述第I精制部中的精制裝置及上述第2精制部中的精制裝置中，包含用于排出被吸附的氟化氫的導(dǎo)出路徑，回收被該精制裝置吸附的氟化氫，在上述電解槽中對氟化氫進(jìn)行再利用。此外，本發(fā)明優(yōu)選上述吸附劑是氟化鈉。采用本發(fā)明，能夠提供一種容易進(jìn)行對用于吸附氟化氫的吸附劑進(jìn)行回收、更換的維護(hù)，并且通過將被吸附的氟化氫供給到電解槽的原料源且進(jìn)行再利用從而能夠高效地穩(wěn)定地供給氟氣的氟氣生成裝置。


圖I是本發(fā)明的實(shí)施方式的氟氣生成裝置的系統(tǒng)圖。
圖2是本發(fā)明的實(shí)施方式的精制線的詳細(xì)圖。圖3是本發(fā)明的第2實(shí)施方式的精制裝置的概略圖。圖4是圖3的A-A剖視圖。圖5是本發(fā)明的第2實(shí)施方式的盆狀構(gòu)件的一例。圖6是本發(fā)明的第2實(shí)施方式的優(yōu)選方式的一例。圖7是用于進(jìn)行能夠應(yīng)用于本發(fā)明的第2實(shí)施方式的精制裝置的精制能力試驗(yàn)的實(shí)驗(yàn)裝置的概略圖。
具體實(shí)施例方式
以下，參照附圖對本發(fā)明的實(shí)施方式進(jìn)行說明。參照圖1，對本發(fā)明的實(shí)施方式的氟氣生成裝置100進(jìn)行說明。氟氣生成裝置100是利用電解生成氟氣且將生成的氟氣供給到外部裝置4的裝置。作為外部裝置4，例如為半導(dǎo)體制造裝置，在該情況下，例如在半導(dǎo)體的制造工序中使用氟氣作為清潔氣體。氟氣生成裝置100包括利用電解生成氟氣的電解槽I、將生成在電解槽I中的氟氣供給到外部裝置4的氟氣供給系統(tǒng)2和用于處理伴隨著氟氣的生成而生成的副生成氣體的副生成氣體處理系統(tǒng)3。首先，對電解槽I進(jìn)行說明。在電解槽I中貯存包含氟化氫(HF)的熔融鹽。在本實(shí)施方式中，作為熔融鹽，使用氟化氫和氟化鉀(KF)的混合物(KF 2HF)。電解槽I內(nèi)被沉浸于熔融鹽的區(qū)劃壁102區(qū)劃為陽極室IOla和陰極室101b。分別在陽極室IOla和陰極室IOlb中沉浸陽極103a和陰極103b，通過從電源(未圖示)向陽極103a和陰極103b之間供給直流電壓，從而在陽極103a處生成氟氣(F2),在陰極103b處生成作為副生成氣體的氫氣(H2)。在陽極103a處使用石墨電極，在陰極103b處使用軟鐵、蒙乃爾合金(monel)或者鎳。KF 2HF的熔點(diǎn)為71. 7°C，因此將熔融鹽的溫度調(diào)節(jié)到90°C 100°C。氟化氫與蒸汽壓相應(yīng)地自熔融鹽氣化，從而分別混入到從電解槽I的陽極103a生成的氟氣及從陰極103b生成的氫氣中。如上所述，分別在生成于陽極103a的、被引導(dǎo)到陽極室IOla的氟氣及生成于陰極103b的、被引導(dǎo)到陰極室IOlb的氫氣中含有氟化氫氣體。在電解槽I中，分別在陽極室IOla和陰極室IOlb設(shè)有壓力計(未圖示)。接下來，對氟氣供給系統(tǒng)2進(jìn)行說明。在陽極室IOla中連接用于向外部裝置供給氟氣的第I主通路15，在第I主通路15中設(shè)有用于從陽極室IOla導(dǎo)出氟氣而輸送該氟氣的第I泵17。在第I主通路15中的第I泵17的上游，設(shè)有用于除去混入在氟氣中的氟化氫氣體而精制氟氣的精制線20。精制線20是利用氟化鈉吸附氟化氫而從氟氣中分離除掉氟化
氫的裝置。精制線20包括用于粗去除從陽極103a處產(chǎn)生的氟氣中的氟化氫的第I精制部21和用于除去在第I精制部21沒有被完全回收的氟化氫的第2精制部22，第2精制部22配置在第I精制部21的下游。
在第I主通路15中的第I泵17的下游設(shè)有用于貯存被第I泵17輸送過來的氟氣的第I緩沖罐50。將貯存在第I緩沖罐50中的氟氣供給到外部裝置4。在第I緩沖罐50中設(shè)有光學(xué)性分析氟氣中的氟化氫的濃度的氟化氫濃度檢測器62。作為所采用的檢測器，雖然是只要能夠分析氟化氫濃度即可，并不對其進(jìn)行特別限定，但是，例如可以舉出傅立葉變換紅外光譜儀(FT-IR)等。接下來，對副生成氣體處理系統(tǒng)3進(jìn)行說明。在陰極室IOlb中連接用于向外部排出氫氣的第2主通路16，在排出路徑過程中，根據(jù)需要而配置泵、壓力和流量調(diào)整閥、壓力計、精制裝置等，對氫氣進(jìn)行無害化處理后放出該氫氣。此外，氟氣生成裝置100也包括用于向電解槽I的熔融鹽中供給作為氟氣的原料的氟化氫的原料供給系統(tǒng)5。接下來，對原料供給系統(tǒng)5進(jìn)行說明。在電解槽I中連接用于將從氟化氫供給源60供給的氟化氫引導(dǎo)到電解槽I的熔融鹽中的原料供給通路81。在原料供給通路81中設(shè)有用于控制氟化氫的供給流量的流量控制閥、載氣供給源、用于將載氣引導(dǎo)到原料供給通路的供給通路、用于切換載氣的供給和阻斷的斷流閥等(未圖示)，控制氟化氫的供給量以補(bǔ)給在熔融鹽中被電解的氟化氫。接下來，參照圖I及圖2對精制線20進(jìn)行說明。用于從產(chǎn)生于陽極103a的氟氣中除去氟化氫氣體的精制線20由第I精制部21和配置在第I精制部21的下游的第2精制部22構(gòu)成。以下，依次對第I精制部21和第2精制部22進(jìn)行說明。第I精制部21和第2精制部22中所用的各個精制裝置結(jié)構(gòu)相同，因此，以下，以第I精制部中的精制裝置21a為中心進(jìn)行說明，對于其它精制裝置的相同部分，對與精制裝置21a相同的結(jié)構(gòu)，標(biāo)注相同的附圖標(biāo)記而省略說明。此外，對第I精制部21和第2精制部22中的各精制裝置標(biāo)注“a”和“b”而進(jìn)行區(qū)分。首先，對第I精制部21進(jìn)行說明。第I精制部由并聯(lián)設(shè)置的精制裝置21a和精制裝置21b這兩個系統(tǒng)構(gòu)成，以使氟氣只經(jīng)過任意一個系統(tǒng)的方式進(jìn)行切換。也就是說，在精制裝置21a及精制裝置21b中的一個精制裝置處于運(yùn)轉(zhuǎn)狀態(tài)的情況下，另一個精制裝置處于停止?fàn)顟B(tài)或者待機(jī)狀態(tài)。精制裝置21a包括用于處理在陽極103a處生成的氟氣的系統(tǒng)、用于對被吸附在精制裝置21a內(nèi)的氟化氫進(jìn)行排氣回收的系統(tǒng)、用于進(jìn)行精制裝置21a內(nèi)的氟氣的排氣的系統(tǒng)、用于進(jìn)行待機(jī)狀態(tài)的精制裝置21a內(nèi)的壓力調(diào)整的系統(tǒng)、用于檢測通過了精制裝置21a內(nèi)的筒狀構(gòu)件31a(吸附劑收納部件)的氟氣中的氟化氫的濃度的檢測系統(tǒng)。精制裝置21a包括供氟氣通過的筒狀構(gòu)件31a，在筒狀構(gòu)件31a中收納用于吸附氟化氫的吸附劑。這里所說的筒狀構(gòu)件是指在內(nèi)部收納用于吸附氟化氫的吸附劑的、供產(chǎn)生于電解槽I的氟氣通過且吸附氟氣中的氟化氫氣體所用的容器，并不對其形狀進(jìn)行特別限制。作為筒狀構(gòu)件的材質(zhì)，優(yōu)選對氟氣及氟化氫氣體具有耐性的材質(zhì)，例如，可以舉出不銹鋼、蒙乃爾合金、鎳等的合金、金屬等。在吸附劑中使用由氟化鈉(NaF)構(gòu)成的許多多孔質(zhì)微珠。由于氟化鈉的吸附能力根據(jù)溫度變化，所以在筒狀構(gòu)件31a的周圍設(shè)有作為用于調(diào)整筒狀構(gòu)件31a內(nèi)的溫度的溫度調(diào)節(jié)器的加熱器41a。溫度調(diào)節(jié)器只要能夠調(diào)整筒狀構(gòu)件內(nèi)的溫度即可，并不對其進(jìn)行特別限定，例如可以使用加熱器、蒸汽加熱、利用載熱體或者制冷劑的加熱冷卻裝置。作為用于吸附劑的藥劑，也能夠使用NaF、KF、RbF、CsF等堿金屬氟化物，其中，特別優(yōu)選NaF。在精制裝置21a中連接用于引導(dǎo)生成于陽極103a的氟氣的入口通路51a。入口通路51a是第I主通路15分支成兩部分而形成的兩個通路中的一個通路，另一個入口通路51b與精制裝置21b相連接。在入口通路51a中設(shè)有用于容許或者阻斷氟氣朝向精制裝置21a流入的入口閥11a。在精制裝置21a的下游連接用于從精制裝置21a排出氟氣的出口通路52a。在出口通路52a中設(shè)有用于容許或者阻斷從精制裝置21a流出氟氣的出口閥12a。在精制裝置21a的出口通路52a中設(shè)有用于光學(xué)性分析通過了筒狀構(gòu)件31a的氟氣中的氟化氫濃度的檢測器61a。雖然作為所用的檢測器，只要能夠分析氟化氫濃度即可并不對其進(jìn)行特別限定，但是例如可以舉出傅立葉變換紅外光譜儀(FT-IR)等。在精制裝置21a處于運(yùn)轉(zhuǎn)狀態(tài)的情況下，打開入口閥Ila及出口閥12a，在精制裝置21a處于停止?fàn)顟B(tài)或者待機(jī)狀態(tài)的情況下，入口閥Ila及出口閥12a處于閉狀態(tài)。在精制裝置21a中設(shè)有用于排出被吸附在筒狀構(gòu)件31a內(nèi)的氟化氫的出口通路71a，出口通路71a與用于排出氟化氫的通路80相連接。在排出通路80的下游設(shè)有用于吸引在精制裝置中被吸附了的氟化氫的第2泵18，該第2泵18與氟化氫供給源60相連接。能夠通過將被回收的氟化氫供給到氟化氫供給源60，從而補(bǔ)充原料。此外，在排出路徑80中設(shè)有用于貯存氟化氫的緩沖罐，也可以根據(jù)需要將貯存在緩沖罐中的氟化氫供給到氟化氫供給源60。如上所述，被回收的氟化氫可以暫時貯存在緩沖罐、氟化氫供給源60中之后，供給到電解槽1，也可以不經(jīng)由緩沖罐、氟化氫供給源60，直接供給到電解槽1，從而補(bǔ)充原料。在精制裝置21a中連接有用于排出用于對精制裝置21a進(jìn)行更新的氟氣的通路701a，在通路701a中設(shè)有用于排出氟氣的排出閥10a。此外，在通路701a中設(shè)有排出泵90ao為了進(jìn)行精制裝置21a的更新而使其處于待機(jī)狀態(tài)，在精制裝置21a上連接用于調(diào)整精制裝置21a中的筒狀構(gòu)件31a內(nèi)的壓力的通路73a，通路73a進(jìn)一步與通路82相連接。在通路82處設(shè)有壓力調(diào)整閥16a。此外，通路82與用于貯存生成的氟氣的第I緩沖罐50相連接。接下來，對第2精制部22進(jìn)行說明。第2精制部與第I精制部相同地由并聯(lián)設(shè)置的精制裝置22a和精制裝置22b這兩個系統(tǒng)構(gòu)成，進(jìn)行切換以使氟氣只通過任意一個系統(tǒng)。在第I精制部的精制裝置21a的下游連接用于從精制裝置21a排出氟氣的出口通路52a，出口通路52a在下游分支成兩部分，并設(shè)有分支通路53。優(yōu)選在分支通路53中設(shè)有根據(jù)需要容許或者阻斷氟氣流入的閥14。也就是說，優(yōu)選下述結(jié)構(gòu)，即，能夠通過開閉斷流閥14，從而將通過了精制裝置21a的氟氣引導(dǎo)到第2精制部的精制裝置22a或者精制裝置22b的任一個。在第2精制部中的精制裝置22a的下游連接用于排出氟氣的出口通路53a，在第2精制部中的精制裝置22b的下游連接用于排出氟氣的出口通路53b，出口通路53a與出口通路53b匯合而與第I泵17相連接。以上，雖然是以精制裝置21a為中心進(jìn)行說明的，但是在作為其它的精制裝置的精制裝置21b、精制裝置22a、精制裝置22b中也同樣地包括用于處理生成在陽極103a處的氟氣的系統(tǒng)、用于對吸附在精制裝置內(nèi)的氟化氫進(jìn)行排氣回收的系統(tǒng)、用于進(jìn)行精制裝置內(nèi)的氟氣的排氣的系統(tǒng)、用于進(jìn)行處于待機(jī)狀態(tài)的精制裝置內(nèi)的壓力調(diào)整的系統(tǒng)、用于檢測通過了精制裝置內(nèi)的筒狀構(gòu)件的氟氣中的氟化氫的濃度的檢測系統(tǒng)。雖然，以上對精制線20中的第I精制部21和第2精制部22的結(jié)構(gòu)進(jìn)行說明，但是在本發(fā)明中并不對在各精制裝置的筒狀構(gòu)件中填充吸附劑的方法進(jìn)行特別限制，能夠應(yīng)用于各種形態(tài)的精制裝置。例如，關(guān)于精制裝置的形態(tài)，可以采用在豎立配置的筒狀構(gòu)件中填充吸附劑且使氣體在筒狀構(gòu)件的上下方向上流動的方法，此外，也可以在橫臥配置的筒狀構(gòu)件中填充吸附劑且使氣體在筒狀構(gòu)件的左右方向上流動。此外，關(guān)于通過精制裝置的氣體的流動方向，雖然在圖I、圖2中示出了在各精制裝置中流動的氣體的方向是從筒狀構(gòu)件的上部朝向下部流動的情況，在圖3中為了進(jìn)行說明而示出了在各精制裝置中流動的氣體的方向是從筒狀構(gòu)件的下部朝向上部流動的情況，但是并不對通過各精制裝置的氣體的流動方向進(jìn)行特別限制，可以使氣體從筒狀構(gòu)件的下部向上部流動或者從上部向下部流動。如上所述，即使使用將用于吸附氟化氫的吸附劑直接填充到精制裝置的筒狀構(gòu)件內(nèi)的方法也能夠?qū)嵤┍景l(fā)明，但是在直接填充吸附劑的方法中，特別是在精制裝置的氣體A 口附近，來自電解槽的熔融鹽的霧化物、由熔融鹽氣化得到的氟化氫被吸附劑吸收，有時由于吸附劑的膨脹、熔化而引起堵塞，導(dǎo)致在精制裝置的氣體入口附近產(chǎn)生閉塞。因此，也可以在精制裝置的筒狀構(gòu)件內(nèi)以具有用于確保氣體流路的空隙的方式配置吸附劑保持件，防止精制裝置的閉塞。這里所說的吸附劑保持件是指設(shè)在精制裝置的筒狀構(gòu)件內(nèi)的、在筒狀構(gòu)件內(nèi)的空間處保持規(guī)定量的吸附劑的器具，可以隔著一定的間隔地設(shè)有多個吸附劑保持件。吸附劑保持件是指以具有用于確保氣體流路的空隙的方式配置在筒狀構(gòu)件內(nèi)的空間，在沒有填充吸附劑的空隙處確保氣體流路，防止精制裝置的閉塞的器具。此外，為了增大吸附劑的與在筒狀構(gòu)件內(nèi)流通的氣體相接觸的表面積的比例，優(yōu)選在吸附劑保持件中設(shè)有能夠供氣體通過的貫穿孔。這里所說的貫穿孔只要是能夠保持吸附劑且能夠供氣體通過的孔的大小即可，并不對其進(jìn)行特別限制，可以適當(dāng)設(shè)計上述貫穿孔。此外，當(dāng)考慮與氣體相接觸的吸附劑的表面積的比例時，優(yōu)選吸附劑保持件為多孔狀、網(wǎng)狀。作為吸附劑保持件的具體的形狀，只要可以確保筒狀構(gòu)件內(nèi)的氣體流路且能夠保持吸附劑即可，并不對其進(jìn)行特別限制，例如可以舉出在以金屬絲網(wǎng)(網(wǎng)狀)制作的球狀、圓筒狀的籠型容器中填充吸附劑的形態(tài)、在盆狀的容器(稱為盆狀構(gòu)件)中填充吸附劑的形態(tài)、在薄板狀的金屬(包括網(wǎng)狀)等中夾入吸附劑的形態(tài)等。雖然對于將吸附劑保持件設(shè)在精制裝置的筒狀構(gòu)件內(nèi)的方法，只要以使筒狀構(gòu)件內(nèi)具有用于確保氣體流路的空隙的方式進(jìn)行配置即可，并不進(jìn)行特別限制，但是，例如可以舉出將上述說明的那樣形態(tài)的吸附劑保持件吊在筒狀構(gòu)件內(nèi)的空間內(nèi)的方法、將上述吸附劑保持件固定設(shè)在筒狀構(gòu)件的側(cè)面上的方法等。如上所述，通過使用以具有用于確保氣體流路的空隙的方式配置在筒狀構(gòu)件內(nèi)的吸附劑保持件，從而即使在吸附劑引起堵塞的情況下，也能夠在筒狀構(gòu)件內(nèi)始終確保氣體流路，能夠防止閉塞且聞效地進(jìn)行氣體的精制。當(dāng)考慮在吸附劑保持件上設(shè)置貫穿孔時的加工性、在筒狀構(gòu)件中設(shè)置吸附劑保持件、吸附劑的填充難易度等實(shí)際的處理時，特別優(yōu)選吸附劑保持件為盆狀構(gòu)件。此外，這里所說的盆狀構(gòu)件是指能夠收納物體的平坦的容器，只要能夠收納吸附
劑即可，并不特別限于圓形、四邊形等形狀，可以根據(jù)筒狀構(gòu)件的形狀適當(dāng)?shù)卦O(shè)計該盆狀構(gòu)件。以下，作為適用于吸附劑保持件的一例，舉出盆狀構(gòu)件，作為本發(fā)明中的第2實(shí)施方式，對設(shè)有盆狀構(gòu)件的精制裝置(以下，稱為第2實(shí)施方式的精制裝置)進(jìn)行說明。此外，雖然以下以盆狀構(gòu)件為例說明吸附劑保持件，但是本發(fā)明中的吸附劑保持件并不限定為盆狀構(gòu)件。參照圖3、圖4及圖5，對本發(fā)明的第2實(shí)施方式的設(shè)有盆狀構(gòu)件的精制裝置210進(jìn)行詳細(xì)說明。此外，圖4是表示精制裝置210的A-A剖視圖。此外，圖5是表示作為吸附劑保持件使用的盆狀構(gòu)件的結(jié)構(gòu)的一例的圖。首先，參照圖3，基于應(yīng)用于第I精制部的精制裝置21a的例子，對設(shè)有盆狀構(gòu)件的精制裝置210的概略進(jìn)行說明。如圖3、圖4所示，盆狀構(gòu)件211設(shè)在第I精制部的精制裝置21a所具有的筒狀構(gòu)件31a的側(cè)面上。具體來說，為了增加要填充的吸附劑的量，也可以以將盆狀構(gòu)件211內(nèi)接設(shè)在筒狀構(gòu)件31a內(nèi)的側(cè)面。此外，本實(shí)施方式為將吸附劑70填充到盆狀構(gòu)件211的結(jié)構(gòu)。此外，本實(shí)施方式的特征在于，通過在盆狀構(gòu)件211的端部設(shè)有缺口部212，從而在筒狀構(gòu)件31 a的內(nèi)部設(shè)有空隙，使氣體在缺口部212處流通，形成不完全閉塞的結(jié)構(gòu)。這里所說的缺口部，只要是在筒狀構(gòu)件31a的空間能夠確保氣體的流動的形狀即可，并不對其進(jìn)行特別限制，可以適當(dāng)?shù)卦O(shè)計該缺口部。雖然只要能夠確保氣體的流動即可，并不對在盆狀構(gòu)件211中設(shè)有缺口部的位置進(jìn)行特別限制，但是為了使氣體和吸附劑容易充分接觸，特別優(yōu)選如圖3所示，為了使氣體的流動為蜿蜒曲折狀，以使缺口部從氣體的入口朝向出口方向左右交替的方式在筒狀構(gòu)件的側(cè)面上設(shè)置盆狀構(gòu)件211。雖然為了完全防止精制裝置的閉塞且提高氟化氫的吸附能力，優(yōu)選設(shè)有多個(多層)盆狀構(gòu)件211 (參照后述的實(shí)施例1-1)，但是優(yōu)選根據(jù)要吸附的氟化氫的量、使用的精制裝置的大小等裝置的狀況，適當(dāng)設(shè)定盆狀構(gòu)件211的個數(shù)(層數(shù))。此外，只要盆狀構(gòu)件211的大小、配置狀況不妨礙氣體的流動即可，并不對其進(jìn)行特別限制，優(yōu)選根據(jù)設(shè)置盆狀構(gòu)件的筒狀構(gòu)件的大小等狀況適當(dāng)?shù)卦O(shè)定盆狀構(gòu)件的大小、配置狀況。
接下來，參照圖5，對本發(fā)明中的盆狀構(gòu)件的結(jié)構(gòu)的一例進(jìn)行說明。本發(fā)明的盆狀構(gòu)件211包括底板部21 la、側(cè)壁部21 Ib、切口側(cè)壁部21 Ic、上端開口部211d，如圖5所示，盆狀構(gòu)件211的端部形成缺口部212。本實(shí)施方式的特征在于，通過設(shè)有缺口部212，形成使氣體流通而不完全閉塞的結(jié)構(gòu)。此外，為了增大吸附劑的與氣體相接觸的表面積，提高吸附的效率，也可以在構(gòu)成盆狀構(gòu)件211的構(gòu)件上設(shè)有貫穿孔。雖然可以在構(gòu)成盆狀構(gòu)件211的構(gòu)件的所有部位設(shè)有貫穿孔，但是為了增大與氣體相接觸的吸附劑的表面積，特別優(yōu)選在底板部211a上設(shè)有貫穿孔。雖然并不對在盆狀構(gòu)件211上設(shè)有貫穿孔的方法進(jìn)行特別限制，但是例如可以舉出沖孔加工等。此外，為了進(jìn)一步增大氣體和吸附劑接觸的表面積，在構(gòu)成盆狀構(gòu)件211的構(gòu)件上，特別優(yōu)選使底板部211a為網(wǎng)狀(參照實(shí)施例1-1)。當(dāng)然，也可以使盆狀構(gòu)件211的所
有部位都為網(wǎng)狀。此外，在底板部211a為網(wǎng)狀的情況下，即使在網(wǎng)的部分上產(chǎn)生堵塞，也在缺口部處確保氣體流路，因此能夠防止精制裝置完全閉塞。作為盆狀構(gòu)件211的材質(zhì)，優(yōu)選對氟氣及氟化氫氣體具有耐性的材質(zhì)，例如可以舉出不銹鋼、蒙乃爾合金、鎳等的合金、金屬等。此外，優(yōu)選在底板部211a為網(wǎng)狀的情況下的網(wǎng)的材質(zhì)也與上述材質(zhì)相同。雖然在上述內(nèi)容中，對設(shè)有吸附劑保持件的第2實(shí)施方式的精制裝置進(jìn)行說明，但是設(shè)有吸附劑保持構(gòu)件的精制裝置也可以應(yīng)用于本發(fā)明中的全部的精制裝置，特別地，如圖6所示，特別優(yōu)選該設(shè)有吸附劑保持構(gòu)件的精制裝置應(yīng)用于第I精制部的精制裝置。其理由如下，即，第I精制部用于除去氟氣中的大部分的氟化氫的粗去除工序，在第I精制部中給吸附劑帶來負(fù)擔(dān)，容易產(chǎn)生閉塞。此外，圖6是表示精制線的概略圖，其只記載主要部分的附圖、附圖標(biāo)記等，省略其它詳細(xì)的部分。接下來，對以上述方式構(gòu)成的精制線20的工作進(jìn)行說明。以下，以精制裝置21a處于運(yùn)轉(zhuǎn)狀態(tài)、精制裝置21b處于待機(jī)狀態(tài)、精制裝置22a處于運(yùn)轉(zhuǎn)狀態(tài)、精制裝置22b處于待機(jī)狀態(tài)的情況為例進(jìn)行說明。在精制裝置21a中，入口閥Ila及出口閥12a處于開狀態(tài)，筒狀構(gòu)件31a內(nèi)處于從電解槽I連續(xù)地導(dǎo)入氟氣的狀態(tài)。與此相對，在精制裝置21b中，入口閥Ilb及出口閥12b處于閉狀態(tài)。如上所述，在電解槽I生成的氟氣只供給到精制裝置21a。在精制裝置21a處，精制出的氟氣從設(shè)于精制裝置21a的出口路徑52a流出，被供給到精制裝置22a。與精制裝置21a相同地，在精制裝置22a中入口閥13a及出口閥15a處于開狀態(tài)，筒狀構(gòu)件32a內(nèi)處于從電解槽I經(jīng)由精制裝置21a連續(xù)地導(dǎo)入了氟氣的狀態(tài)。與此相對，在精制裝置22b中入口閥13b及出口閥15b處于閉狀態(tài)。此外，在精制裝置21a的出口路徑52a的下游處分支出的分支通路53、即斷流閥14也處于閉狀態(tài)。以下，對處于運(yùn)轉(zhuǎn)狀態(tài)的第I精制部21的精制裝置21a及第2精制部22的精制裝置22a進(jìn)行說明。精制裝置21a包括供氟氣通過的筒狀構(gòu)件31a，在其周圍設(shè)有加熱器41a，控制筒狀構(gòu)件31a內(nèi)的溫度。在室溫左右的溫度范圍內(nèi)，氟化鈉吸附的氟化氫的量增加，氟化鈉變得容易老化。因此，優(yōu)選將第I精制部的精制裝置21a中的筒狀構(gòu)件31a的溫度設(shè)定為可以吸附大部分的氟化氫且不對吸附劑產(chǎn)生負(fù)擔(dān)的程度。也就是說，第I精制部21是用于進(jìn)行除去氟氣中的大部分的氟化氫的粗去除工序。考慮所要求的氟氣中的氟化氫濃度及吸附劑的負(fù)擔(dān)，優(yōu)選使筒狀構(gòu)件31a內(nèi)的溫度條件處于70°C 120°C的溫度范圍內(nèi)。為了減少填充在筒狀構(gòu)件31a內(nèi)的氟化鈉老化且使從電解槽I導(dǎo)入的氟氣中的氟化氫濃度小于lOOOppm，特別優(yōu)選使筒狀構(gòu)件31a的溫度處于70°C 100°C的范圍內(nèi)。與精制裝置21a相同地，精制裝置22a包括供氟氣通過的筒狀構(gòu)件32a，在其周圍設(shè)有加熱器42a，控制筒狀構(gòu)件32a內(nèi)的溫度。通過精制裝置22a的氟氣在精制裝置21a中被除去大部分的氟化氫。因此，優(yōu)選在精制裝置22a中通過使筒狀構(gòu)件32b的溫度處于室溫附近左右，從而提高氟化鈉的吸附能力，使其吸附?jīng)]有在被精制裝置21a中被完全除去的氟化氫。為了使經(jīng)由精制裝置21a導(dǎo)入的氟氣中的氟化氫濃度小于lOOppm，優(yōu)選筒狀構(gòu)件32a內(nèi)的溫度處于(TC 50°C的范圍。該情況下，由于在精制裝置21a中除去了大部分的氟化氫，因此對筒狀構(gòu)件32a內(nèi)的吸附劑的負(fù)擔(dān)變得非常小。如上所述，優(yōu)選將第I精制部中的導(dǎo)入氟氣的精制裝置內(nèi)的溫度設(shè)定為高于第2精制部中的導(dǎo)入氟氣的精制裝置內(nèi)的溫度，在第I精制部中不對精制裝置內(nèi)的吸附劑帶來較大負(fù)擔(dān)地除去大部分的氟化氫，在第2精制部中除去未能被第I精制部吸附的氟化氫，可以根據(jù)期望的氟氣的純度(氟化氫濃度)的狀況，適當(dāng)設(shè)定溫度條件。也就是說，能夠通過控制各精制裝置中的氟化氫的吸附量，從而不使填充在各個精制裝置中的吸附劑老化，并且除去、回收氟氣中的氟化氫。在吸附在精制裝置21a中的筒狀構(gòu)件31a內(nèi)的氟化氫的累積量增加且利用設(shè)在出口通路52a處的氟化氫濃度檢測器61a檢測出的氟化氫濃度達(dá)到了規(guī)定值的情況下，使精制裝置21a停止運(yùn)轉(zhuǎn)并且使待機(jī)狀態(tài)的精制裝置21b起動，進(jìn)行精制裝置的運(yùn)轉(zhuǎn)切換。在精制裝置21a中，在運(yùn)轉(zhuǎn)停止后進(jìn)行更新工序。此外，同樣地，在利用設(shè)在精制裝置22a的出口通路53a處的氟化氫濃度檢測器(未圖示)檢測出的氟化氫濃度達(dá)到了規(guī)定值的情況下，也能夠從精制裝置22a切換到精制裝置22b。在第I精制部21及第2精制部22中各精制裝置的運(yùn)轉(zhuǎn)切換和精制裝置的更新工序相同，因此，以下，以從精制裝置21a向精制裝置21b的運(yùn)轉(zhuǎn)切換和在精制裝置21a處的更新工序?yàn)槔M(jìn)行說明。首先，對精制裝置的運(yùn)轉(zhuǎn)切換進(jìn)行說明。當(dāng)吸附于精制裝置21a中的筒狀構(gòu)件31a內(nèi)的氟化氫的累積量增加時，由設(shè)于出口通路52a的氟化氫濃度檢測器61a檢測出的氟化氫濃度升高。當(dāng)檢測出的氟化氫濃度達(dá)到規(guī)定流量時，進(jìn)行從精制裝置21a向精制裝置21b的運(yùn)轉(zhuǎn)切換。具體來說，在精制裝置21b的入口閥lib、出口閥12b及斷流閥14打開后，精制裝置21a的入口閥Ila及出口閥12a閉閥。由此，起動精制裝置21b并且使精制裝置21a停止，將來自電解槽I的氟氣引導(dǎo)到精制裝置21b。此外，也可以利用設(shè)在用于貯存氟氣的第I緩沖罐50內(nèi)的、用于檢測氟化氫濃度的檢測器62測定氟化氫濃度，基于該檢測結(jié)果進(jìn)行從精制裝置21a向精制裝置21b的運(yùn)轉(zhuǎn)切換。接下來，對精制裝置的更新工序進(jìn)行說明。在停止的精制裝置21a中，從設(shè)于筒狀構(gòu)件31a的、用于排出氟氣的通路701a進(jìn)行氟氣的排出。具體來說，通過使設(shè)于通路701a的排出閥IOa全開而利用排出泵90a吸引氟氣，從而排出氟氣。在排出精制裝置21a中的筒狀構(gòu)件31a內(nèi)的氟氣后，將設(shè)在筒狀構(gòu)件31a的周圍的加熱器41a的溫度設(shè)定在150°C 300°C的范圍內(nèi)。由此，使被筒狀構(gòu)件31a內(nèi)的氟化鈉吸附的氟化氫脫離。此外，使設(shè)于排出通路71a的排出閥17a全開，脫離的氟化氫被第2泵18吸引而被輸送到氟化氫供給源60。在完成筒狀構(gòu)件31a內(nèi)的氟化氫的排出后，使設(shè)于排出通路71a的排出閥17a全閉。如上所述，完成筒狀構(gòu)件31a的氟化氫的排出。在完成筒狀構(gòu)件31a的氟化氫的排出后，為了使精制裝置21a處于待機(jī)狀態(tài)，將設(shè)在筒狀構(gòu)件31a的周圍的加熱器41a的溫度設(shè)定在70°C 100°C的溫度范圍內(nèi)。此外，利用設(shè)在用于調(diào)整精制裝置21a內(nèi)的壓力的通路中的壓力調(diào)整閥16a，將筒狀構(gòu)件31a的壓力調(diào)整為與電解槽I的壓力相等。通過從貯存氟氣的第I緩沖罐50向筒狀構(gòu)件31a內(nèi)供給氟氣，從而使筒狀構(gòu)件31a的內(nèi)部壓力上升,在該壓力上升到與電解槽I的壓力相等的時刻停止氟氣的供給。通過上述操作，結(jié)束精制裝置21a的更新工序，使精制裝置21a處于待機(jī)狀態(tài)。如上所述，停止中的精制裝置21a處于將筒狀構(gòu)件31a內(nèi)的溫度設(shè)定在規(guī)定溫度(70°C 100°C )的范圍內(nèi)，并且向筒狀構(gòu)件31a內(nèi)填充氟氣而將壓力調(diào)整為與電解槽相等的壓力的的待機(jī)狀態(tài)。從而，能夠在運(yùn)轉(zhuǎn)中的精制裝置21b中的筒狀構(gòu)件31b的氟化氫累積量達(dá)到了規(guī)定值的情況下，使精制裝置21b停止運(yùn)轉(zhuǎn)并且使精制裝置21a迅速起動，進(jìn)行精制裝置的運(yùn)轉(zhuǎn)切換。以上的精制線20的工作可以如下述這樣控制，即，通過在用于檢測各精制裝置的下游、第I緩沖罐50中的氟化氫濃度的濃度檢測器中設(shè)有控制器，基于檢測結(jié)果控制各閥及各泵的動作。若采用以上的實(shí)施方式，可以實(shí)現(xiàn)下述的作用效果。精制線20包括用于粗去除氟氣中的氟化氫的第I精制部21和用于除去沒有被第I精制部完全回收的氟化氫的第2精制部22。能夠通過調(diào)整第I精制部21和第2精制部中的精制裝置的溫度，從而控制氟化氫的吸附量，減少用于精制裝置的吸附劑的老化。因此，使進(jìn)行吸附劑的回收、更換的維護(hù)變得容易。此外，能夠通過將在被精制線20中的各精制裝置中所吸附的氟化氫供給到電解槽的原料源，進(jìn)行再利用，從而高效地生成氟氣。此外，對于在使用設(shè)有吸附劑保持件的精制裝置(第2實(shí)施方式的精制裝置)的情況下的精制線20的吸附工序、脫附工序(更新工序)，能夠以與上述說明的操作同樣的操作進(jìn)行作業(yè)，因此省略說明。本發(fā)明并不限定于上述的實(shí)施方式，顯然可以在其技術(shù)思想的范圍內(nèi)進(jìn)行各種變更。例如，在精制線20中的各精制部中，也可以設(shè)有三個以上精制裝置。
產(chǎn)業(yè)h的可利用件本發(fā)明能夠應(yīng)用于生成氟氣的裝置。能力試駘例使用圖7所示的裝置概略圖，進(jìn)行能夠應(yīng)用于本發(fā)明的第2實(shí)施方式的精制裝置的精制能力試驗(yàn)。作為精制能力試驗(yàn)，測定反復(fù)進(jìn)行使用過程中的精制裝置氣體入口 A和出口 B處的壓力差和出口氣體中的氟化氫濃度。以下，作為吸附劑保持件的盆狀構(gòu)件的一例，將使用盤型容器的精制裝置稱作盤型精制裝置而進(jìn)行說明。具體來說，反復(fù)進(jìn)行使氟化氫吸附到吸附劑的吸附工序和氟化氫的脫附工序，將每次反復(fù)進(jìn)行時測定的精制裝置氣體入口 A與氣體出口 B的壓力差和氣體出口 B的氟化氫濃度的結(jié)果表示在表I中。此外，在同樣的實(shí)驗(yàn)條件下，將使用豎立型填充精制裝置的情況
表示為參考例。這里所說的縱型填充精制裝置是指豎立配置筒狀構(gòu)件且將吸附劑直接填充到筒狀構(gòu)件的內(nèi)部的裝置。實(shí)施例1-1使用盤型容器作為盆狀構(gòu)件，盤型容器使用在端部設(shè)有缺口部且對底板部進(jìn)行打孔加工而插入有網(wǎng)狀的金屬薄片而成的容器。此外，使用不銹鋼制的材料作為盤型容器的材質(zhì)。如圖7所示，為了使氣體的流動為蜿蜒曲折狀，從氣體的入口朝向出口方向，以左右交替的方式在精制裝置的筒狀構(gòu)件內(nèi)的側(cè)面上設(shè)有8層缺口部。分別將80g作為吸附劑的氟化鈉填充到盤型容器(8層總量640g)中。此外，利用設(shè)在筒狀構(gòu)件外周處的加熱器將筒狀構(gòu)件內(nèi)的溫度調(diào)整到ioo°c。作為樣品氣體，以0. 7cm/sec的流速使被氮?dú)庀♂尪玫降?%的氟化氫氣體流通15小時，利用壓力計測定精制裝置的氣體入口 A和氣體出口 B的壓力差，相應(yīng)地，利用傅立葉變換紅外光譜儀(FT-IR)分析流通15小時后的氣體出口 B的氟化氫濃度。接下來，利用設(shè)在筒狀構(gòu)件外周的加熱器將筒狀構(gòu)件內(nèi)的溫度調(diào)整到250°C，使氮?dú)庖?. lcm/sec的流速流通，進(jìn)行吸附在吸附劑(氟化鈉)上的氟化氫的脫附操作。此外，進(jìn)行15次同樣的使吸附劑吸附氟化氫的吸附工序和氟化氫的脫附工序，分別在各次工序中進(jìn)行壓力差測定和氟化氫濃度的測定。如表I所示，即使在反復(fù)進(jìn)行了 15次測定的情況下，在盤型精制裝置中，也沒有在精制裝置的氣體入口 A和氣體出口 B處產(chǎn)生較大的壓力差。此外，全部15次測定中的氣體出口 B的氟化氫濃度為IOOOpp m以下。由上述結(jié)果可知，能夠通過使用盤型精制裝置，從而不在精制裝置產(chǎn)生閉塞而高效地吸附氟化氫。參考例1-1作為精制裝置，除了使用未在筒狀構(gòu)件內(nèi)部設(shè)有吸附劑保持件的豎立型填充精制裝置(直接填充640g作為吸附劑的氟化鈉)之外，在與實(shí)施例1-1相同的實(shí)驗(yàn)條件下進(jìn)行了精制能力試驗(yàn)。其結(jié)果，雖然在豎立型填充精制裝置中，在全部15次測定中氣體出口 B的氟化氫濃度為IOOOppm以下，但是在第六次進(jìn)行反復(fù)進(jìn)行時壓力差為IOOOOPa以上，該豎立型填充精制裝置已經(jīng)完全閉塞。由實(shí)施例1-1及參考例1-1可知，盤型精制裝置具有與縱型填充精制裝置同等的精制能力，并且不易閉塞。表I
權(quán)利要求
1.一種氟氣生成裝置，其通過電解包含氟化氫的熔融鹽中的氟化氫而生成氟氣，其特征在于， 該氟氣生成裝置包括電解槽，其通過在由包含氟化氫的熔融鹽構(gòu)成的電解液中電解氟化氫，從而在陽極側(cè)產(chǎn)生以氟氣作為主成分的主生成氣體，并且在陰極側(cè)產(chǎn)生以氫氣作為主成分的副生成氣體；精制線，其具有精制裝置，該精制裝置利用吸附劑除去由上述電解槽的熔融鹽氣化而混入到從上述陽極生成的氟氣中的氟化氫氣體； 上述精制線包括并聯(lián)配置有至少兩臺精制裝置的第I精制部；并聯(lián)配置有至少兩臺精制裝置且配置在上述第I精制部的下游的第2精制部； 通過了上述第I精制部的任一精制裝置的氟氣被引導(dǎo)到上述第2精制部的任一精制裝置中。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的氟氣生成裝置，其特征在于， 上述精制裝置包括吸附劑收納部件，其用于內(nèi)置吸附劑，該吸附劑用于吸附在上述電解槽中產(chǎn)生的氟氣中的氟化氫，該吸附劑的吸附能力根據(jù)溫度而變化；溫度調(diào)節(jié)器，其用于調(diào)節(jié)上述吸附劑收納部件內(nèi)的溫度；濃度檢測器，其用于檢測通過了上述吸附劑收納部件內(nèi)的上述氟氣中的氟化氫濃度； 基于上述濃度檢測器的檢測結(jié)果，在上述第I精制部或者上述第2精制部中進(jìn)行運(yùn)轉(zhuǎn)切換，從而向待機(jī)狀態(tài)的精制裝置導(dǎo)入氟氣，從由于上述運(yùn)轉(zhuǎn)切換而停止了的精制裝置的上述吸附劑收納部件內(nèi)排出氟化氫，利用上述溫度調(diào)節(jié)器調(diào)整上述精制裝置內(nèi)的溫度，使停止過程中的精制裝置變?yōu)榇龣C(jī)狀態(tài)。
3.根據(jù)權(quán)利要求I或2所述的氟氣生成裝置，其特征在于， 在上述第I精制部及上述第2精制部中，將導(dǎo)入氟氣的吸附劑收納部件內(nèi)的溫度設(shè)定在0°C 120°C的范圍內(nèi)，并且使上述第I精制部中的該吸附劑收納部件內(nèi)的溫度高于上述第2精制部中的該吸附劑收納部件內(nèi)的溫度。
4.根據(jù)權(quán)利要求I至3中任一項所述的氟氣生成裝置，其特征在于， 在上述吸附劑收納部件內(nèi)設(shè)有以具有用于確保氣體流路的空隙的方式配置的吸附劑保持件。
5.根據(jù)權(quán)利要求I至4中任一項所述的氟氣生成裝置，其特征在于， 在上述吸附劑保持件上設(shè)有貫穿孔。
6.根據(jù)權(quán)利要求I至5中任一項所述的氟氣生成裝置，其特征在于， 上述吸附劑保持件為盆狀構(gòu)件。
7.根據(jù)權(quán)利要求4至6中任一項所述的氟氣生成裝置，其特征在于， 以使上述吸附劑收納部件內(nèi)的氣體的流動為蜿蜒曲折狀的方式設(shè)置上述吸附劑保持件。
8.根據(jù)權(quán)利要求I至7中任一項所述的氟氣生成裝置，其特征在于， 在上述第I精制部中的精制裝置及上述第2精制部中的精制裝置中包含用于排出被吸附的氟化氫的導(dǎo)出路徑，回收被該精制裝置吸附的氟化氫，在上述電解槽中對氟化氫進(jìn)行再利用。
9.根據(jù)權(quán)利要求I至8中任一項所述的氟氣生成裝置，其特征在于， 上述吸附劑是氟化鈉。
全文摘要
本發(fā)明提供一種使對用于吸附氟化氫的吸附劑進(jìn)行回收、更換的維護(hù)變得容易且能夠穩(wěn)定地供給氟氣的氟氣生成裝置(100)。該氟氣生成裝置包括精制線(20)，該精制線包含精制裝置，該精制裝置利用吸附劑除去由電解槽(1)的熔融鹽氣化而混入到從陽極(103a)生成的氟氣中的氟化氫氣體，精制線(20)包括并聯(lián)配置有至少兩臺精制裝置的第1精制部(21)和并聯(lián)配置有至少兩臺精制裝置的、配置在第1精制部(21)的下游的第2精制部(22)，通過了第1精制部(21)的任一精制裝置的氟氣被導(dǎo)入到第2精制部(22)的任一精制裝置。
文檔編號C25B1/24GK102803565SQ20108002614
公開日2012年11月28日 申請日期2010年3月29日 優(yōu)先權(quán)日2009年6月12日
發(fā)明者毛利勇, 宮崎達(dá)夫, 八尾章史, 北拓也 申請人:中央硝子株式會社