1.一種除雜裝置，其特征在于，包括：
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的除雜裝置，其特征在于，還包括：
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的除雜裝置，其特征在于，所述定位配合部為設(shè)于所述吸附組件的上表面的定位槽，所述定位機(jī)構(gòu)具有伸縮式的定位桿，所述定位桿用于伸入所述定位槽。
4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的除雜裝置，其特征在于，還包括：
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的除雜裝置，其特征在于，所述第一避讓孔為圓心位于所述吸附組件的旋轉(zhuǎn)軸線的圓弧形。
6.根據(jù)權(quán)利要求1-5任一項(xiàng)所述的除雜裝置，其特征在于，所述除雜裝置還包括：支撐結(jié)構(gòu)，所述吸附驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)安裝于所述支撐結(jié)構(gòu)；
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的除雜裝置，其特征在于，所述支撐結(jié)構(gòu)包括：
8.根據(jù)權(quán)利要求1-7任一項(xiàng)所述的除雜裝置，其特征在于，還包括：
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的除雜裝置，其特征在于，還包括：
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的除雜裝置，其特征在于，所述蓋體驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)的輸出端包括：連桿，所述避讓口為圓心位于所述蓋體的旋轉(zhuǎn)軸線的圓弧形，所述連桿與所述蓋體鉸接。
11.一種除雜系統(tǒng)，其特征在于，包括：
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的除雜系統(tǒng)，其特征在于，所述清洗裝置包括：
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的除雜系統(tǒng)，其特征在于，所述隔離件為薄膜，所述清潔機(jī)構(gòu)包括：
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的除雜系統(tǒng)，其特征在于，所述清洗裝置還包括：
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的除雜系統(tǒng)，其特征在于，所述清洗裝置還包括：
16.根據(jù)權(quán)利要求13-15任一項(xiàng)所述的除雜系統(tǒng)，其特征在于，所述刮洗機(jī)構(gòu)還包括：
17.根據(jù)權(quán)利要求13-16任一項(xiàng)所述的除雜系統(tǒng)，其特征在于，所述清潔機(jī)構(gòu)還包括：
18.根據(jù)權(quán)利要求12-17中任一項(xiàng)所述的除雜系統(tǒng)，其特征在于，所述清洗裝置還包括：
19.一種使用如權(quán)利要求1-10中任一項(xiàng)所述的除雜裝置的清潔方法，其特征在于，包括：
20.根據(jù)權(quán)利要求19所述的清潔方法，其特征在于，還包括：
21.根據(jù)權(quán)利要求20所述的清潔方法，其特征在于，在所述除雜裝置的吸附組件脫離所述除雜腔之前，所述方法還包括：所述除雜裝置的蓋體驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)驅(qū)動(dòng)所述除雜裝置的蓋體轉(zhuǎn)動(dòng)至所述蓋體與所述除雜腔解鎖；