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激光加工裝置及激光加工方法與流程

文檔序號(hào):11140704閱讀:874來(lái)源:國(guó)知局
本發(fā)明涉及通過(guò)將激光聚光于加工對(duì)象物而沿著切斷預(yù)定線在加工對(duì)象物形成改質(zhì)區(qū)域的激光加工裝置及激光加工方法。
背景技術(shù)
:一直以來(lái),已知有一種激光加工方法,其對(duì)激光進(jìn)行調(diào)制以使激光被分支成多個(gè)加工光并且各加工光分別被聚光于多個(gè)聚光點(diǎn),在加工對(duì)象物上對(duì)應(yīng)于各聚光點(diǎn)的多個(gè)區(qū)域分別形成改質(zhì)區(qū)域(例如,參照專(zhuān)利文獻(xiàn)1)。現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)專(zhuān)利文獻(xiàn)專(zhuān)利文獻(xiàn)1:日本特開(kāi)2011-051011號(hào)公報(bào)技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:發(fā)明所要解決的課題然而,關(guān)于在表面設(shè)置有多個(gè)功能元件的加工對(duì)象物,會(huì)有以通過(guò)相鄰的功能元件之間的區(qū)域的方式設(shè)定切斷預(yù)定線并從背面使激光入射到加工對(duì)象物而沿著切斷預(yù)定線在加工對(duì)象物形成改質(zhì)區(qū)域的情況。然而,可知,在這樣的情況下,若實(shí)施上述那樣的激光加工方法,則例如會(huì)有在與激光的入射側(cè)相反側(cè)的加工對(duì)象物的表面上在沿著切斷預(yù)定線的區(qū)域(即,相鄰的功能元件之間的區(qū)域)產(chǎn)生損傷的擔(dān)憂。因此,本發(fā)明的目的在于,提供在將激光分支成多個(gè)加工光并通過(guò)各加工光形成改質(zhì)區(qū)域的情況下能夠抑制在與激光的入射側(cè)相反側(cè)的加工對(duì)象物的表面上發(fā)生損傷的激光加工裝置及激光加工方法。解決課題的技術(shù)手段本發(fā)明的一個(gè)方面的激光加工裝置,是通過(guò)將激光聚光于加工對(duì)象物從而沿著切斷預(yù)定線在加工對(duì)象物形成改質(zhì)區(qū)域的激光加工裝置,具備:射出激光的激光光源、將通過(guò)激光光源射出的激光聚光于加工對(duì)象物的聚光光學(xué)系統(tǒng)、對(duì)通過(guò)激光光源射出的激光進(jìn)行調(diào)制以使激光被分支成至少包含第1加工光及第2加工光的0次光及±n次光(n為自然數(shù))并且通過(guò)聚光光學(xué)系統(tǒng)第1加工光被聚光于第1聚光點(diǎn)且第2加工光被聚光于第2聚光點(diǎn)的空間光調(diào)制器、以及將被聚光于加工對(duì)象物的0次光及±n次光中相對(duì)于第1加工光及第2加工光而被聚光于外側(cè)的光遮斷的光遮斷部,0次光及±n次光的各個(gè)的聚光點(diǎn)具有,在加工對(duì)象物中,表示次數(shù)的數(shù)值變得越大或者數(shù)值變得越小,越是位于與激光的入射側(cè)相反側(cè)的加工對(duì)象物的第1表面?zhèn)?,并且越是位于沿著切斷預(yù)定線的激光的相對(duì)移動(dòng)方向上的前側(cè)的位置關(guān)系。在該激光加工裝置中,由于被聚光于加工對(duì)象物的0次光及±n次光中相對(duì)于第1加工光及第2加工光而被聚光于外側(cè)的光被遮斷,因此可防止該光被聚光于加工對(duì)象物的第1表面附近。因而,根據(jù)該激光加工裝置,在將激光分支成多個(gè)加工光并通過(guò)各加工光形成改質(zhì)區(qū)域的情況下,能夠抑制在與激光的入射側(cè)相反側(cè)的加工對(duì)象物的表面上(即,第1表面)發(fā)生損傷。另外,所謂加工光,是指具有能夠在對(duì)應(yīng)于聚光點(diǎn)的區(qū)域形成改質(zhì)區(qū)域的能量的光(以下,相同)。此外,表示次數(shù)的數(shù)值,是指0及±n(n為自然數(shù)),+的數(shù)值時(shí)絕對(duì)值越大,數(shù)值越是表現(xiàn)為大,-的數(shù)值時(shí)絕對(duì)值越大,數(shù)值越是表現(xiàn)為小(以下,相同)。本發(fā)明的一個(gè)方面的激光加工裝置,是通過(guò)將激光聚光于加工對(duì)象物從而沿著切斷預(yù)定線在加工對(duì)象物形成改質(zhì)區(qū)域的激光加工裝置,具備:射出激光的激光光源、將通過(guò)激光光源射出的激光聚光于加工對(duì)象物的聚光光學(xué)系統(tǒng)、對(duì)通過(guò)激光光源射出的激光進(jìn)行調(diào)制以使激光被分支成至少包含第1加工光及第2加工光的0次光及±n次光(n為自然數(shù))并且通過(guò)聚光光學(xué)系統(tǒng)第1加工光被聚光于第1聚光點(diǎn)且第2加工光被聚光于第2聚光點(diǎn)的空間光調(diào)制器、以及將被聚光于加工對(duì)象物的0次光及±n次光中相對(duì)于第1加工光及第2加工光而被聚光于與激光的入射側(cè)相反側(cè)的加工對(duì)象物的第1表面?zhèn)鹊墓庹跀嗟墓庹跀嗖浚?次光及±n次光的各個(gè)的聚光點(diǎn)具有,在加工對(duì)象物中,表示次數(shù)的數(shù)值變得越大或者數(shù)值變得越小,越是位于與激光的入射側(cè)相反側(cè)的加工對(duì)象物的第1表面?zhèn)龋⑶以绞俏挥谘刂袛囝A(yù)定線的激光的相對(duì)移動(dòng)方向上的前側(cè)的位置關(guān)系。在該激光加工裝置中,由于被聚光于加工對(duì)象物的0次光及±n次光中相對(duì)于第1加工光及第2加工光而被聚光于加工對(duì)象物的第1表面?zhèn)鹊墓獗徽跀?,因此可防止該光被聚光于加工?duì)象物的第1表面附近。因而,根據(jù)該激光加工裝置,在將激光分支成多個(gè)加工光并通過(guò)各加工光形成改質(zhì)區(qū)域的情況下,能夠抑制在與激光的入射側(cè)相反側(cè)的加工對(duì)象物的表面上(即,第1表面)發(fā)生損傷。在本發(fā)明的一個(gè)方面的激光加工裝置中,光遮斷部也可以還將被聚光于加工對(duì)象物的0次光及±n次光中相對(duì)于第1加工光及第2加工光而被聚光于激光的入射側(cè)的加工對(duì)象物的第2表面?zhèn)鹊墓庹跀?。?jù)此,能夠抑制在激光的入射側(cè)的加工對(duì)象物的表面上(即,第2表面)發(fā)生損傷。在本發(fā)明的一個(gè)方面的激光加工裝置中,也可以是第1加工光及第2加工光從被聚光于加工對(duì)象物的0次光及±n次光中的0次光及±1次光中被選擇,光遮斷部將被聚光于加工對(duì)象物的±n次光中的+3次光遮斷。據(jù)此,可將具有相對(duì)較大的能量的0次光及±1次光作為第1加工光及第2加工光而有效率地利用。另一方面,能夠抑制因具有相對(duì)較大的能量的+3次光而在與激光的入射側(cè)相反側(cè)的加工對(duì)象物的表面上發(fā)生損傷。在本發(fā)明的一個(gè)方面的激光加工裝置中,光遮斷部也可以還將被聚光于加工對(duì)象物的±n次光中的±2次光及-3次光遮斷。據(jù)此,可更可靠地抑制在與激光的入射側(cè)相反側(cè)的加工對(duì)象物的表面、及激光的入射側(cè)的加工對(duì)象物的表面上發(fā)生損傷。在本發(fā)明的一個(gè)方面的激光加工裝置中,光遮斷部也可以具有使第1加工光及第2加工光通過(guò)的開(kāi)口。依此,能以簡(jiǎn)單的構(gòu)造實(shí)現(xiàn)使至少第1加工光及第2加工光通過(guò)且用于遮斷第1加工光及第2加工光以外的規(guī)定的光的光遮斷部。本發(fā)明的一個(gè)方面的激光加工裝置,也可以還具備:調(diào)整光學(xué)系統(tǒng),其具有作為透鏡而發(fā)揮功能的第1光學(xué)元件及第2光學(xué)元件,第1光學(xué)元件及第2光學(xué)元件被配置成,空間光調(diào)制器與第1光學(xué)元件之間的光路的距離成為第1光學(xué)元件的第1焦點(diǎn)距離,聚光光學(xué)系統(tǒng)與第2光學(xué)元件之間的光路的距離成為第2光學(xué)元件的第2焦點(diǎn)距離,第1光學(xué)元件與第2光學(xué)元件之間的光路的距離成為第1焦點(diǎn)距離與第2焦點(diǎn)距離的和,第1光學(xué)元件及第2光學(xué)元件成為兩側(cè)遠(yuǎn)心光學(xué)系統(tǒng),光遮斷部被設(shè)置于第1光學(xué)元件與第2光學(xué)元件之間的傅立葉面上。據(jù)此,可可靠地遮斷第1加工光及第2加工光以外的規(guī)定的光。在本發(fā)明的一個(gè)方面的激光加工裝置中,光遮斷部也可以被設(shè)置于聚光光學(xué)系統(tǒng)的光入射部。據(jù)此,可可靠地遮斷第1加工光及第2加工光以外的規(guī)定的光。在本發(fā)明的一個(gè)方面的激光加工裝置中,空間光調(diào)制器也可以對(duì)激光進(jìn)行調(diào)制以使遮斷的光的至少一部分通過(guò)開(kāi)口的外側(cè)。據(jù)此,可更可靠地遮斷第1加工光及第2加工光以外的規(guī)定的光。在本發(fā)明的一個(gè)方面的激光加工裝置中,在第1表面,也可以設(shè)置有配置成2維狀的多個(gè)功能元件及配置于相鄰的功能元件之間的區(qū)域的金屬圖案,切斷預(yù)定線被設(shè)定為,在從與第1表面垂直的方向觀察的情況下通過(guò)相鄰的功能元件之間的區(qū)域。若在與激光的入射側(cè)相反側(cè)的加工對(duì)象物的表面上在相鄰的功能元件之間的區(qū)域配置有金屬圖案,則在金屬圖案引起第1加工光及第2加工光以外的規(guī)定的光的吸收而容易在該表面發(fā)生損傷。但是,即使是在這樣的情況下,也可抑制在與激光的入射側(cè)相反側(cè)的加工對(duì)象物的表面上發(fā)生損傷。本發(fā)明的一個(gè)方面的激光加工方法,是通過(guò)將激光聚光于加工對(duì)象物從而沿著切斷預(yù)定線在加工對(duì)象物形成改質(zhì)區(qū)域的激光加工方法,具備:對(duì)激光進(jìn)行調(diào)制以使激光被分支成至少包含第1加工光及第2加工光的0次光及±n次光(n為自然數(shù)),并且第1加工光被聚光于第1聚光點(diǎn)且第2加工光被聚光于第2聚光點(diǎn),將被聚光于加工對(duì)象物的0次光及±n次光中相對(duì)于第1加工光及第2加工光而被聚光于外側(cè)的光遮斷,在加工對(duì)象物中與第1聚光點(diǎn)及第2聚光點(diǎn)分別對(duì)應(yīng)的多個(gè)區(qū)域分別形成改質(zhì)區(qū)域的工序,0次光及±n次光的各個(gè)的聚光點(diǎn)具有,在加工對(duì)象物中,表示次數(shù)的數(shù)值變得越大或者數(shù)值變得越小,越是位于與激光的入射側(cè)相反側(cè)的加工對(duì)象物的第1表面?zhèn)龋⑶以绞俏挥谘刂袛囝A(yù)定線的激光的相對(duì)移動(dòng)方向上的前側(cè)的位置關(guān)系。本發(fā)明的一個(gè)方面的激光加工方法,是通過(guò)將激光聚光于加工對(duì)象物從而沿著切斷預(yù)定線在加工對(duì)象物形成改質(zhì)區(qū)域的激光加工方法,具備:對(duì)激光進(jìn)行調(diào)制以使激光被分支成至少包含第1加工光及第2加工光的0次光及±n次光(n為自然數(shù)),并且第1加工光被聚光于第1聚光點(diǎn)且第2加工光被聚光于第2聚光點(diǎn),將被聚光于加工對(duì)象物的0次光及±n次光中相對(duì)于第1加工光及第2加工光而被聚光于與激光的入射側(cè)相反側(cè)的加工對(duì)象物的第1表面?zhèn)鹊墓庹跀?,在加工?duì)象物中與第1聚光點(diǎn)及第2聚光點(diǎn)分別對(duì)應(yīng)的多個(gè)區(qū)域分別形成改質(zhì)區(qū)域的工序,0次光及±n次光的各個(gè)的聚光點(diǎn)具有,在加工對(duì)象物中,表示次數(shù)的數(shù)值變得越大或者數(shù)值變得越小,越是位于與激光的入射側(cè)相反側(cè)的加工對(duì)象物的第1表面?zhèn)?,并且越是位于沿著切斷預(yù)定線的激光的相對(duì)移動(dòng)方向上的前側(cè)的位置關(guān)系。根據(jù)這些激光加工方法,基于與上述的激光加工裝置相同的理由,在將激光分支成多個(gè)加工光并通過(guò)各加工光形成改質(zhì)區(qū)域的情況下,能夠抑制在與激光的入射側(cè)相反側(cè)的加工對(duì)象物的表面上(即,第1表面)發(fā)生損傷。發(fā)明的效果根據(jù)本發(fā)明,能夠提供在將激光分支成多個(gè)加工光并通過(guò)各加工光形成改質(zhì)區(qū)域的情況下能夠抑制在與激光的入射側(cè)相反側(cè)的加工對(duì)象物的表面上發(fā)生損傷的激光加工裝置及激光加工方法。附圖說(shuō)明圖1是在改質(zhì)區(qū)域的形成中所使用的激光加工裝置的概略構(gòu)成圖。圖2是成為改質(zhì)區(qū)域的形成的對(duì)象的加工對(duì)象物的平面圖。圖3是沿著圖2的加工對(duì)象物的III-III線的截面圖。圖4是激光加工后的加工對(duì)象物的平面圖。圖5是沿著圖4的加工對(duì)象物的V-V線的截面圖。圖6是沿著圖4的加工對(duì)象物的VI-VI線的截面圖。圖7是本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方式的激光加工裝置的概略構(gòu)成圖。圖8是圖7的激光加工裝置的反射型空間光調(diào)制器的部分截面圖。圖9是成為本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方式的激光加工方法的對(duì)象的加工對(duì)象物的(a)平面圖以及(b)部分?jǐn)U大截面圖。圖10是用于對(duì)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方式的激光加工方法進(jìn)行說(shuō)明的加工對(duì)象物的截面圖。圖11是用于對(duì)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方式的激光加工方法進(jìn)行說(shuō)明的加工對(duì)象物的截面圖。圖12是用于對(duì)圖8的反射型空間光調(diào)制器中的光柵像素?cái)?shù)進(jìn)行說(shuō)明的圖。圖13是用于對(duì)與本發(fā)明相關(guān)的實(shí)驗(yàn)結(jié)果進(jìn)行說(shuō)明的圖。圖14是用于對(duì)在圖7的激光加工裝置中所使用的光遮斷部進(jìn)行說(shuō)明的圖。圖15是用于對(duì)在圖7的激光加工裝置中所使用的光遮斷部進(jìn)行說(shuō)明的圖。圖16是用于對(duì)在圖7的激光加工裝置中所使用的光遮斷部進(jìn)行說(shuō)明的圖。圖17是用于對(duì)與本發(fā)明相關(guān)的實(shí)驗(yàn)結(jié)果進(jìn)行說(shuō)明的圖。圖18是用于對(duì)本發(fā)明的比較例進(jìn)行說(shuō)明的圖。圖19是用于對(duì)圖18的比較例的情況下的結(jié)果進(jìn)行說(shuō)明的圖。圖20是用于對(duì)本發(fā)明的實(shí)施例進(jìn)行說(shuō)明的圖。圖21是用于對(duì)圖20的實(shí)施例的情況下的結(jié)果進(jìn)行說(shuō)明的圖。圖22是用于對(duì)本發(fā)明的實(shí)施例進(jìn)行說(shuō)明的圖。圖23是用于對(duì)圖22的實(shí)施例的情況下的結(jié)果進(jìn)行說(shuō)明的圖。圖24是用于對(duì)與本發(fā)明相關(guān)的實(shí)驗(yàn)結(jié)果進(jìn)行說(shuō)明的圖。具體實(shí)施方式以下,關(guān)于本發(fā)明的實(shí)施方式,參照附圖進(jìn)行詳細(xì)的說(shuō)明。另外,在各圖中,對(duì)相同或者相當(dāng)部分附加相同符號(hào),省略重復(fù)的說(shuō)明。在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方式的激光加工裝置以及激光加工方法中,通過(guò)將激光聚光于加工對(duì)象物而沿著切斷預(yù)定線在加工對(duì)象物形成改質(zhì)區(qū)域。因此,首先,關(guān)于改質(zhì)區(qū)域的形成,參照?qǐng)D1~圖6來(lái)進(jìn)行說(shuō)明。如圖1所示,激光加工裝置100具備使激光L脈沖振蕩的激光光源101、配置成使激光L的光軸(光路)的方向改變90°的分色鏡(dichroicmirror)103、用于將激光L聚光的聚光用透鏡105。另外,激光加工裝置100具備用于支承被由聚光用透鏡105聚光了的激光L照射的加工對(duì)象物1的支承臺(tái)107、用于使支承臺(tái)107移動(dòng)的平臺(tái)111、為了調(diào)節(jié)激光L的輸出或脈沖寬度、脈沖波形等而控制激光光源101的激光光源控制部102、控制平臺(tái)111的移動(dòng)的平臺(tái)控制部115。在該激光加工裝置100中,從激光光源101射出的激光L通過(guò)分色鏡103而使其光軸的方向改變90°,并通過(guò)聚光用透鏡105而被聚光于被載置在支承臺(tái)107上的加工對(duì)象物1的內(nèi)部。與此同時(shí),使平臺(tái)111移動(dòng),從而使加工對(duì)象物1相對(duì)于激光L而沿著切斷預(yù)定線5相對(duì)移動(dòng)。由此,在加工對(duì)象物1形成沿著切斷預(yù)定線5的改質(zhì)區(qū)域。還有,在此,為了使激光L相對(duì)地移動(dòng)而使平臺(tái)111移動(dòng),但是,可以使聚光用透鏡105移動(dòng),也可以使它們的雙方移動(dòng)。作為加工對(duì)象物1,使用包含由半導(dǎo)體材料形成的半導(dǎo)體基板或由壓電材料形成的壓電基板等的板狀的構(gòu)件(例如,基板,晶圓等)。如圖2所示,在加工對(duì)象物1設(shè)定有用于切斷加工對(duì)象物1的切斷預(yù)定線5。切斷預(yù)定線5是延伸為直線狀的假想線。在加工對(duì)象物1的內(nèi)部形成改質(zhì)區(qū)域的情況下,如圖3所示,在使聚光點(diǎn)(激光位置)P對(duì)準(zhǔn)加工對(duì)象物1的內(nèi)部的狀態(tài)下,使激光L沿著切斷預(yù)定線5(即,沿著圖2的箭頭A方向)相對(duì)地移動(dòng)。由此,如圖4、圖5以及圖6所示,改質(zhì)區(qū)域7沿著切斷預(yù)定線5而被形成于加工對(duì)象物1的內(nèi)部,沿著切斷預(yù)定線5形成的改質(zhì)區(qū)域7成為切斷起點(diǎn)區(qū)域8。在此,所謂聚光點(diǎn)P,是指激光L聚光的地方。另外,切斷預(yù)定線5不限于直線狀,可以是曲線狀,也可以是它們被組合的三維狀,也可以是被坐標(biāo)指定的線。另外,切斷預(yù)定線5不限于假想線,也可以是在加工對(duì)象物1的表面3上實(shí)際引出的線。另外,改質(zhì)區(qū)域7可以被連續(xù)地形成,也可以被間斷地形成。另外,改質(zhì)區(qū)域7可以是列狀也可以是點(diǎn)狀,主要是改質(zhì)區(qū)域7至少被形成于加工對(duì)象物1的內(nèi)部即可。另外,存在以改質(zhì)區(qū)域7為起點(diǎn)而形成有龜裂的情況,龜裂以及改質(zhì)區(qū)域7也可以露出于加工對(duì)象物1的外表面(表面3、背面21、或者外周面)。另外,在形成改質(zhì)區(qū)域7的時(shí)候的激光入射面不限定于加工對(duì)象物1的表面3,也可以是加工對(duì)象物1的背面21。此外,在此的激光L透過(guò)加工對(duì)象物1并且在加工對(duì)象物1的內(nèi)部的聚光點(diǎn)P附近被特別吸收,由此,在加工對(duì)象物1形成改質(zhì)區(qū)域7(即,內(nèi)部吸收型激光加工)。因而,由于在加工對(duì)象物1的表面3激光L幾乎不被吸收,因此加工對(duì)象物1的表面3不會(huì)熔融。一般而言,在通過(guò)從表面3被熔融而被除去從而形成有孔或槽等的除去部(表面吸收型激光加工)的情況下,加工區(qū)域從表面3側(cè)逐漸地向背面?zhèn)冗M(jìn)展。然而,通過(guò)本實(shí)施方式所形成的改質(zhì)區(qū)域7是指成為密度、折射率、機(jī)械強(qiáng)度或者其它的物理特性與周?chē)煌臓顟B(tài)的區(qū)域。作為改質(zhì)區(qū)域7,例如存在熔融處理區(qū)域(是指暫時(shí)熔融后再固化的區(qū)域、熔融狀態(tài)中的區(qū)域以及從熔融再固化的狀態(tài)中的區(qū)域中的至少任一者)、裂紋區(qū)域、絕緣破壞區(qū)域、折射率變化區(qū)域等,也存在混合存在這些區(qū)域的區(qū)域。再有,作為改質(zhì)區(qū)域7,存在在加工對(duì)象物1的材料中改質(zhì)區(qū)域7的密度與非改質(zhì)區(qū)域的密度相比較發(fā)生變化的區(qū)域、或形成有晶格缺陷的區(qū)域(將它們統(tǒng)稱(chēng)為高密度轉(zhuǎn)移區(qū)域)。另外,存在熔融處理區(qū)域或折射率變化區(qū)域、改質(zhì)區(qū)域7的密度與非改質(zhì)區(qū)域的密度相比較變化了的區(qū)域、形成有晶格缺陷的區(qū)域進(jìn)一步在這些區(qū)域的內(nèi)部或改質(zhì)區(qū)域7和非改質(zhì)區(qū)域的界面內(nèi)包(包含)龜裂(割裂、微裂紋)的情況。被內(nèi)包的龜裂會(huì)有遍及改質(zhì)區(qū)域7的整個(gè)面的情況或僅在一部分形成或在多個(gè)部分形成的情況。作為加工對(duì)象物1,例如可以舉出包含硅(Si)、玻璃、碳化硅(SiC)、LiTaO3或藍(lán)寶石(Al2O3)、或者由它們構(gòu)成的加工對(duì)象物。另外,在本實(shí)施方式中,通過(guò)沿著切斷預(yù)定線5形成多個(gè)改質(zhì)點(diǎn)(spot)(加工痕),從而形成改質(zhì)區(qū)域7。所謂改質(zhì)點(diǎn),是指通過(guò)脈沖激光的1個(gè)脈沖的擊射(shot)(即,1個(gè)脈沖的激光照射:激光擊射)所形成的改質(zhì)部分,通過(guò)改質(zhì)點(diǎn)集合而成為改質(zhì)區(qū)域7。作為改質(zhì)點(diǎn),可以舉出裂紋點(diǎn)、熔融處理點(diǎn)或折射率變化點(diǎn)、或者混合存在它們中的至少1個(gè)的改質(zhì)點(diǎn)等。關(guān)于該改質(zhì)點(diǎn),能夠考慮所要求的切斷精度、所要求的切斷面的平坦性、加工對(duì)象物1的厚度、種類(lèi)、結(jié)晶方位等,適當(dāng)控制其大小或所產(chǎn)生的龜裂的長(zhǎng)度。接著,對(duì)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方式的激光加工裝置以及激光加工方法進(jìn)行說(shuō)明。如圖7所示,激光加工裝置300在框體231內(nèi)具備激光光源202、反射型空間光調(diào)制器(空間光調(diào)制器)203、4f光學(xué)系統(tǒng)(調(diào)整光學(xué)系統(tǒng))241、光遮斷部220、以及聚光光學(xué)系統(tǒng)204。激光加工裝置300通過(guò)將激光L聚光于加工對(duì)象物1從而沿著切斷預(yù)定線5在加工對(duì)象物1形成改質(zhì)區(qū)域7。激光光源202例如為射出具備1000nm~1500nm的波長(zhǎng)的激光L的光源,例如為光纖激光。在此的激光光源202以向水平方向射出激光L的方式通過(guò)螺釘?shù)裙潭ㄔ诳蝮w231的頂板236。反射型空間光調(diào)制器203對(duì)從激光光源202所射出的激光L進(jìn)行調(diào)制,例如為反射型液晶(LCOS:LiquidCrystalonSilicon(硅基液晶))的空間光調(diào)制器(SLM:SpatialLightModulator)。在此的反射型空間光調(diào)制器203對(duì)從水平方向入射的激光L進(jìn)行調(diào)制,并且相對(duì)于水平方向向斜上方反射。如圖8所示,反射型空間光調(diào)制器203將硅基板213、驅(qū)動(dòng)電路層914、多個(gè)像素電極214、電介質(zhì)多層膜鏡等的反射膜215、取向膜999a、液晶層216、取向膜999b、透明導(dǎo)電膜217、以及玻璃基板等的透明基板218按照該順序?qū)盈B來(lái)構(gòu)成。透明基板218具備沿著XY平面的表面218a,該表面218a構(gòu)成反射型空間光調(diào)制器203的表面。透明基板218例如由玻璃等的光透過(guò)性材料所構(gòu)成,并使從反射型空間光調(diào)制器203的表面218a入射的規(guī)定波長(zhǎng)的激光L向反射型空間光調(diào)制器203的內(nèi)部透過(guò)。透明導(dǎo)電膜217被形成于透明基板218的背面上,由使激光L透過(guò)的導(dǎo)電性材料(例如ITO)所構(gòu)成。多個(gè)像素電極214沿著透明導(dǎo)電膜217以矩陣狀排列在硅基板213上。各像素電極214例如由鋁等的金屬材料所構(gòu)成,這些表面214a被加工為平坦且平滑。多個(gè)像素電極214通過(guò)被設(shè)置在驅(qū)動(dòng)電路層914處的主動(dòng)矩陣電路而被驅(qū)動(dòng)。主動(dòng)矩陣電路被設(shè)置在多個(gè)像素電極214和硅基板213之間,對(duì)應(yīng)于欲從反射型空間光調(diào)制器203輸出的光像,控制對(duì)各像素電極214的施加電壓。這樣的主動(dòng)矩陣電路例如具備未圖示的控制在X軸方向上排列的各像素列的施加電壓的第1驅(qū)動(dòng)電路、控制在Y軸方向上排列的各像素列的施加電壓的第2驅(qū)動(dòng)電路,并構(gòu)成為通過(guò)控制部250(參考圖7)對(duì)通過(guò)雙方的驅(qū)動(dòng)電路指定的像素的像素電極214施加規(guī)定電壓。取向膜999a、999b被配置在液晶層216的兩端面,使液晶分子群排列在一定方向。取向膜999a、999b例如由聚酰亞胺等的高分子材料所構(gòu)成并且對(duì)與液晶層216的接觸面施以摩擦(rubbing)處理等。液晶層216被配置在多個(gè)像素電極214和透明導(dǎo)電膜217之間,對(duì)應(yīng)于通過(guò)各像素電極214和透明導(dǎo)電膜217所形成的電場(chǎng),調(diào)制激光L。即,若通過(guò)驅(qū)動(dòng)電路層914的主動(dòng)矩陣電路對(duì)各像素電極214施加電壓,則在透明導(dǎo)電膜217和各像素電極214之間形成有電場(chǎng),對(duì)應(yīng)于被形成于液晶層216的電場(chǎng)的大小,液晶分子216a的排列方向改變。再有,若激光L透過(guò)透明基板218以及透明導(dǎo)電膜217而入射至液晶層216,則該激光L在通過(guò)液晶層216的期間,通過(guò)液晶分子216a而被調(diào)制,在反射膜215被反射,之后,再次通過(guò)液晶層216而被調(diào)制,并進(jìn)行射出。此時(shí),通過(guò)控制部250(參考圖7)對(duì)被施加于各像素電極214的電壓進(jìn)行控制,對(duì)應(yīng)于該電壓,在液晶層216上被透明導(dǎo)電膜217和各像素電極214夾持的部分的折射率改變(與各像素相對(duì)應(yīng)的位置的液晶層216的折射率改變)。通過(guò)該折射率的改變,能夠?qū)?yīng)于所施加的電壓來(lái)使激光L的相位在液晶層216的每個(gè)像素改變。即,能夠?qū)⑴c全息圖圖案相對(duì)應(yīng)的相位調(diào)制通過(guò)液晶層216對(duì)每個(gè)像素進(jìn)行賦予(即,將賦予調(diào)制的作為全息圖圖案的調(diào)制圖案顯示于反射型空間光調(diào)制器203的液晶層216)。其結(jié)果,入射至調(diào)制圖案并透過(guò)的激光L,其波面被調(diào)整,在構(gòu)成該激光L的各光線中的與行進(jìn)方向相正交的規(guī)定方向的成分的相位中產(chǎn)生偏移。因此,通過(guò)對(duì)顯示在反射型空間光調(diào)制器203的調(diào)制圖案進(jìn)行適宜設(shè)定,能夠調(diào)制激光L(例如,調(diào)制激光L的強(qiáng)度、振幅、相位、偏光等)?;氐綀D7,4f光學(xué)系統(tǒng)241對(duì)通過(guò)反射型空間光調(diào)制器203調(diào)制的激光L的波面形狀進(jìn)行調(diào)整,具備第1透鏡(第1光學(xué)元件)241a以及第2透鏡(第2光學(xué)元件)241b。第1透鏡241a以及第2透鏡241b以反射型空間光調(diào)制器203和第1透鏡241a之間的光路的距離成為第1透鏡241a的第1焦點(diǎn)距離f1,聚光光學(xué)系統(tǒng)204和第2透鏡241b之間的光路的距離成為第2透鏡241b的第2焦點(diǎn)距離f2,第1透鏡241a和第2透鏡241b之間的光路的距離成為第1焦點(diǎn)距離f1和第2焦點(diǎn)距離f2的和(即,f1+f2),第1透鏡241a和第2透鏡241b成為兩側(cè)遠(yuǎn)心光學(xué)系統(tǒng)的方式,配置在反射型空間光調(diào)制器203和聚光光學(xué)系統(tǒng)204之間的光路上。根據(jù)該4f光學(xué)系統(tǒng)241,能夠抑制通過(guò)反射型空間光調(diào)制器203調(diào)制的激光L由于空間傳播而使波面形狀改變并使像差增大。光遮斷部220為具備使下述的第1加工光L1以及第2加工光L2通過(guò)的開(kāi)口220a的光圈構(gòu)件。光遮斷部220被設(shè)置在第1透鏡241a和第2透鏡241b之間的傅立葉面(即,包含共焦點(diǎn)O的面)上。聚光光學(xué)系統(tǒng)204將通過(guò)激光光源202所射出并通過(guò)反射型空間光調(diào)制器203調(diào)制的激光L聚光于加工對(duì)象物1的內(nèi)部。該聚光光學(xué)系統(tǒng)204包含多個(gè)透鏡而構(gòu)成,并經(jīng)由包含壓電元件等構(gòu)成的驅(qū)動(dòng)單元232而被設(shè)置在框體231的底板233。在如以上所述構(gòu)成的激光加工裝置300中,從激光光源202所射出的激光L在框體231內(nèi)在水平方向上行進(jìn)后,通過(guò)鏡205a而向下方被反射,并通過(guò)衰減器207而使光強(qiáng)度被調(diào)整。之后,通過(guò)鏡205b而向水平方向被反射,通過(guò)光束均勻器260而使激光L的強(qiáng)度分布被均勻化并入射至反射型空間光調(diào)制器203。入射至反射型空間光調(diào)制器203的激光L通過(guò)透過(guò)被顯示在液晶層216的調(diào)制圖案,從而對(duì)應(yīng)于該調(diào)制圖案而被調(diào)制,之后,通過(guò)鏡206a而向上方被反射,通過(guò)λ/2波長(zhǎng)板228而使偏光方向被變更,通過(guò)鏡206b而向水平方向被反射并入射至4f光學(xué)系統(tǒng)241。入射至4f光學(xué)系統(tǒng)241的激光L,以為平行光并且入射至聚光光學(xué)系統(tǒng)204的方式使波面形狀被調(diào)整。具體而言,激光L透過(guò)第1透鏡241a并收斂,通過(guò)鏡219而向下方被反射,并經(jīng)共焦點(diǎn)O而發(fā)散,并且透過(guò)第2透鏡241b,以成為平行光的方式再次被收斂。之后,激光L依序透過(guò)分色鏡210、238并入射至聚光光學(xué)系統(tǒng)204,通過(guò)聚光光學(xué)系統(tǒng)204被聚光于被載置在平臺(tái)111上的加工對(duì)象物1內(nèi)。另外,激光加工裝置300在框體231內(nèi)具備用于對(duì)加工對(duì)象物1的激光入射面進(jìn)行觀察的表面觀察單元211、用于對(duì)聚光光學(xué)系統(tǒng)204和加工對(duì)象物1的距離進(jìn)行微調(diào)整的AF(AutoFocus(自動(dòng)聚集))單元212。表面觀察單元211具備射出可見(jiàn)光VL1的觀察用光源211a、對(duì)在加工對(duì)象物1的激光入射面被反射的可見(jiàn)光VL1的反射光VL2進(jìn)行受光并檢測(cè)的檢測(cè)器211b。在表面觀察單元211,從觀察用光源211a所射出的可見(jiàn)光VL1在鏡208以及分色鏡209、210、238被反射、透過(guò),并通過(guò)聚光光學(xué)系統(tǒng)204朝向加工對(duì)象物1被聚光。另外,在加工對(duì)象物1的激光入射面被反射的反射光VL2在通過(guò)聚光光學(xué)系統(tǒng)204被聚光并且在分色鏡238、210被透過(guò)、反射之后,透過(guò)分色鏡209并在檢測(cè)器211b被受光。AF單元212射出AF用激光LB1,并通過(guò)對(duì)被激光入射面所反射的AF用激光LB1的反射光LB2進(jìn)行受光并檢測(cè),從而取得沿著切斷預(yù)定線5的激光入射面的位移數(shù)據(jù)。然后,AF單元212在形成改質(zhì)區(qū)域7時(shí),根據(jù)所取得的位移數(shù)據(jù)對(duì)驅(qū)動(dòng)單元232進(jìn)行驅(qū)動(dòng),以沿著激光入射面的起伏的方式使聚光光學(xué)系統(tǒng)204在其光軸方向上往返移動(dòng)。再有,激光加工裝置300,作為用于對(duì)該激光加工裝置300進(jìn)行控制的構(gòu)件,具備由CPU、ROM、RAM等所構(gòu)成的控制部250。該控制部250對(duì)激光光源202進(jìn)行控制,并對(duì)從激光光源202所射出的激光L的輸出或脈沖寬度等進(jìn)行控制。另外,控制部205在形成改質(zhì)區(qū)域7時(shí),以激光L的聚光點(diǎn)P位于從加工對(duì)象物1的表面3或者背面21離開(kāi)規(guī)定距離的位置,并且激光L的聚光點(diǎn)P沿著切斷預(yù)定線5相對(duì)移動(dòng)的方式,對(duì)框體231、平臺(tái)111的位置以及驅(qū)動(dòng)單元232的驅(qū)動(dòng)的至少一者進(jìn)行控制。另外,控制部205在形成改質(zhì)區(qū)域7時(shí),對(duì)反射型空間光調(diào)制器203中的各像素電極214施加規(guī)定電壓,并在液晶層216顯示規(guī)定的調(diào)制圖案,由此,通過(guò)反射型空間光調(diào)制器203按所期望地調(diào)制激光L。在此,被顯示在液晶層216的調(diào)制圖案,例如,基于想要形成改質(zhì)區(qū)域7的位置、所照射的激光L的波長(zhǎng)、加工對(duì)象物1的材料、以及聚光光學(xué)系統(tǒng)204或加工對(duì)象物1的折射率等預(yù)先被導(dǎo)出,并存儲(chǔ)在控制部250。該調(diào)制圖案包含用于對(duì)在激光加工裝置300所產(chǎn)生的個(gè)體差(例如,在反射型空間光調(diào)制器203的液晶層216產(chǎn)生的形變)進(jìn)行修正的個(gè)體差修正圖案、用于對(duì)球面像差進(jìn)行修正的球面像差修正圖案等。成為在如以上所述構(gòu)成的激光加工裝置300中所實(shí)施的激光加工方法的對(duì)象的加工對(duì)象物1,如圖9所示,具備例如由硅等的半導(dǎo)體材料所構(gòu)成的基板11、被形成在基板11的表面11a的功能元件層15。功能元件層15包含沿著基板11的表面11a被排列為矩陣狀的多個(gè)功能元件15a(例如,光電二極管等的受光元件、激光電二極管等的發(fā)光元件、或者作為電路所形成的電路元件等)、被形成于相鄰的功能元件15a之間的街道區(qū)域(區(qū)域)17的金屬圖案16(例如,TEG(TestElementGroup(測(cè)試元件組))等)。這樣,在加工對(duì)象物1的表面(第1表面)3,設(shè)置有被配置為2維狀的多個(gè)功能元件15a、以及被配置在相鄰的功能元件15a之間的街道區(qū)域17的金屬圖案16。另外,功能元件層15包含遍及基板11的表面11a的全體而形成的層間絕緣膜(例如,Low-k膜等)。在激光加工裝置300中所實(shí)施的激光加工方法作為通過(guò)將加工對(duì)象物1切斷為各功能元件15a來(lái)制造多個(gè)芯片的芯片的制造方法來(lái)使用。因此,在該激光加工方法中,相對(duì)于加工對(duì)象物1,以在從與表面3垂直的方向觀察的情況下通過(guò)相鄰的功能元件15a之間的街道區(qū)域17的方式(例如,在從加工對(duì)象物1的厚度方向觀察的情況下以通過(guò)街道區(qū)域17的寬度的中心的方式),以格子狀設(shè)定有多個(gè)切斷預(yù)定線5。之后,從基板11的背面11b即加工對(duì)象物1的背面(第2表面)21入射的激光L,被聚光于加工對(duì)象物1,并沿著各切斷預(yù)定線5在加工對(duì)象物1形成改質(zhì)區(qū)域7。另外,在由硅等的半導(dǎo)體材料所構(gòu)成的基板11,作為改質(zhì)區(qū)域7,會(huì)有在激光L的聚光點(diǎn)P的位置形成有微小空洞7a,相對(duì)于聚光點(diǎn)P在激光L的入射側(cè)形成有熔融處理區(qū)域7b的情況。以下,對(duì)在激光加工裝置300中所實(shí)施的激光加工方法進(jìn)行說(shuō)明。首先,將包含在沿著切斷預(yù)定線5的方向上將激光L分支為0次光以及±n次光(n為自然數(shù))的衍射功能的調(diào)制圖案顯示在反射型空間光調(diào)制器203的液晶層216。這樣,在反射型空間光調(diào)制器203中,液晶層216起到作為顯示調(diào)制圖案的多個(gè)像素的作用。如圖10所示,0次光以及±n次光的各個(gè)的聚光點(diǎn)具備,在加工對(duì)象物1上,表示次數(shù)的數(shù)值(為0以及±n,+的數(shù)值時(shí)絕對(duì)值越大,數(shù)值越是表現(xiàn)為大,-的數(shù)值時(shí)絕對(duì)值越大,數(shù)值越是表現(xiàn)為小)越是變大,越是位于與激光L的入射側(cè)相反側(cè)的加工對(duì)象物1的表面3側(cè),并且越是位于沿著切斷預(yù)定線5的激光L的相對(duì)移動(dòng)方向上的前側(cè)的位置關(guān)系。在該激光加工方法中,如圖10(a)所示,將+1次光以及-1次光分別作為第1加工光L1以及第2加工光L2(加工光:具備能夠在與聚光點(diǎn)相對(duì)應(yīng)的區(qū)域形成改質(zhì)區(qū)域的能量的光)來(lái)利用。由此,第1聚光點(diǎn)P1以及第2聚光點(diǎn)P2具有,在加工對(duì)象物1中,第1聚光點(diǎn)P1相對(duì)于第2聚光點(diǎn)P2位于與激光L的入射側(cè)相反側(cè)的加工對(duì)象物1的表面3側(cè),并且第1聚光點(diǎn)P1相對(duì)于第2聚光點(diǎn)P2位于沿著切斷預(yù)定線5的激光L的相對(duì)移動(dòng)方向上的前側(cè)的位置關(guān)系。另外,如圖10(b)所示,也可以將+1次光、0次光以及-1次光分別作為第1加工光L1、第2加工光L2以及第3加工光L3來(lái)利用。即,第1加工光L1以及第2加工光L2從被聚光于加工對(duì)象物1的0次光以及±n次光中的0次光以及±1次光中進(jìn)行選擇。如以上所述,反射型空間光調(diào)制器203以激光L至少被分支為包含第1加工光L1以及第2加工光L2的0次光以及±n次光并且通過(guò)聚光光學(xué)系統(tǒng)204,第1加工光L1被聚光于第1聚光點(diǎn)P1且第2加工光L2被聚光于第2聚光點(diǎn)P2的方式,對(duì)從激光光源202所射出的激光L進(jìn)行調(diào)制。在此,將在從與加工對(duì)象物1的表面3垂直的方向觀察的情況下的第1聚光點(diǎn)P1和第2聚光點(diǎn)P2的距離(在從與加工對(duì)象物1的表面3垂直的方向觀察的情況下在沿著切斷預(yù)定線5的方向上相鄰的加工光的聚光點(diǎn)之間的距離)定義為D。然后,如圖11所示,若將表面3上的第1加工光L1的半徑設(shè)為W1,將表面3上的第2加工光L2的半徑設(shè)為W2,則反射型空間光調(diào)制器203以滿足D>W(wǎng)1+W2的方式對(duì)激光L進(jìn)行調(diào)制。由此,防止了到達(dá)加工對(duì)象物1的表面3的第1加工光L1的漏光(在與聚光點(diǎn)相對(duì)應(yīng)的區(qū)域上未被加工對(duì)象物所吸收的光)以及第2加工光L2的漏光在表面3干涉而加強(qiáng)。作為一個(gè)例子,作為加工對(duì)象物1而準(zhǔn)備厚度300μm、結(jié)晶方位(100)、電阻值1Ω·cmUP的硅晶圓,通過(guò)圖11以及下述的表1所示的條件進(jìn)行激光L的照射的情況下,在與激光L的入射側(cè)相反側(cè)的加工對(duì)象物1的表面3上第1加工光L1的漏光和第2加工光L32的漏光相接時(shí)的第1聚光點(diǎn)P1和第2聚光點(diǎn)P2的距離D(=W1+W2)成為31.32641μm。另外,所謂激光L的掃描速度,是指沿著切斷預(yù)定線5的第1聚光點(diǎn)P1以及第2聚光點(diǎn)P2的相對(duì)移動(dòng)速度。[表1]實(shí)驗(yàn)的結(jié)果,如下述的表2所示,若第1聚光點(diǎn)P1和第2聚光點(diǎn)P2的距離D為30μm以下(若該距離D小于31.32641μm),則在表面3發(fā)生損傷,若第1聚光點(diǎn)P1和第2聚光點(diǎn)P2的距離D為40μm以上(若該距離D大于31.32641μm),則在表面3未發(fā)生損傷。根據(jù)該結(jié)果,可知,通過(guò)以滿足D>W(wǎng)1+W2的方式調(diào)制激光L,防止了到達(dá)加工對(duì)象物1的表面3的第1加工光L1的漏光以及第2加工光L2的漏光在表面3干涉而加強(qiáng),表面3上的損傷的發(fā)生被抑制。[表2]距離D(μm)2030405060表面3上的損傷發(fā)生發(fā)生未發(fā)生未發(fā)生未發(fā)生另外,在起到作為顯示調(diào)制圖案的多個(gè)像素的作用的液晶層216,若將相鄰的像素間的距離設(shè)為d,將4f光學(xué)系統(tǒng)241的倍率設(shè)為m,將聚光光學(xué)系統(tǒng)204的焦點(diǎn)距離設(shè)為f,將激光L的波長(zhǎng)設(shè)為λ,則反射型空間光調(diào)制器203以滿足D<2×f×tan[asin{λ/(d×4×m)}]的方式調(diào)制激光L。在上述的式中,“4”表示反射型空間光調(diào)制器203的調(diào)制圖案中的光柵像素?cái)?shù),光柵像素?cái)?shù):4,是圖12的(a)的情況。另外,作為參考,光柵像素?cái)?shù):2,是圖12的(b)的情況。為了使上述的第1聚光點(diǎn)P1和第2聚光點(diǎn)P2的距離D增大,有必要在反射型空間光調(diào)制器203的調(diào)制圖案中將光柵像素?cái)?shù)縮小。但是,若將光柵像素?cái)?shù)過(guò)度縮小,則會(huì)有在激光L中無(wú)法進(jìn)行波面控制的成分增加而使漏光增加的擔(dān)憂。因此,作為加工對(duì)象物1而準(zhǔn)備厚度300μm、結(jié)晶方位(100)、電阻值1Ω·cmUP的硅晶圓,通過(guò)圖11以及下述的表3所示的條件進(jìn)行激光L的照射,由此,對(duì)光柵像素?cái)?shù)和表面3上的損傷的發(fā)生的有無(wú)的關(guān)系進(jìn)行了調(diào)查。另外,第1聚光點(diǎn)P1和第2聚光點(diǎn)P2的距離D可通過(guò)D<2×f×tan[asin{λ/(d×光柵像素?cái)?shù)×m)}]而計(jì)算出。[表3]數(shù)值激光L的波長(zhǎng)(nm)1080激光L的反復(fù)頻率(kHz)80激光L的脈沖寬度(ns)500激光L的掃描速度(mm/s)300激光L的出口輸出(W)3.2激光L的分支數(shù)2激光L的分支比例50:50表面3和第1聚光點(diǎn)P1的距離H1(μm)46表面3和第2聚光點(diǎn)P2的距離H2(μm)96第1加工光L1和第2加工光L2的數(shù)值孔徑NA0.754周?chē)鷼夥盏恼凵渎蕁11加工對(duì)象物1的折射率n23.5相鄰的像素間的距離d(μm)204f光學(xué)系統(tǒng)241的倍率m0.485437聚光光學(xué)系統(tǒng)204的焦點(diǎn)距離f(mm)1.83實(shí)驗(yàn)的結(jié)果,如下述的表4所示,若光柵像素?cái)?shù)為4以下(換言之,若第1聚光點(diǎn)P1和第2聚光點(diǎn)P2的距離D為102μm以上),則在表面3發(fā)生損傷,若光柵像素?cái)?shù)為5以上(換言之,若第1聚光點(diǎn)P1和第2聚光點(diǎn)P2的距離D為80μm以下),則在表面3未發(fā)生損傷。根據(jù)該結(jié)果,可知,通過(guò)以滿足D<2×f×tan[asin{λ/(d×4×m)}]的方式調(diào)制激光L,能夠抑制在激光L中無(wú)法進(jìn)行波面控制的成分增加并使漏光增加,能夠抑制表面3上的損傷的發(fā)生。[表4]光柵像素?cái)?shù)23456距離D(μm)2041361028066表面3上的損傷發(fā)生發(fā)生發(fā)生未發(fā)生未發(fā)生再有,根據(jù)表2以及表4的結(jié)果,可知,通過(guò)以第1聚光點(diǎn)P1和第2聚光點(diǎn)P2的距離成為40μm~80μm的方式調(diào)制激光L,能夠抑制表面3上的損傷的發(fā)生。如圖13所示,若第1聚光點(diǎn)P1和第2聚光點(diǎn)P2的距離D為20μm,則確認(rèn)到,到達(dá)加工對(duì)象物1的表面3的第1加工光L1的漏光以及第2加工光L2的漏光在表面3干涉而加強(qiáng)(上段),在表面3發(fā)生損傷(下段)。另外,若第1聚光點(diǎn)P1和第2聚光點(diǎn)P2的距離D為102μm,則確認(rèn)到,在-1次光漏光增加(上段),在表面3發(fā)生損傷(下段)。相對(duì)于這些情況,若第1聚光點(diǎn)P1和第2聚光點(diǎn)P2的距離D為40μm,則未確認(rèn)到到達(dá)加工對(duì)象物1的表面3的第1加工光L1的漏光以及第2加工光L2的漏光在表面3干涉而加強(qiáng)以及在-1次光中漏光增加(上段),在表面3未發(fā)生損傷(下段)。另外,圖13的上段的圖,為從表面3側(cè)對(duì)表面3上的0次光以及±n次光的狀態(tài)進(jìn)行了觀察的照片,并且是未形成改質(zhì)區(qū)域時(shí)的圖。另外,圖13的下段的圖,為沿著切斷預(yù)定線5切斷的加工對(duì)象物1的切斷面的照片。另外,光遮斷部220將被聚光于加工對(duì)象物1的±n次光中的±2次光以上的高次光(在此,±2次光以及±3次光)遮斷?;诖?,可以說(shuō)光遮斷部220將被聚光于加工對(duì)象物1的0次光以及±n次光中的相對(duì)于第1加工光L1以及第2加工光L2而被聚光于外側(cè)的光遮斷?;蛘?,可以說(shuō)光遮斷部220將被聚光于加工對(duì)象物1的0次光以及±n次光中的相對(duì)于第1加工光L1以及第2加工光L2而被聚光于與激光L的入射側(cè)相反側(cè)的加工對(duì)象物的表面3側(cè)的光、以及相對(duì)于第1加工光L1以及第2加工光L2而被聚光于激光L的入射側(cè)的加工對(duì)象物1的背面21側(cè)的光遮斷。另外,反射型空間光調(diào)制器203也可以以使所遮斷的光的至少一部分通過(guò)光遮斷部220的開(kāi)口220a的外側(cè)的方式,調(diào)制激光L。如圖14的(a)所示,若將位于4f光學(xué)系統(tǒng)241的傅立葉面上的光遮斷部220的開(kāi)口220a的半徑設(shè)為X,如以上所述,將在從與加工對(duì)象物1的表面3垂直的方向觀察的情況下的第1聚光點(diǎn)P1和第2聚光點(diǎn)P2的距離設(shè)為D,將第2透鏡241b的第2焦點(diǎn)距離設(shè)為f2,將聚光光學(xué)系統(tǒng)204的焦點(diǎn)距離設(shè)為f,則為了使光遮斷部220將±2次光以上的高次光(針對(duì)±2次光而言較中心更外側(cè)的部分)遮斷,需要滿足D×f2/f<2X<2D×f2/f。即,反射型空間光調(diào)制器203,若以滿足(X×f)/(2×f2)<D/2<(X×f)/f2的方式調(diào)制激光L,則光遮斷部220能夠?qū)ⅰ?次光以上的高次光(針對(duì)±2次光而言較中心更外側(cè)的部分)遮斷。另外,如圖14的(b)所示,為了使光遮斷部220將±3次光以上的高次光(針對(duì)±3次光而言較中心更外側(cè)的部分)遮斷,需要滿足D×f2/f<2X<3D×f2/f。即,反射型空間光調(diào)制器203,若以滿足(X×f)/(3×f2)<D/2<(X×f)/f2的方式調(diào)制激光L,則光遮斷部220能夠?qū)ⅰ?次光以上的高次光(針對(duì)±3次光而言較中心更外側(cè)的部分)遮斷。作為一個(gè)例子,若D=50μm、f2=150mm、f=1.8mm,則若以滿足4166.7μm<2X<8333μm的方式,決定光遮斷部220的開(kāi)口220a的半徑X,則光遮斷部220能夠?qū)ⅰ?次光以上的高次光(針對(duì)±2次光而言較中心更外側(cè)的部分)遮斷。換言之,若2X=10000μm、f2=150mm、f=1.8mm,則若以滿足30μm<D/2<60μm的方式,決定第1聚光點(diǎn)P1和第2聚光點(diǎn)P2的距離D,則光遮斷部220能夠?qū)ⅰ?次光以上的高次光(針對(duì)±2次光而言較中心更外側(cè)的部分)遮斷。另外,若D=50μm、f2=150mm、f=1.8mm,則若以滿足4166.7μm<2X<12500μm的方式,決定光遮斷部220的開(kāi)口220a的半徑X,則光遮斷部220能夠?qū)ⅰ?次光以上的高次光(針對(duì)±3次光而言較中心更外側(cè)的部分)遮斷。換言之,若2X=10000μm、f2=150mm、f=1.8mm,則若以滿足20μm<D/2<60μm的方式,決定第1聚光點(diǎn)P1和第2聚光點(diǎn)P2的距離D,則光遮斷部220能夠?qū)ⅰ?次光以上的高次光(針對(duì)±3次光而言較中心更外側(cè)的部分)遮斷。另外,為了抑制在與激光L的入射側(cè)相反側(cè)的加工對(duì)象物1的表面3產(chǎn)生損傷,光遮斷部220也可以為將+n次光遮斷的構(gòu)件。在此情況下,如圖15的(a)所示,若在4f光學(xué)系統(tǒng)241的傅立葉面上將從共焦點(diǎn)O起直到光遮斷部220(光遮斷部220的共焦點(diǎn)O側(cè)的邊)為止的距離設(shè)為X,則為了使光遮斷部220將+2次光以上的高次光(針對(duì)+2次光而言較中心更外側(cè)的部分)遮斷,需要滿足D×f2/f<2X<2D×f2/f。即,反射型空間光調(diào)制器203,若以滿足(X×f)/(2×f2)<D/2<(X×f)/f2的方式調(diào)制激光L,則光遮斷部220能夠?qū)?2次光以上的高次光(針對(duì)+2次光而言較中心更外側(cè)的部分)遮斷。另外,如圖15的(b)所示,為了使光遮斷部220將+3次光以上的高次光(針對(duì)+3次光而言較中心更外側(cè)的部分)遮斷,需要滿足D×f2/f<2X<3D×f2/f。即,反射型空間光調(diào)制器203,若以滿足(X×f)/(3×f2)<D/2<(X×f)/f2的方式調(diào)制激光L,則光遮斷部220能夠?qū)?3次光以上的高次光(針對(duì)+3次光而言較中心更外側(cè)的部分)遮斷。再有,光遮斷部220也能夠以對(duì)聚光光學(xué)系統(tǒng)204的透鏡視野進(jìn)行限制的方式,設(shè)置在聚光光學(xué)系統(tǒng)204的光入射部。如圖16的(a)所示,若將位于聚光光學(xué)系統(tǒng)204的光入射部的光遮斷部220的開(kāi)口220a的半徑設(shè)為X,如上所述,將在從與加工對(duì)象物1的表面3相垂直的方向觀察的情況下的第1聚光點(diǎn)P1和第2聚光點(diǎn)P2的距離設(shè)為D,則反射型空間光調(diào)制器203,若以滿足X/2<D/2<X的方式調(diào)制激光L,則光遮斷部220能夠?qū)ⅰ?次光以上的高次光(針對(duì)±2次光而言較中心更外側(cè)的部分)遮斷。另外,如圖16的(b)所示,反射型空間光調(diào)制器203,若以滿足X/3<D/2<X的方式調(diào)制激光L,則光遮斷部220能夠?qū)ⅰ?次光以上的高次光(針對(duì)±3次光而言較中心更外側(cè)的部分)遮斷。作為一個(gè)例子,若2X=150μm,則若以滿足37.5μm<D/2<75μm的方式,決定第1聚光點(diǎn)P1和第2聚光點(diǎn)P2的距離D,則光遮斷部220能夠?qū)ⅰ?次光以上的高次光(針對(duì)±2次光而言較中心更外側(cè)的部分)遮斷。另外,若2X=150μm,則若以滿足25μm<D/2<75μm的方式,決定第1聚光點(diǎn)P1和第2聚光點(diǎn)P2的距離D,則光遮斷部220能夠?qū)ⅰ?次光以上的高次光(針對(duì)±3次光而言較中心更外側(cè)的部分)遮斷。在此,作為加工對(duì)象物1而準(zhǔn)備厚度300μm、結(jié)晶方位(100)、電阻值1Ω·cmUP的硅晶圓,通過(guò)圖11以及上述的表3所示的條件進(jìn)行激光L的照射,由此,對(duì)3次光和表面3上的損傷的發(fā)生的有無(wú)的關(guān)系進(jìn)行了調(diào)查。另外,為了易于判別表面3上的損傷的發(fā)生的有無(wú),在表面3形成感熱性膜而進(jìn)行了實(shí)驗(yàn)。實(shí)驗(yàn)的結(jié)果,如圖17的(d)所示,可知,至少由于3次光的影響,在與激光L的入射側(cè)相反側(cè)的加工對(duì)象物1的表面3產(chǎn)生損傷。圖17的(a)為對(duì)沿著切斷預(yù)定線5切斷的加工對(duì)象物1的切斷面上的0次光以及±n次光的各個(gè)的聚光點(diǎn)的位置關(guān)系進(jìn)行展示的圖。圖17的(b)為從表面3側(cè)對(duì)表面3上的0次光以及±n次光的狀態(tài)進(jìn)行了觀察的照片,并且為未形成改質(zhì)區(qū)域時(shí)的圖。圖17的(c)為從表面3側(cè)對(duì)表面3上的0次光以及±n次光的狀態(tài)進(jìn)行了觀察的照片,并且為形成改質(zhì)區(qū)域時(shí)的圖。圖17的(d)為從表面3側(cè)對(duì)感熱性膜進(jìn)行了觀察的照片,并且為形成改質(zhì)區(qū)域時(shí)的圖。圖18為用于對(duì)本發(fā)明的比較例進(jìn)行說(shuō)明的圖,(a)為對(duì)在傅立葉面附近的激光L的狀態(tài)進(jìn)行展示的模擬圖,(b)為對(duì)在聚光點(diǎn)附近的激光L的狀態(tài)進(jìn)行展示的模擬圖。這樣,若不將+3次光遮斷,則如圖19所示,可知,由于+3次光的影響,在與激光L的入射側(cè)相反側(cè)的加工對(duì)象物1的表面3產(chǎn)生最強(qiáng)的損傷。另外,圖19的上段為在向與使0次光以及±n次光的各個(gè)的聚光點(diǎn)分支的方向相平行的方向使激光L相對(duì)地進(jìn)行了移動(dòng)的情況下從表面3側(cè)對(duì)感熱性膜進(jìn)行了觀察的照片,圖19的下段為在向與使0次光以及±n次光的各個(gè)的聚光點(diǎn)分支的方向相垂直的方向使激光L相對(duì)地進(jìn)行了移動(dòng)的情況下從表面3側(cè)對(duì)感熱性膜進(jìn)行了觀察的照片。圖20為用于對(duì)本發(fā)明的實(shí)施例進(jìn)行說(shuō)明的圖,(a)為對(duì)在傅立葉面附近的激光L的狀態(tài)進(jìn)行展示的模擬圖,(b)為對(duì)在聚光點(diǎn)附近的激光L的狀態(tài)進(jìn)行展示的模擬圖。這樣,若通過(guò)光遮斷部220將+3次光的一部分遮斷,則如圖21所示,可知,由于+3次光的影響,在加工對(duì)象物1的表面3產(chǎn)生的損傷減弱。另外,圖21的上段為在向與使0次光以及±n次光的各個(gè)的聚光點(diǎn)分支的方向相平行的方向使激光L相對(duì)地進(jìn)行了移動(dòng)的情況下從表面3側(cè)對(duì)感熱性膜進(jìn)行了觀察的照片,圖21的下段為在向與使0次光以及±n次光的各個(gè)的聚光點(diǎn)分支的方向相垂直的方向使激光L相對(duì)地進(jìn)行了移動(dòng)的情況下從表面3側(cè)對(duì)感熱性膜進(jìn)行了觀察的照片。圖22為用于對(duì)于本發(fā)明的實(shí)施例進(jìn)行說(shuō)明的圖,(a)為對(duì)在傅立葉面附近的激光L的狀態(tài)進(jìn)行展示的模擬圖,(b)為對(duì)在聚光點(diǎn)附近的激光L的狀態(tài)進(jìn)行展示的模擬圖。這樣,若通過(guò)光遮斷部220而將+3次光的全部遮斷,則如圖23所示,可知,由于+3次光的影響,在加工對(duì)象物1的表面3產(chǎn)生的損傷大致消失。另外,圖23的上段為在向與使0次光以及±n次光的各個(gè)的聚光點(diǎn)分支的方向相平行的方向使激光L相對(duì)地進(jìn)行了移動(dòng)的情況下從表面3側(cè)對(duì)感熱性膜進(jìn)行了觀察的照片,圖23的下段為在向與使0次光以及±n次光的各個(gè)的聚光點(diǎn)分支的方向相垂直的方向使激光L相對(duì)地進(jìn)行了移動(dòng)的情況下從表面3側(cè)對(duì)感熱性膜進(jìn)行了觀察的照片。圖24為用于對(duì)與本發(fā)明相關(guān)的實(shí)驗(yàn)結(jié)果進(jìn)行說(shuō)明的圖。在此情況下,以對(duì)聚光光學(xué)系204的透鏡視野進(jìn)行限制的方式,將光遮斷部220設(shè)置在聚光光學(xué)系204的光入射部,成為在第1聚光點(diǎn)P1和第2聚光點(diǎn)P2的距離D為50μm以上時(shí)能夠?qū)?3次光遮斷的透鏡視野。如根據(jù)圖24所示的實(shí)驗(yàn)結(jié)果而可知的那樣,若通過(guò)光遮斷部220而將+3次光遮斷,則由于+3次光的影響而在加工對(duì)象物1的表面3產(chǎn)生的損傷大致消失。另外,圖24的上段為在向與使0次光以及±n次光的各個(gè)的聚光點(diǎn)分支的方向相平行的方向使激光L相對(duì)地進(jìn)行了移動(dòng)的情況下從表面3側(cè)對(duì)感熱性膜進(jìn)行了觀察的照片,圖24的下段為在向與使0次光以及±n次光的各個(gè)的聚光點(diǎn)分支的方向相垂直的方向使激光L相對(duì)地進(jìn)行了移動(dòng)的情況下從表面3側(cè)對(duì)感熱性膜進(jìn)行了觀察的照片。根據(jù)上述內(nèi)容,在激光加工裝置300中所實(shí)施的激光加工方法中,以激光L被分支為包含第1加工光L1以及第2加工光L2的0次光以及±n次光并且第1加工光L1被聚光于第1聚光點(diǎn)P1且第2加工光L2被聚光于第2聚光點(diǎn)P2的方式,調(diào)制激光L,在加工對(duì)象物1,在與第1聚光點(diǎn)P1以及第2聚光點(diǎn)P2的各個(gè)相對(duì)應(yīng)的多個(gè)區(qū)域的各個(gè),形成改質(zhì)區(qū)域7。此時(shí),若將表面3上的第1加工光L1的半徑設(shè)為W1,將表面3上的第2加工光L2的半徑設(shè)為W2,將在從與表面3相垂直的方向觀察的情況下的第1聚光點(diǎn)P1和第2聚光點(diǎn)P2的距離設(shè)為D,則以滿足D>W(wǎng)1+W2的方式調(diào)制激光L?;蛘?,以在從與表面3相垂直的方向觀察的情況下的第1聚光點(diǎn)P1和第2聚光點(diǎn)P2的距離成為40μm~80μm的方式,調(diào)制激光L。另外,將被聚光于加工對(duì)象物1的0次光以及±n次光中的相對(duì)于第1加工光L1以及第2加工光L2而被聚光于外側(cè)的光遮斷?;蛘?,將被聚光于加工對(duì)象物1的0次光以及±n次光中的相對(duì)于第1加工光L1以及第2加工光L2而被聚光于與激光L的入射側(cè)相反側(cè)的加工對(duì)象物1的表面3側(cè)的光、以及相對(duì)于第1加工光L1以及第2加工光L2而被聚光于激光L的入射側(cè)的加工對(duì)象物1的背面21側(cè)的光遮斷。再有,在加工對(duì)象物1形成了改質(zhì)區(qū)域7之后,在加工對(duì)象物1的背面21貼附擴(kuò)展膠帶,并使該擴(kuò)展膠帶擴(kuò)張。由此,使從沿著切斷預(yù)定線5所形成的改質(zhì)區(qū)域7向加工對(duì)象物1的厚度方向伸展了的龜裂,到達(dá)加工對(duì)象物1的表面3以及背面21,并通過(guò)沿著切斷預(yù)定線5將加工對(duì)象物1切斷為各個(gè)的功能元件15a而得到多個(gè)芯片。如以上所說(shuō)明的那樣,在激光加工裝置300及激光加工裝置300中所實(shí)施的激光加工方法中,將被聚光于加工對(duì)象物1的0次光及±n次光中相對(duì)于第1加工光L1及第2加工光L2而被聚光于外側(cè)的光遮斷?;蛘?,將被聚光于加工對(duì)象物1的0次光及±n次光中相對(duì)于第1加工光L1及第2加工光L2而被聚光于與激光L的入射側(cè)相反側(cè)的加工對(duì)象物的表面3側(cè)的光、及相對(duì)于第1加工光L1及第2加工光L2而被聚光于激光L的入射側(cè)的加工對(duì)象物的背面21側(cè)的光遮斷。由此,可防止該光被聚光于加工對(duì)象物1的表面3附近及背面21附近。因而,在將激光L分支成多個(gè)加工光并通過(guò)各加工光形成改質(zhì)區(qū)域7的情況下,能夠抑制在與激光L的入射側(cè)相反側(cè)的加工對(duì)象物1的表面3、及激光L的入射側(cè)的加工對(duì)象物的背面21發(fā)生損傷。此外,第1加工光L1及第2加工光L2可從被聚光于加工對(duì)象物1的0次光及±n次光中的0次光及±1次光中被選擇,光遮斷部220將被聚光于加工對(duì)象物1的±n次光中的±n2次光及±3次光遮斷。由此,可將具有相對(duì)較大的能量的0次光及±1次光作為第1加工光L1及第2加工光L2而有效率地利用,并且可更可靠地抑制在與激光L的入射側(cè)相反側(cè)的加工對(duì)象物1的表面3、及激光L的入射光的加工對(duì)象物1的背面21發(fā)生損傷。特別是將具有相對(duì)較大的能量的+3次光遮斷,對(duì)于抑制在與激光L的入射側(cè)相反側(cè)的加工對(duì)象物1的表面3上發(fā)生損傷而言,是重要的。此外,光遮斷部220具有使第1加工光L1及第2加工光L2通過(guò)的開(kāi)口220a。由此,能夠以簡(jiǎn)單的構(gòu)造實(shí)現(xiàn)使至少第1加工光L1及第2加工光L2通過(guò)且用于遮斷第1加工光L1及第2加工光L2以外的規(guī)定的光的光遮斷部220。此外,光遮斷部220被設(shè)置于第1透鏡241a與第2透鏡241b之間的傅立葉面上。由此,可可靠地遮斷第1加工光L1及第2加工光L2以外的規(guī)定的光。另外,即使光遮斷部220設(shè)置于聚光光學(xué)系統(tǒng)204的光入射部,也可可靠地遮斷第1加工光L1及第2加工光L2以外的規(guī)定的光。此外,反射型空間光調(diào)制器203可對(duì)激光L進(jìn)行調(diào)制以使遮斷的光的至少一部分通過(guò)開(kāi)口220a的外側(cè)。由此,可可靠地遮斷第1加工光L1及第2加工光L2以外的規(guī)定的光。此外,在與激光L的入射側(cè)相反側(cè)的加工對(duì)象物1的表面3,設(shè)置有配置成2維狀的多個(gè)功能元件15a及配置于相鄰的功能元件15a之間的街道區(qū)域17的金屬圖案16,切斷預(yù)定線5被設(shè)定為,在從與表面3垂直的方向觀察的情況下通過(guò)相鄰的功能元件15a之間的街道區(qū)域17。若在與激光L的入射側(cè)相反側(cè)的加工對(duì)象物1的表面3,在相鄰的功能元件15a之間的街道區(qū)域17配置有金屬圖案16,則在金屬圖案16引起漏光的吸收而容易在該表面3上發(fā)生損傷。但,即使在這樣的情況下,也可抑制在與激光L的入射側(cè)相反側(cè)的加工對(duì)象物1的表面3上發(fā)生損傷。特別是在遍及基板11的表面11a的全體而形成有層間絕緣膜(例如,Low-k膜等)的情況下,由于能夠抑制該層間絕緣膜的剝離等,因此是有效的。此外,若將表面3上的第1加工光L1的半徑設(shè)為W1,將表面3上的第2加工光L2的半徑設(shè)為W2,將從與表面3垂直的方向觀察時(shí)的第1聚光點(diǎn)P1與第2聚光點(diǎn)P2的距離設(shè)為D,則以滿足D>W(wǎng)1+W2的方式調(diào)制激光L。由此,可防止到達(dá)加工對(duì)象物1的表面3的第1加工光L1的漏光及第2加工光L2的漏光在表面3上干涉而加強(qiáng)。因而,在將激光L分支成多個(gè)加工光并通過(guò)各加工光形成改質(zhì)區(qū)域7的情況下,能夠抑制在與激光L的入射側(cè)相反側(cè)的加工對(duì)象物1的表面3上發(fā)生損傷。此外,若將在反射型空間光調(diào)制器203中相鄰的像素間的距離設(shè)為d,將4f光學(xué)系統(tǒng)241的倍率設(shè)為m,將聚光光學(xué)系統(tǒng)204的焦點(diǎn)距離設(shè)為f,將激光L的波長(zhǎng)設(shè)為λ,則反射型空間光調(diào)制器203以滿足D<2×f×tan[asin{λ/(d×4×m)}]的方式調(diào)制激光L。為了加大從與表面3垂直的方向觀察時(shí)的第1聚光點(diǎn)P1與第2聚光點(diǎn)P2的距離D,需要使反射型空間光調(diào)制器203的調(diào)制圖案中的光柵像素?cái)?shù)縮小。但是,若光柵像素?cái)?shù)過(guò)度縮小,則會(huì)有激光L中無(wú)法進(jìn)行波面控制的成分增加而使漏光增加的擔(dān)憂。通過(guò)以滿足D<2×f×tan[asin{λ/(d×4×m)}]的方式調(diào)制激光L,可抑制激光L中無(wú)法進(jìn)行波面控制的成分增加而使漏光增加,且可抑制在與激光L的入射側(cè)相反側(cè)的加工對(duì)象物1的表面3發(fā)生損傷。以上,對(duì)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方式進(jìn)行說(shuō)明,但本發(fā)明并不限定于上述實(shí)施方式。例如,加工對(duì)象物1的構(gòu)造及材料并不限定于上述的構(gòu)造及材料。作為一個(gè)例子,基板11也可為硅基板以外的半導(dǎo)體基板、藍(lán)寶石基板、SiC基板、玻璃基板(強(qiáng)化玻璃基板)、透明絕緣基板等。此外,0次光及上述±n次光的各個(gè)的聚光點(diǎn)也可以具有,在上述加工對(duì)象物1上,表示次數(shù)的數(shù)值變得越小,越是位于與激光L的入射側(cè)相反側(cè)的加工對(duì)象物1的表面3側(cè),并且越是位于沿著切斷預(yù)定線5的激光L的相對(duì)移動(dòng)方向上的前側(cè)的位置關(guān)系。此外,也可使激光L從加工對(duì)象物1的表面3側(cè)入射。在此情況下,背面21成為與激光L的入射側(cè)相反側(cè)的加工對(duì)象物1的第1表面,表面3成為激光L的入射側(cè)的加工對(duì)象物1的第2表面。此外,光遮斷部220也可具有將+n次光遮斷的構(gòu)件、與將-n次光遮斷的構(gòu)件,且在相對(duì)的構(gòu)件之間的區(qū)域使第1加工光L1及第2加工光L2通過(guò)。此外,光遮斷部220也可僅將被聚光于加工對(duì)象物1的±n次光中相對(duì)于第1加工光L1及第2加工光L2而被聚光于與激光L的入射側(cè)相反側(cè)的加工對(duì)象物的表面3側(cè)的光遮斷、或者僅將+3次光遮斷等、選擇性地遮斷±2次光以上的高次光。產(chǎn)業(yè)上的可利用性根據(jù)本發(fā)明,可提供在將激光分支成多個(gè)加工光并通過(guò)各加工光形成改質(zhì)區(qū)域的情況下能夠抑制在與激光的入射側(cè)相反側(cè)的加工對(duì)象物的表面上發(fā)生損傷的激光加工裝置及激光加工方法。符號(hào)的說(shuō)明1…加工對(duì)象物、3…表面(第1表面)、5…切斷預(yù)定線、7…改質(zhì)區(qū)域、15a…功能元件、16…金屬圖案、17…街道區(qū)域(區(qū)域)、21…背面(第2表面)、202…激光光源、203…反射型空間光調(diào)制器(空間光調(diào)制器)、204…聚光光學(xué)系統(tǒng)、220…光遮斷部、220a…開(kāi)口、241…4f光學(xué)系統(tǒng)(調(diào)整光學(xué)系統(tǒng))、241a…第1透鏡(第1光學(xué)元件)、241b…第2透鏡(第2光學(xué)元件)、300…激光加工裝置、L…激光、L1…第1加工光、L2…第2加工光、P1…第1聚光點(diǎn)、P2…第2聚光點(diǎn)。當(dāng)前第1頁(yè)1 2 3 
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