專利名稱：射出機(jī)真空裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種射出機(jī)的真空裝置，特別是涉及一種能以蓋體在 射出機(jī)內(nèi)形成負(fù)壓加工區(qū)域的射出機(jī)真空裝置。
背景技術(shù)：
一般射出機(jī)由于缺乏在工作區(qū)域形成負(fù)壓環(huán)境的設(shè)計(jì)，因此在射出加 工時(shí)，無法以負(fù)壓的手段增加塑料的流動(dòng)性，不能藉此降低缺陷的產(chǎn)生，亦 不能藉此提升成品的品質(zhì)。
雖然射出機(jī)缺乏將工作區(qū)域抽真空的構(gòu)造，但在加硫機(jī)上已有類似作 用的設(shè)計(jì)，前述類似的設(shè)計(jì)是在加硫機(jī)的注料道周圍套設(shè)一可升降的活動(dòng) 罩，藉由活動(dòng)罩的升降作用，在加硫機(jī)合模時(shí)，以活動(dòng)罩配合罩蓋在下模座 形成可抽成真空的工作區(qū)域。
前述加硫機(jī)雖然有抽真空的構(gòu)造，但由于注料道的長度受限于活動(dòng)罩 升降的行程，必須設(shè)為較長的長度,但如此的構(gòu)造若直接轉(zhuǎn)用在射出機(jī)，則 勢(shì)必增加塑料注料時(shí)流動(dòng)的長度，影響塑料的流動(dòng)性并且容易出現(xiàn)產(chǎn)生缺
陷的問題。
由此可見，上述現(xiàn)有的射出機(jī)缺乏真空裝置，但轉(zhuǎn)用加石克機(jī)的相關(guān)構(gòu) 造又容易造成注料時(shí)流動(dòng)性不足，在結(jié)構(gòu)與使用上顯然仍存在有不便與缺 陷，而亟待加以進(jìn)一步改進(jìn)。為了解決上述存在的問題，相關(guān)廠商莫不費(fèi)盡 心思來謀求解決之道，但長久以來一直未見適用的設(shè)計(jì)被發(fā)展完成，而一 般產(chǎn)品又沒有適切結(jié)構(gòu)能夠解決上述問題，此顯然是相關(guān)業(yè)者急欲解決的 問題。因此如何能創(chuàng)設(shè)一種新型結(jié)構(gòu)的射出機(jī)真空裝置，實(shí)屬當(dāng)前重要研發(fā) 課題之一，亦成為當(dāng)前業(yè)界極需改進(jìn)的目標(biāo)。
發(fā)明內(nèi)容
本實(shí)用新型主要目的在于，克服現(xiàn)有射出機(jī)缺乏真空裝置，但轉(zhuǎn)用加硫 機(jī)的相關(guān)構(gòu)造又容易造成注料時(shí)流動(dòng)性不足的缺陷，而提供一種新型結(jié)構(gòu) 的射出機(jī)真空裝置，所要解決的技術(shù)問題是使其以雙罩體的設(shè)計(jì)形成獨(dú)立 的蓋合構(gòu)造，在射出機(jī)形成可抽氣成為負(fù)壓環(huán)境的工作區(qū)域，藉此提升射出 成形的品質(zhì)，非常適于實(shí)用。
本實(shí)用新型的目的及解決其技術(shù)問題是采用以下的技術(shù)方案來實(shí)現(xiàn)
的。依據(jù)本實(shí)用新型提出的一種射出機(jī)真空裝置，其包括 一射出機(jī)體，該射出機(jī)體是設(shè)有一頂座，在該頂座底部的中間設(shè)有一注料道；以及一罩蓋構(gòu) 造,該罩蓋構(gòu)造是設(shè)有一固定罩，該固定罩是結(jié)合于該頂座的底面，并且環(huán) 繞于該注料道的周圍，在該固定罩的周圍以可上、下滑動(dòng)形態(tài)套設(shè)一活動(dòng) 罩，在該活動(dòng)罩的側(cè)面與該頂座之間設(shè)有一升降壓缸。
本實(shí)用新型的目的以及解決其技術(shù)問題還可以采用以下的技術(shù)措施來 進(jìn)一步實(shí)現(xiàn)。
前述的射出機(jī)真空裝置，其中所述的射出機(jī)體在所述頂座的下方設(shè)有 一底座，在該頂座以及該底座的周圍之間，以矩陣形態(tài)結(jié)合四個(gè)支撐柱，又 在該底座上設(shè)有一可升降的下模座，該下模座的四個(gè)角分別以可滑動(dòng)形態(tài) 套設(shè)于四個(gè)支撐柱。
前述的射出機(jī)真空裝置，其中所述的頂座其中 一側(cè)面中間的上半部凹 i殳一凹部，對(duì)應(yīng)該凹部的下方在該頂座形成一穿置部，該穿置部是位于該 側(cè)相鄰的兩支撐柱之間，在該穿置部的中間及兩側(cè)分別以垂直形態(tài)穿設(shè)一 壓缸穿置孔及兩導(dǎo)桿穿孔；以及對(duì)應(yīng)該穿置部下方的位置，在該活動(dòng)罩的側(cè)
面固設(shè)一連結(jié)座，所述升降壓缸是以垂直形態(tài)穿置結(jié)合于該壓缸穿置孔，并 且以底端朝下伸設(shè)一壓缸桿，以該壓缸桿結(jié)合于該連結(jié)座的中間，又在兩 導(dǎo)桿穿孔以可上、下滑動(dòng)形態(tài)穿置兩導(dǎo)桿，以兩導(dǎo)桿的底端結(jié)合于該連結(jié)座。
本實(shí)用新型與現(xiàn)有技術(shù)相比具有明顯的優(yōu)點(diǎn)和有益效果。經(jīng)由以上可
知，為了達(dá)到上述目的，本實(shí)用新型提供了一種射出機(jī)真空裝置，包括
一射出機(jī)體，該射出機(jī)體是在上、下位置設(shè)有一頂座及一底座，又在該 頂、底座的周圍之間設(shè)有四個(gè)以矩陣形態(tài)排列設(shè)置的支撐柱，在該頂座底
部設(shè)有一注料道，又在該底座上設(shè)有一可升降的下模座；以及
一罩蓋構(gòu)造，該罩蓋構(gòu)造設(shè)有一固定罩，該固定罩結(jié)合于該頂座的底 面，并且環(huán)繞于該注料道的周圍，在該固定罩的周圍以可上、下滑動(dòng)形態(tài)套 設(shè)一活動(dòng)罩，在該活動(dòng)罩的側(cè)面與該頂座之間設(shè)有一升降壓缸。
進(jìn)一步，本實(shí)用新型在頂座其中 一側(cè)面中間的上半部凹i殳一 凹部，對(duì)應(yīng) 該凹部的下方在該頂座形成一穿置部，該穿置部位于該側(cè)相鄰的兩支撐柱 之間，在該穿置部的中間以及兩側(cè)分別以垂直形態(tài)穿設(shè)一壓缸穿置孔以及
兩導(dǎo)桿穿孔；
對(duì)應(yīng)該穿置部下方的位置，在該活動(dòng)罩的側(cè)面固設(shè)一連結(jié)座，所述升降 壓缸是以垂直形態(tài)穿置結(jié)合于該壓缸穿置孔，并且以底端朝下伸設(shè)一壓缸 桿，以該壓缸桿結(jié)合于該連結(jié)座的中間，又在兩導(dǎo)桿穿孔以可上、下滑動(dòng)形
態(tài)穿置兩導(dǎo)桿，以兩導(dǎo)桿的底端結(jié)合于該連結(jié)座。
當(dāng)本實(shí)用新型使用時(shí)，是以升降壓缸驅(qū)動(dòng)活動(dòng)罩下降，藉此，令射出機(jī)
體驅(qū)動(dòng)下模座上升合模時(shí)，能以活動(dòng)罩的底緣抵靠于下模座頂面的周圍，令固定罩、活動(dòng)罩一同蓋合于下模座而形成工作區(qū)域，提供負(fù)壓源抽取空氣而 形成負(fù)壓的環(huán)境。
借由上述技術(shù)方案，本實(shí)用新型射出機(jī)真空裝置至少具有下列優(yōu)點(diǎn)及
有益效果由于本實(shí)用新型以活動(dòng)罩能蓋合于底座，提供負(fù)壓源抽真空形 成負(fù)壓環(huán)境，因此能夠在加工時(shí)提升塑料的流動(dòng)性以及速度，達(dá)到較佳的 射出效果并減少缺陷的產(chǎn)生。此外，由于固定罩、活動(dòng)罩是獨(dú)立設(shè)置于注 料道周圍的構(gòu)造，因此注料道設(shè)置的長短不受活動(dòng)罩升降行程的限制而能 夠設(shè)為較短的狀態(tài)，能藉由縮短塑料注料時(shí)流動(dòng)的過程，進(jìn)一步避免缺陷的 產(chǎn)生。
綜上所述，本實(shí)用新型是有關(guān)于一種射出機(jī)真空裝置，其設(shè)有一頂 座，在頂座的底部設(shè)有一注料道，對(duì)應(yīng)注料道的周圍在頂座底面結(jié)合一固定 罩，又在固定罩的周圍以可上、下滑動(dòng)形態(tài)套設(shè)一活動(dòng)罩，在活動(dòng)罩的側(cè)面
與頂座之間結(jié)合一升降壓缸；本實(shí)用新型使用時(shí)，是以升降壓缸降下活動(dòng) 罩，令活動(dòng)罩蓋合于下模座的周圍，接著以真空源朝固定、活動(dòng)罩內(nèi)抽取空 氣形成負(fù)壓的環(huán)境，藉此增加注料時(shí)的流動(dòng)性以及速度，并由于雙罩體的 構(gòu)造與注料道是獨(dú)立的設(shè)計(jì)，因此注料道能設(shè)為較短的形態(tài)，能夠降低塑 料的流動(dòng)行程，進(jìn)一步避免缺陷的產(chǎn)生。本實(shí)用新型在技術(shù)上有顯著的進(jìn) 步，并具有明顯的積極效果，誠為一新穎、進(jìn)步、實(shí)用的新設(shè)計(jì)。
上述說明僅是本實(shí)用新型技術(shù)方案的概述，為了能夠更清楚了解本實(shí) 用新型的技術(shù)手段，而可依照說明書的內(nèi)容予以實(shí)施，并且為了讓本實(shí)用 新型的上述和其他目的、特征和優(yōu)點(diǎn)能夠更明顯易懂，以下特舉較佳實(shí)施 例，并配合附圖，詳細(xì)說明如下。


圖1是本實(shí)用新型較佳實(shí)施例的主視圖。
圖2是本實(shí)用新型較佳實(shí)施例的右視圖。
圖3是本實(shí)用新型較佳實(shí)施例的局部結(jié)構(gòu)立體圖。
圖4是本實(shí)用新型較佳實(shí)施例的動(dòng)作示意圖。
10:射出機(jī)體11:頂座
111:凹部112:穿置部
1121:壓缸穿置孔1122:導(dǎo)桿穿孔
12:底座13:支撐柱
14:注料道15:下模座
20:罩蓋構(gòu)造21:固定罩
22:活動(dòng)罩23:連結(jié)座
24:升降壓缸241: 5壓缸桿25: 導(dǎo)桿具體實(shí)施方式
為更進(jìn)一步闡述本實(shí)用新型為達(dá)成預(yù)定發(fā)明目的所采取的技術(shù)手段及 功效，
以下結(jié)合附圖及較佳實(shí)施例，對(duì)依據(jù)本實(shí)用新型提出的射出機(jī)真空裝 置其具體實(shí)施方式
、結(jié)構(gòu)、特征及其功效，詳細(xì)說明如后。
有關(guān)本實(shí)用新型的前述及其他技術(shù)內(nèi)容、特點(diǎn)及功效，在以下配合參閱 圖式，較佳實(shí)施例的詳細(xì)說明中將可清楚的呈現(xiàn)。通過具體實(shí)施方式
的說
加深入且具體的了解，然而所附圖式僅是提供參考與說明之用，并非用來對(duì) 本實(shí)用新型加以限制。
本實(shí)用新型是一種射出機(jī)真空裝置,請(qǐng)參閱圖1、圖2及圖3所示，圖1 是本實(shí)用新型較佳實(shí)施例的主視圖，圖2是本實(shí)用新型較佳實(shí)施例的右視 圖，圖3是本實(shí)用新型較佳實(shí)施例的局部結(jié)構(gòu)立體圖。本實(shí)用新型較佳實(shí)施 例的射出機(jī)真空裝置，其包括
一射出機(jī)體10，射出機(jī)體10在上、下相對(duì)的位置分別設(shè)有一頂座11 以及一底座12，又在頂座11與底座12的周圍之間，以矩陣的排列方式結(jié)合 四個(gè)支撐柱13;
其中，在頂座11右側(cè)面中間的上半部凹設(shè)一凹部lll，對(duì)應(yīng)凹部111的 下方在頂座11側(cè)面的底部形成一穿置部112，穿置部ll2是位于右側(cè)前、后 相鄰的兩支撐柱13之間，在穿置部112的中間垂直穿設(shè)一壓缸穿置孔 1121，對(duì)應(yīng)壓缸穿置孔1121的前、后兩側(cè)，在穿置部112垂直穿設(shè)兩導(dǎo)桿穿 孔1122;
在頂座11底部的中央設(shè)有一注料道14，又在底座l2上設(shè)有一藉由壓缸 驅(qū)動(dòng)而可升降的下模座15，下模座15的四角分別套設(shè)于四個(gè)支撐柱13,藉 此,令下模座15可藉由四個(gè)支撐柱13的導(dǎo)引作穩(wěn)定的升降。
一罩蓋構(gòu)造20，罩蓋構(gòu)造20設(shè)有一固定罩21,固定罩21是矩形的環(huán)
狀罩殼，其以頂部結(jié)合固定于頂座11的底面，并藉此環(huán)繞于注料道l4的 周圍，在固定罩21的周圍以可上、下滑動(dòng)的形態(tài)套設(shè)一活動(dòng)罩22,活動(dòng)罩 22形狀對(duì)應(yīng)固定罩21的矩形環(huán)狀殼體，并且活動(dòng)罩22下移的行程不超過固 定罩21的下緣；
對(duì)應(yīng)穿置部112下方的位置，在活動(dòng)罩22的右側(cè)面固設(shè)一連結(jié)座 2 3,連結(jié)座23是位于右側(cè)前、后相鄰的兩支撐柱13之間；
在穿置部112的壓缸穿置孔1121穿置結(jié)合一升降壓缸24,升降壓缸24 是以垂直的形態(tài)設(shè)置，并且在底端朝下伸設(shè)一壓缸桿241,以壓缸桿M1結(jié) 合于連結(jié)座23的中間，又在兩導(dǎo)桿穿孔1122以可上、下滑動(dòng)形態(tài)穿置兩導(dǎo)
6桿25,兩導(dǎo)桿25各以底端結(jié)合于連結(jié)座23的兩側(cè)，藉此提供升降壓缸24驅(qū) 動(dòng)活動(dòng)罩22升降時(shí)的導(dǎo)引作用，令活動(dòng)罩22能夠穩(wěn)定升降。
當(dāng)本實(shí)用新型使用時(shí)，請(qǐng)參閱圖4所示，是本實(shí)用新型較佳實(shí)施例的 動(dòng)作示意圖。當(dāng)合模時(shí)，射出機(jī)體10驅(qū)動(dòng)下模座15上升，同時(shí)升降壓缸 24將壓缸桿241伸長，帶動(dòng)活動(dòng)罩22下降，以活動(dòng)罩22的底緣抵靠于下 模座15頂面的周圍，令固定罩21、活動(dòng)罩22—同蓋合于下模座15而形成 工作區(qū)域，接著以負(fù)壓源朝固定罩21與活動(dòng)罩22內(nèi)抽取空氣，使得前述 的工作區(qū)域形成負(fù)壓環(huán)境，如此使注料道14朝模具注料射出成形時(shí)，能夠 增加塑料的流動(dòng)性以及速度，達(dá)成較佳的射出成形效果并減少成品缺陷的產(chǎn)生。
以上所述，僅是本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例而已，并非對(duì)本實(shí)用新型作任 何形式上的限制，雖然本實(shí)用新型已以較佳實(shí)施例揭露如上，然而并非用 以限定本實(shí)用新型，任何熟悉本專業(yè)的技術(shù)人員在不脫離本實(shí)用新型技術(shù) 方案范圍內(nèi)，當(dāng)可利用上述揭示的技術(shù)內(nèi)容作出些許更動(dòng)或修飾為等同變 化的等效實(shí)施例，但凡是未脫離本實(shí)用新型技術(shù)方案的內(nèi)容，依據(jù)本實(shí)用 新型的技術(shù)實(shí)質(zhì)對(duì)以上實(shí)施例所作的任何簡單修改、等同變化與修飾，均仍 屬于本實(shí)用新型技術(shù)方案的范圍內(nèi)。
權(quán)利要求1、一種射出機(jī)真空裝置，其特征在于其包括一射出機(jī)體，該射出機(jī)體是設(shè)有一頂座，在該頂座底部的中間設(shè)有一注料道；以及一罩蓋構(gòu)造，該罩蓋構(gòu)造設(shè)有一固定罩，該固定罩是結(jié)合于該頂座的底面，并且環(huán)繞于該注料道的周圍，在該固定罩的周圍以上、下滑動(dòng)形態(tài)套設(shè)一活動(dòng)罩，在該活動(dòng)罩的側(cè)面與該頂座之間設(shè)有一升降壓缸。
2、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的射出機(jī)真空裝置，其特征在于其中所述的射 出機(jī)體在所述頂座的下方設(shè)有一底座，在該頂座以及該底座的周圍之間，以 矩陣形態(tài)結(jié)合四個(gè)支撐柱，又在該底座上設(shè)有一升降的下模座，該下模座的 四個(gè)角分別以滑動(dòng)形態(tài)套設(shè)于四個(gè)支撐柱。
3、 根據(jù)權(quán)利要求2所述的射出機(jī)真空裝置，其特征在于其中所述的頂 座其中 一側(cè)面中間的上半部凹設(shè)一凹部，對(duì)應(yīng)該凹部的下方在該頂座形成 一穿置部，該穿置部是位于該側(cè)相鄰的兩支撐柱之間，在該穿置部的中間 及兩側(cè)分別以垂直形態(tài)穿設(shè)一壓缸穿置孔及兩導(dǎo)桿穿孔；以及對(duì)應(yīng)該穿置部下方的位置，在該活動(dòng)罩的側(cè)面固設(shè)一連結(jié)座，所述升降 壓缸是以垂直形態(tài)穿置結(jié)合于該壓缸穿置孔，并且以底端朝下伸設(shè)一壓缸 桿，以該壓缸桿結(jié)合于該連結(jié)座的中間，又在兩導(dǎo)桿穿孔以上、下滑動(dòng)形態(tài) 穿置兩導(dǎo)桿，以兩導(dǎo)桿的底端結(jié)合于該連結(jié)座。
專利摘要本實(shí)用新型是有關(guān)于一種射出機(jī)真空裝置，其包括一射出機(jī)體，該射出機(jī)體是設(shè)有一頂座，在該頂座底部的中間設(shè)有一注料道；以及一罩蓋構(gòu)造，該罩蓋構(gòu)造設(shè)有一固定罩，該固定罩是結(jié)合于該頂座的底面，并且環(huán)繞于該注料道的周圍，在該固定罩的周圍以可上、下滑動(dòng)形態(tài)套設(shè)一活動(dòng)罩，在該活動(dòng)罩的側(cè)面與該頂座之間設(shè)有一升降壓缸。本實(shí)用新型在使用時(shí)，是以升降壓缸降下活動(dòng)罩，令活動(dòng)罩蓋合于下模座的周圍，接著以真空源朝固定、活動(dòng)罩內(nèi)抽取空氣形成負(fù)壓的環(huán)境，藉此增加注料時(shí)的流動(dòng)性以及速度，并由于雙罩體的構(gòu)造與注料道是獨(dú)立的設(shè)計(jì)，因此注料道能夠設(shè)為較短的形態(tài)，能夠降低塑料的流動(dòng)行程，進(jìn)一步避免缺陷的產(chǎn)生。
文檔編號(hào)B29C45/17GK201342772SQ200920000230
公開日2009年11月11日 申請(qǐng)日期2009年1月8日 優(yōu)先權(quán)日2009年1月8日
發(fā)明者賴錦柱 申請(qǐng)人:賴錦柱