1.一種無電鎳鍍液，包含：
a)鎳離子源；
b)包含次磷酸鹽的還原劑；和
c)螯合體系，其包含：
i)一種或多種二羧酸；和
ii)一種或多種α-羥基羧酸；
其中該無電鎳鍍液產(chǎn)生在無電鎳鍍液的整個(gè)壽命期間磷含量保持在約12％的鎳沉積物。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的無電鎳鍍液，其中該一種或多種二羧酸從由草酸、丙二酸、琥珀酸、戊二酸、己二酸和庚二酸構(gòu)成的群組中選出，而該一種或多種α-羥基羧酸從由乙醇酸、乳酸、蘋果酸、檸檬酸和酒石酸構(gòu)成的群組中選出。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的無電鎳鍍液，其中該鍍液包含：
a)約30至約40g/L的次磷酸鹽；
b)約30至約40g/L的乳酸；
c)約3至約6g/L的琥珀酸；和
d)約25至約35g/L的丙二酸。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的無電鎳鍍液，其中該鍍液包含：
a)約33至約36g/L的次磷酸鹽；
b)約33至約36g/L的乳酸；
c)約4至約5g/L的琥珀酸；和
d)約28至約31g/L的丙二酸。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的無電鎳鍍液，其pH為約5.2至約6.2。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的無電鎳鍍液，其pH為約5.6至約5.7。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的無電鎳鍍液，其中該鍍液包含穩(wěn)定劑，其中該穩(wěn)定劑是從由碘酸鉀、碘酸鈉、碘酸銨和一種或多種前述的組合構(gòu)成的群組中選出的碘化合物。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的無電鎳鍍液，其中該穩(wěn)定劑不包含任何重金屬或有毒金屬。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的無電鎳鍍液，其還包含硫化合物。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的無電鎳鍍液，其中該硫化合物是糖精。
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的無電鎳鍍液，其包含光亮劑。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的無電鎳鍍液，其中該光亮劑包含鉍和?；撬?。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的無電鎳鍍液，其中該光亮劑包含約2至約4mg/L的鉍和約0.5至約3.0mg/L的?；撬?。
14.一種在基底上產(chǎn)生無電鎳磷沉積物的方法，其中該無電鎳磷沉積物具有約12％的磷含量，該方法包括以下步驟：
使該基底與無電鎳磷鍍液接觸，該鍍液包含：
a)鎳離子源；
b)包含次磷酸鹽的還原劑；和
c)螯合體系，其包含：
i)一種或多種二羧酸；和
ii)一種或多種α-羥基羧酸；
該接觸持續(xù)一段時(shí)間以在基底上提供磷含量約12％的鎳磷沉積物；
其中該無電鎳鍍液產(chǎn)生在無電鎳鍍液的整個(gè)壽命期間磷含量保持在約12％的鎳沉積物。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的方法，其中該無電鎳鍍液的壽命包括至少3次金屬更替循環(huán)。
16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的方法，其中該無電鎳鍍液的壽命包括至少5次金屬更替循環(huán)。
17.根據(jù)權(quán)利要求14所述的方法，其中該一種或多種二羧酸從由草酸、丙二酸、琥珀酸、戊二酸、己二酸和庚二酸構(gòu)成的群組中選出，而該一種或多種α-羥基羧酸從由乙醇酸、乳酸、蘋果酸、檸檬酸和酒石酸構(gòu)成的群組中選出。
18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的方法，其中該鍍液包含：
a)約30至約40g/L的次磷酸鹽；
b)約30至約40g/L的乳酸；
c)約3至約6g/L的琥珀酸；和
d)約25至約35g/L的丙二酸。
19.根據(jù)權(quán)利要求18所述的方法，其中該鍍液包含：
a)約33至約36g/L的次磷酸鹽；
b)約33至約36g/L的乳酸；
c)約4至約5g/L的琥珀酸；和
d)約28至約31g/L的丙二酸。
20.根據(jù)權(quán)利要求14所述的方法，其中該無電鎳鍍液的pH為約5.2至約6.2。
21.根據(jù)權(quán)利要求20所述的方法，其中該無電鎳鍍液的pH為約5.6至約5.7。
22.根據(jù)權(quán)利要求14所述的方法，其中該鍍液包含穩(wěn)定劑，其中該穩(wěn)定劑是從由碘酸鉀、碘酸鈉、碘酸銨和一種或多種前述的組合構(gòu)成的群組中選出的碘化合物。
23.根據(jù)權(quán)利要求22的方法，其中該穩(wěn)定劑不包含任何重金屬或有毒金屬。
24.根據(jù)權(quán)利要求22所述的方法，其還包含硫化合物。
25.根據(jù)權(quán)利要求24所述的方法，其中該硫化合物是糖精。
26.根據(jù)權(quán)利要求14所述的方法，其中該無電鎳鍍液包含光亮劑。
27.根據(jù)權(quán)利要求26所述的方法，其中該光亮劑包含鉍和?；撬?。
28.根據(jù)權(quán)利要求27所述的方法，其中該光亮劑包含約2至約4mg/L的鉍和約0.5至約3.0mg/L的?；撬?。
29.根據(jù)權(quán)利要求14所述的方法，其中無電鎳溶液在該基底上的鍍覆速率為至少0.5密耳/小時(shí)。
30.根據(jù)權(quán)利要求29所述的方法，其中無電鎳溶液在該基底上的鍍覆速率為至少0.9密耳/小時(shí)。
31.根據(jù)權(quán)利要求14所述的方法，其中該無電鎳沉積物能夠通過標(biāo)準(zhǔn)硝酸測(cè)試，其中該標(biāo)準(zhǔn)硝酸測(cè)試包括將無電鎳涂覆的基底浸入到濃硝酸溶液中30秒，其中如果沒有觀察到基底的變色，則該無電鎳涂覆的基底通過硝酸測(cè)試。
32.根據(jù)權(quán)利要求14所述的方法，還包括用補(bǔ)充溶液補(bǔ)充該無電鎳鍍液的步驟。
33.根據(jù)權(quán)利要求32所述的方法，其中該補(bǔ)充溶液包含硫脲。
34.根據(jù)權(quán)利要求33所述的方法，其中該補(bǔ)充溶液包含約0.2mg/l/MTO至約2.0mg/l/MTO的硫脲。
35.根據(jù)權(quán)利要求32所述的方法，其中該無電鎳沉積物的應(yīng)力小于約15,000PSI拉伸。
36.根據(jù)權(quán)利要求35所述的方法，其中該無電鎳沉積物的應(yīng)力小于約2500PSI拉伸。