1.一種氮化鎵單晶襯底高效研磨拋光裝置，包括底座(1)，其特征在于：所述底座(1)的上端設(shè)置有加工臺(2)，所述加工臺(2)的上端設(shè)置有四組固定柱(5)，每前后兩組所述固定柱(5)側(cè)壁之間設(shè)置有一組升降桿(8)，兩組所述升降桿(8)的兩端與固定柱(5)的內(nèi)壁之間均設(shè)置有一號滑動塊(13)，兩組所述升降桿(8)的上端設(shè)置有連接架(12)，四組所述固定柱(5)的上端設(shè)置有固定架(6)，所述固定架(6)的中間設(shè)置有氣缸(7)，所述氣缸(7)的下端與連接架(12)的上端連接，兩組所述升降桿(8)的側(cè)壁之間設(shè)置有兩組滑桿(15)以及一組一號絲桿(14)，所述一號絲桿(14)設(shè)置于兩組滑桿(15)之間，后側(cè)所述升降桿(8)的后端設(shè)置有一號電機(jī)(16)，所述一號電機(jī)(16)與一號絲桿(14)一端連接，所述滑桿(15)以及一號絲桿(14)的外壁設(shè)置有一組移動桿(17)，所述移動桿(17)的下端設(shè)置有連接軌道架(20)，所述連接軌道架(20)的一端外壁設(shè)置有一號驅(qū)動盒(21)，所述連接軌道架(20)的內(nèi)部設(shè)置有二號滑動塊(24)，所述二號滑動塊(24)的中間在連接軌道架(20)的內(nèi)部設(shè)置有二號絲桿(25)，所述一號驅(qū)動盒(21)的內(nèi)部設(shè)置有二號電機(jī)(26)，所述二號電機(jī)(26)與二號絲桿(25)連接，所述二號滑動塊(24)的下端設(shè)置有連接桿(27)，所述連接桿(27)的下端設(shè)置有二號驅(qū)動盒(28)，所述二號驅(qū)動盒(28)的前端設(shè)置有限位塊(29)，所述限位塊(29)的中間設(shè)置有旋轉(zhuǎn)筒(31)，所述二號驅(qū)動盒(28)的內(nèi)部設(shè)置有三號電機(jī)(34)，所述三號電機(jī)(34)與旋轉(zhuǎn)筒(31)的后端連接，所述旋轉(zhuǎn)筒(31)的四周外壁均設(shè)置有限位圓頭(32)，所述限位圓頭(32)的下端在旋轉(zhuǎn)筒(31)的內(nèi)部均設(shè)置有彈簧(33)，所述旋轉(zhuǎn)筒(31)的前端在限位塊(29)的前方設(shè)置有連接盤(30)，所述連接盤(30)的前端設(shè)置有安裝塊(18)，所述安裝塊(18)的前端與兩組滑桿(15)之間設(shè)置有平衡架(57)，所述安裝塊(18)的內(nèi)部設(shè)置有四組四號電機(jī)(36)，四組所述四號電機(jī)(36)的端頭在安裝塊(18)的外部均設(shè)置有旋轉(zhuǎn)桿(35)，三組所述旋轉(zhuǎn)桿(35)的端頭均設(shè)置有研磨盤(19)，一組所述旋轉(zhuǎn)桿(35)的端頭設(shè)置有拋光盤(22)，所述拋光盤(22)的外壁設(shè)置有拋光墊(23)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種氮化鎵單晶襯底高效研磨拋光裝置，其特征在于：左右兩組所述固定柱(5)的下方側(cè)壁之間設(shè)置有一組固定桿(9)，兩組所述固定桿(9)的上端均設(shè)置有兩組固定盤(37)，所述固定盤(37)的上端中間均設(shè)置有安裝座(46)，所述安裝座(46)的上端均設(shè)置有轉(zhuǎn)動座(38)，所述轉(zhuǎn)動座(38)的中間均設(shè)置有噴槍(10)，所述安裝座(46)的上端外壁均設(shè)置有橫向錐齒輪(40)，所述橫向錐齒輪(40)的一側(cè)上端均設(shè)置有豎向錐齒輪(39)，所述豎向錐齒輪(39)的中間與轉(zhuǎn)動座(38)連接，所述豎向錐齒輪(39)的外部均設(shè)置有五號電機(jī)(41)，所述五號電機(jī)(41)的外壁均設(shè)置有固定環(huán)(42)，所述固定環(huán)(42)的下端均設(shè)置有支撐桿(43)，所述支撐桿(43)的下端均設(shè)置有滑動座(44)，所述滑動座(44)與固定盤(37)之間均設(shè)置有滑動軌道(45)，所述底座(1)的內(nèi)部前側(cè)設(shè)置有兩組研磨劑容器(47)，所述底座(1)的內(nèi)部后側(cè)設(shè)置有兩組拋光液容器(48)，四組所述噴槍(10)的后端均設(shè)置有輸送軟管(11)，四組所述輸送軟管(11)穿過底座(1)的外壁分別與兩組研磨劑容器(47)以及兩組拋光液容器(48)連接，所述加工臺(2)的上端中間設(shè)置有真空吸附臺(3)，所述加工臺(2)的上端四周設(shè)置有回流槽(4)，所述回流槽(4)的后側(cè)下端在底座(1)的內(nèi)部設(shè)置有回流管(49)，所述真空吸附臺(3)的上端中間設(shè)置有多組抽氣孔(51)，所述真空吸附臺(3)的上端四周設(shè)置有軟膠墊(52)，所述真空吸附臺(3)的下端在底座(1)的內(nèi)部設(shè)置有抽氣管(53)，所述抽氣管(53)的下端在底座(1)的內(nèi)部底部設(shè)置有真空抽氣機(jī)(54)，所述真空抽氣機(jī)(54)的前端設(shè)置有排氣管(55)，所述排氣管(55)的前端設(shè)置有密封蓋(56)，所述底座(1)的前端外壁設(shè)置有排氣格柵(50)，所述密封蓋(56)與排氣格柵(50)內(nèi)側(cè)連接。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種氮化鎵單晶襯底高效研磨拋光裝置，其特征在于：所述一號滑動塊(13)與固定柱(5)的內(nèi)壁滑動連接，所述升降桿(8)通過設(shè)置的一號滑動塊(13)與固定柱(5)滑動連接，所述固定架(6)與固定柱(5)固定連接，所述連接架(12)與升降桿(8)固定連接，所述氣缸(7)的下端與連接架(12)之間設(shè)置有連接口，所述氣缸(7)通過設(shè)置的連接口與連接架(12)可拆卸連接。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種氮化鎵單晶襯底高效研磨拋光裝置，其特征在于：所述一號絲桿(14)與兩組所述升降桿(8)的側(cè)壁之間設(shè)置有轉(zhuǎn)動接口，所述一號絲桿(14)通過設(shè)置的轉(zhuǎn)動接口與升降桿(8)的側(cè)壁轉(zhuǎn)動連接，所述一號絲桿(14)與移動桿(17)之間設(shè)置有螺紋孔，所述一號絲桿(14)通過設(shè)置的螺紋孔與移動桿(17)螺紋連接，所述滑桿(15)與移動桿(17)之間設(shè)置有滑動孔，所述移動桿(17)通過設(shè)置的滑動孔與滑桿(15)滑動連接。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種氮化鎵單晶襯底高效研磨拋光裝置，其特征在于：所述二號滑動塊(24)與連接軌道架(20)滑動連接，所述二號絲桿(25)與二號滑動塊(24)之間設(shè)置有螺紋孔，所述二號滑動塊(24)通過設(shè)置的螺紋孔二號絲桿(25)螺紋連接，所述二號絲桿(25)的端頭與連接軌道架(20)的內(nèi)壁之間設(shè)置有轉(zhuǎn)動接口，所述二號絲桿(25)通過設(shè)置的轉(zhuǎn)動接口與連接軌道架(20)的內(nèi)壁轉(zhuǎn)動連接，所述旋轉(zhuǎn)筒(31)的后端與二號驅(qū)動盒(28)的前端之間設(shè)置有轉(zhuǎn)動接口，所述旋轉(zhuǎn)筒(31)的后端通過設(shè)置的轉(zhuǎn)動接口與二號驅(qū)動盒(28)的前端轉(zhuǎn)動連接。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種氮化鎵單晶襯底高效研磨拋光裝置，其特征在于：所述限位塊(29)與二號驅(qū)動盒(28)固定連接，所述旋轉(zhuǎn)筒(31)與限位塊(29)的內(nèi)壁之間設(shè)置有轉(zhuǎn)動接口，所述旋轉(zhuǎn)筒(31)通過設(shè)置的轉(zhuǎn)動接口與限位塊(29)的內(nèi)壁轉(zhuǎn)動連接，所述限位圓頭(32)與旋轉(zhuǎn)筒(31)的側(cè)壁之間設(shè)置有活動孔，所述限位圓頭(32)通過設(shè)置的活動孔與旋轉(zhuǎn)筒(31)的內(nèi)壁活動連接，四組所述限位圓頭(32)在旋轉(zhuǎn)筒(31)在旋轉(zhuǎn)筒(31)的側(cè)壁中處于同一平面且距離相等，所述限位塊(29)的內(nèi)壁四周設(shè)置有凹槽，所述限位塊(29)內(nèi)壁設(shè)置的四組凹槽上下垂直對應(yīng)且左右水平對應(yīng)，所述限位圓頭(32)與限位塊(29)內(nèi)壁設(shè)置的凹槽活動連接，所述旋轉(zhuǎn)桿(35)與安裝塊(18)的側(cè)壁之間分別設(shè)置有轉(zhuǎn)動接口，所述旋轉(zhuǎn)桿(35)通過設(shè)置的轉(zhuǎn)動接口與安裝塊(18)的側(cè)壁轉(zhuǎn)動連接，三組所述研磨盤(19)為不同目數(shù)，所述安裝塊(18)與平衡架(57)之間設(shè)置有轉(zhuǎn)動接口，所述安裝塊(18)通過設(shè)置的轉(zhuǎn)動接口與平衡架(57)轉(zhuǎn)動連接，所述安裝塊(18)還可以與平衡架(57)滑動連接，所述平衡架(57)的上端與兩組滑桿(15)之間設(shè)置有滑動接口，所述平衡架(57)通過設(shè)置的滑動接口與兩組滑桿(15)滑動連接。
7.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種氮化鎵單晶襯底高效研磨拋光裝置，其特征在于：所述固定盤(37)與固定桿(9)之間設(shè)置有安裝接口，所述固定盤(37)通過設(shè)置的安裝接口與固定桿(9)的上端可拆卸連接，所述轉(zhuǎn)動座(38)的下端與安裝座(46)上端之間設(shè)置有轉(zhuǎn)動接口，所述轉(zhuǎn)動座(38)通過設(shè)置的轉(zhuǎn)動接口與安裝座(46)轉(zhuǎn)動連接，所述真空吸附臺(3)在加工臺(2)的上端略微凸起，所述回流槽(4)的內(nèi)側(cè)四周與真空吸附臺(3)的外側(cè)四周之間呈小角度坡面。
8.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種氮化鎵單晶襯底高效研磨拋光裝置，其特征在于：所述噴槍(10)的側(cè)壁與轉(zhuǎn)動座(38)的內(nèi)壁之間設(shè)置有轉(zhuǎn)動接口，所述噴槍(10)通過設(shè)置的轉(zhuǎn)動接口與轉(zhuǎn)動座(38)的內(nèi)壁轉(zhuǎn)動連接，所述橫向錐齒輪(40)與安裝座(46)固定連接，所述豎向錐齒輪(39)與橫向錐齒輪(40)嚙合，所述豎向錐齒輪(39)與噴槍(10)的側(cè)壁之間設(shè)置有連接軸，所述豎向錐齒輪(39)與噴槍(10)之間設(shè)置的連接軸穿過轉(zhuǎn)動座(38)的側(cè)壁與轉(zhuǎn)動座(38)轉(zhuǎn)動連接。
9.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種氮化鎵單晶襯底高效研磨拋光裝置，其特征在于：所述五號電機(jī)(41)與固定環(huán)(42)可拆卸連接，所述滑動座(44)與滑動軌道(45)滑動連接，所述輸送軟管(11)分別與研磨劑容器(47)以及拋光液容器(48)側(cè)壁之間設(shè)置有連接口，所述研磨劑容器(47)以及拋光液容器(48)的內(nèi)部均設(shè)置有輸送泵，所述輸送軟管(11)分別穿過研磨劑容器(47)以及拋光液容器(48)側(cè)壁的連接口與研磨劑容器(47)以及拋光液容器(48)內(nèi)部的輸送泵連接。