專利名稱：氟化氣體消除裝置及消除方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明是有關(guān)利用高溫等離子體火焰，對半導(dǎo)體洗滌廢氣體的處 理裝置的技術(shù)。
背景技術(shù)：
地球溫暖化主犯中的一個是在尖端產(chǎn)業(yè)中所使用的產(chǎn)業(yè)氣體。其 代表性的氣體就是氟化系列氣體。比如，這些氣體一旦排放到大氣中， 就會長期存在于大氣中，阻斷應(yīng)該從地表面上排放的紅外線，起著提 高地表大氣溫度的溫室氣體的效果。所以，國際上正強化對產(chǎn)業(yè)中使用的氟化系列氣體在排放到大氣之前應(yīng)完全被破壞的國際規(guī)制。隨著京都議定書從2005年2月16日 開始發(fā)效，減少溫室氣體不僅僅是環(huán)境規(guī)制，也可以說是經(jīng)濟規(guī)制， 對國家經(jīng)濟有很大的影響。在這樣的背景下，在很多方面對消除氟化系列氣體進(jìn)行著研究。 其中一個研究就是利用等離子體，把分子離子化生成另一種無害分子 所排放。以有的技術(shù)是利用RF Source除去真空中的這些分子。如果在真 空中除去這些分子，即使是一個成功的方法也是，因為附著在真空中 實施的半導(dǎo)體流程線，所以存在著這些RF裝備可能會導(dǎo)致阻礙其他 半導(dǎo)體工程裝備的順利進(jìn)行或者完全癱瘓等問題.以至于，要求與半導(dǎo)體工程流程線無關(guān)可在真空外的大氣中消除 操作的裝置。發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明所要達(dá)到的技術(shù)性課題是提供氟化氣體消除裝置，是用電 磁波供應(yīng)能量產(chǎn)生等離子體后，給所產(chǎn)生的電磁波等離子體供應(yīng)氣態(tài) 或是液態(tài)氫氣，或者是碳化氫燃料，利用所產(chǎn)生的高溫等離子體火焰消除產(chǎn)業(yè)體中排放的氟化氣體。并且，本發(fā)明的另一個目的在于，制作高溫等離子體火焰，利用 其火焰把電腦或者是半導(dǎo)體等尖端產(chǎn)業(yè)中使用的氟化氣體破壞的消除 方法的提供。為了達(dá)到如上述目的，為消除已有技術(shù)的缺點而進(jìn)行的本發(fā)明中 提供的氟化氣體消除裝置包括有，從電源供應(yīng)部得到電力而產(chǎn)生電磁 波的磁電管，傳送從上述磁電管發(fā)生的電磁波和吸收反射到磁 電管的反射波的循環(huán)機，把從被上述循環(huán)機傳送的電磁波的強度監(jiān)測 為入射波和反射波的方向性結(jié)合器，對于從上述方向性結(jié)合器引入的電磁波，調(diào)節(jié)入射波和反射波的強度，調(diào)整電阻的短線調(diào)節(jié)器；從上述短線調(diào)節(jié)器傳送的電磁波被輸 入的導(dǎo)波管；串通導(dǎo)波管而結(jié)合，并通過上述導(dǎo)波管輸入的電磁波及從外部輸 入的渦流氣體產(chǎn)生等離子體的放電管；連接在上述放電管一端，往上 述放電管供應(yīng)渦流氣體的渦流氣體供應(yīng)部；布置在上述放電管內(nèi)部， 為在上述放電管內(nèi)產(chǎn)生等離子體而供應(yīng)初期電子的點火部；連接在上 述放電管另一端，往上述放電管內(nèi)形成的等離子體，供應(yīng)燃料及廢氣 體的燃料及廢氣體供應(yīng)部。并且本發(fā)明，對含有氟化氣體的廢氣體處理方法上，提供的廢氣 體處理的方法特征包含有，把廢氣體倒入放電管內(nèi)，暴露在從電磁管 中產(chǎn)生的電磁波的階段；利用上述電磁波在放電管形成等離子體火把， 把上述廢氣體暴露在電磁波火把中氧化形成副產(chǎn)物的階段。


圖1是根據(jù)本發(fā)明實施的氟化氣體消除裝置構(gòu)成的示意圖。 圖2是根據(jù)本發(fā)明實施的氟化氣體消除裝置的一部分結(jié)構(gòu)正斷面 示意圖。圖3是在圖2中所示的廢氣體及燃料注入口的排列結(jié)構(gòu)的正斷面 示意圖。圖4及圖5是在圖2中所示廢氣體及燃料注入口的另一個排列結(jié) 構(gòu)的正斷面示意6是，根據(jù)發(fā)明實施例，利用紅外線分光分析器(FTIR)測定通 過氟化氣體處理裝置前三氟化氮(NF3)的濃度變化的分析結(jié)果波普 示意7是，根據(jù)發(fā)明實施例，利用紅外線分光分析器(FTIR)測定通 過氟化氣體處理裝置后的濃度變化三氟化氮(NF3)的分析結(jié)果波普示 意8是,根據(jù)發(fā)明實施例，通過氟化氣體處理裝置前六氟化磺(SFd 的濃度變化的FTIR波普示意9是,根據(jù)發(fā)明實施例，通過氟化氣體處理裝置后六氟化磺(SF6) 的濃度變化的FTIR波普示意10是，根據(jù)氮含量的SF6的分解效率示意圖表圖11是，根據(jù)發(fā)明實施例，通過氟化氣體處理裝置前四氟化碳 (CF4)的濃度變化的FTIR波普示意12是，根據(jù)發(fā)明實施例，通過氟化氣體處理裝置后四氟化碳 (CF4)的濃度變化的FTIR波普示意13是，根據(jù)氮含量的四氟化碳(CF4)的分解效率示意圖表。
具體實施方式
為了達(dá)到如上述目的，為消除已有技術(shù)的缺點而進(jìn)行的本發(fā)明中 提供的氟化氣體消除裝置包括有，從電源供應(yīng)部得到電力而產(chǎn)生電磁 波的磁電管，傳送從上述磁電管發(fā)生的電磁波和吸收反射到磁電管的 反射波的循環(huán)機，把從被上述循環(huán)機傳送的電磁波的強度監(jiān)測為入射 波和反射波的方向性結(jié)合器，對于從上述方向性結(jié)合器引入的電磁波，調(diào)節(jié)入射波和反射波的 強度，調(diào)整電阻的短線調(diào)節(jié)器；從上述短線調(diào)節(jié)器傳送的電磁波被輸 入的導(dǎo)波管；串通導(dǎo)波管而結(jié)合，并通過上述導(dǎo)波管輸入的電磁波及從外部輸入的渦流氣體產(chǎn)生等離子體的放電管；連接在上述放電管一端，往上 述放電管供應(yīng)渦流氣體的渦流氣體供應(yīng)部；布置在上述放電管內(nèi)部， 為在上述放電管內(nèi)產(chǎn)生等離子體而供應(yīng)初期電子的點火部；連接在上 述放電管另一端，往上述放電管內(nèi)形成的等離子體，供應(yīng)燃料及廢氣 體的燃料及廢氣體供應(yīng)部。并且本發(fā)明，對含有氟化氣體的廢氣體處理方法上，提供的廢氣 體處理的方法特征包含有，把廢氣體倒入放電管內(nèi)，暴露在從電磁管 中產(chǎn)生的電磁波的階段；利用上迷電磁波在放電管形成等離子體火把，把上述廢氣體暴露在電磁波火把中氧化形成副產(chǎn) 物的階段。以下，參照附圖對本發(fā)明的組成及作用詳細(xì)說明 圖1是根據(jù)本發(fā)明實施例的等離子體火焰發(fā)生裝置構(gòu)成的概念示 意圖。如圖l所示，根據(jù)實施例本發(fā)明主要構(gòu)成為，等離子體火焰發(fā) 生裝置為磁電管(IO)，電源供應(yīng)部(20)，循環(huán)器(30)，方向性結(jié)合 器(40),短線調(diào)節(jié)器(50)，導(dǎo)波管(60)，放電管(70)，渦流氣體 供應(yīng)部(80)，點火部(90),燃料及廢氣體供應(yīng)部(100),和火焰出 口 (110)。上述，電磁管(10)使用的是能發(fā)振IO Mlb 10她帶域的電磁波 的電磁管，最好是有能振蕩2.45她的電磁波來構(gòu)成。還有因為電磁管 (10)的效率對溫度敏感，可增設(shè)冷卻裝置(圖面上未圖示)，這個 冷卻裝置最好是有至少能輸送1000升/分鐘空氣的容量。上述電源供應(yīng)部(20)組成包含電波電壓倍率器和脈沖及直流 (DC)裝置，往電磁管(10)供應(yīng)電力。還有，上述循環(huán)機(30)把從電磁管(10)振蕩出的電磁波往方 向性結(jié)合器(40)輸出同時，完全吸收消滅因電阻得不符而被反射的 電磁波能量，來保護(hù)電磁管(10)。上述方向性結(jié)合器(40)輸出通過循環(huán)器傳送的電磁波的同時， 為了使入射波和反射波的強度能用肉眼來確認(rèn)，起監(jiān)控作用。上述短線調(diào)節(jié)器(50)，對從方向性結(jié)合器(40)輸入的電磁波，調(diào)節(jié)入射波和反射波的強度來誘導(dǎo)電阻的符合，使誘導(dǎo)為電磁波的電場在放電管內(nèi)(70)最大。這里，上述的短線調(diào)節(jié)器(50)，調(diào)節(jié)反射 波的強度為入射波的1%以內(nèi)，等等離子體的生成初始化，即使沒有 短線調(diào)節(jié)器(50)也是反射波的強度會小于入射波的10%。上述導(dǎo)波管(60)是，傳送從短線調(diào)節(jié)器(50)的電磁波到放電 管(70)。上述放電管(70)設(shè)置在導(dǎo)波管(60)的終端，提供被通過 導(dǎo)波管(60)輸入的電磁波產(chǎn)生等離子體的空間.上述渦流氣體供應(yīng)部(80)，為了生成的等離子體的穩(wěn)定化和放電 管(70)內(nèi)壁的保護(hù)而供應(yīng)渦流氣體。上述點火部(90),為了等離子體生成的初期電子的供應(yīng)而構(gòu)成。上述燃料及廢氣體供應(yīng)部(100)，把氣態(tài)或者是液態(tài)氫氣，或者 是把碳化氫燃料與廢氣體一起供應(yīng)到生成的等離子體，用生成更高溫 度和更大體積的等離子體火焰來分解處理生成廢氣體來構(gòu)成。還有，根據(jù)本發(fā)明的廢氣體消除裝置，可增設(shè)濕式螺旋器(120)。 這個濕式螺旋器(120)連接在火焰出口 (110)。根據(jù)本發(fā)明的廢氣體 消除裝置把氟化系列氣體變成易溶于水的富產(chǎn)物氣體.例如，氟(F) 與氫結(jié)合生成易溶于水的氟化氫(HF)。于是，這個濕式螺旋器(120) 連接在火焰出口 (110)溶解消除排放氣體。濕式螺旋器(120)可使 用普通型號。圖2是導(dǎo)波管(60)和放電管(70)和渦流氣體供應(yīng)部(80)和 點火部(卯)及燃料及廢氣體供應(yīng)部(100 )的連接狀態(tài)的斷面示意圖。 參照圖2,上述導(dǎo)波管(60)是標(biāo)準(zhǔn)型直四角形導(dǎo)波管(長86鵬，高43 鵬)，從短線調(diào)節(jié)器(50)側(cè)越往到放電管(70)側(cè)，形成其端面積越 縮小的錐形形狀，從短線調(diào)節(jié)器(50)輸入的電子波越往放電管(70) 側(cè)，能量密度就越增加。上述放電管(70)，從導(dǎo)波管(60)的終端(61)在導(dǎo)波管波長的 1/8-1/2之間直角貫穿導(dǎo)波管設(shè)置，放電管(70)最好是設(shè)置在距導(dǎo) 波管(60)的終端(61)相隔導(dǎo)波管波長1/4左右的位置上，并為了 電磁波容易透過而由石英或是鋁或者是陶瓷來構(gòu)成。上述渦流氣體供應(yīng)部(80),為了等離子體的穩(wěn)定化和從等離子體 保護(hù)放電管(70)內(nèi)部而供應(yīng)渦流氣體，包括第一模塊(81)和注入 口 (82)。上述，第一模塊(81)具備在與放電管內(nèi)部的空間(Sl)相 連的另一個空間(S2)內(nèi)，為了包裹上述放電管(70)的下端部而結(jié) 合在導(dǎo)波管(60)。這些第一模塊(81)由金屬構(gòu)成，或者是由金屬或 金屬合金來組成的未圖示的被覆層設(shè)在內(nèi)面或者是外面來阻斷電磁 波.上述，注入口 (82)至少一個以上是，設(shè)置為對第一模塊(81) 的圓柱方向有等角間距，并從第一模塊(81)外側(cè)越往內(nèi)側(cè)是越上向 傾斜。通過這些注入口供應(yīng)的渦流氣體，在放電管內(nèi)(70)產(chǎn)生渦流 穩(wěn)定化等離子體，可防止由等離子體的放電管(70)內(nèi)部的損傷，從 這個注入口 ( 82 )注入的渦流氣體起著氧化由燃料及廢氣供應(yīng)部(100 ) 供應(yīng)的燃料和氟化氣體的氧化劑作用。這些渦流氣體一般在空氣，氧 氣、氮氣、氬氣中至少可選擇一個以上氣體來使用。上述點火部(90)，為初期等離子體的生成，在放電管(70)內(nèi)供 應(yīng)電子。這個點火部(90)具體有， 一雙鴒電極(91， 92)設(shè)置在放 電管(70)內(nèi)部，為了防止第一模塊(81)和電極間形成拱，用感應(yīng) 電管(93)圍住上述電極(91, 92)。另一面，上述一雙鵠電極(91， 92)尾端最好維持0.1~50咖的放電間距.上述燃料及廢氣供應(yīng)部(100),可向生成等離子體供應(yīng)氫氣或者 是碳化氫燃料和廢氣，廢氣可被具有更高溫度和更大體積的等離子體 火焰(Fl )氧化分解。其燃料及廢氣供應(yīng)部具體包括有，第2模塊(101 )， 氣體注入口 ( 102 )和氣體混合裝置(103 )。上述氣體混合裝置(103 ) 為了使廢氣主成分的氮氣和氧氣，氟化系列氣體和氣相或是液相氫氣， 或者是碳化氫能更好的相混融，具有充分長度的長管內(nèi)插入網(wǎng)(104) 或者是珠子(105)的結(jié)構(gòu)。半導(dǎo)體洗滌廢氣的污染物必須通過，在上面提示的高溫等離子體 火焰，并且接觸到高溫等離子體火焰的瞬間被分解。所以，氟化系列 氣體污染物再也不會留在排放氣體當(dāng)中。上述第2模塊(101)設(shè)置在導(dǎo)波管(60)上部能與放電管(70)上端部相結(jié)合，其內(nèi)部具有和放 電管內(nèi)(70)部空間(Sl)連續(xù)著的另一個空間(S3)。并且，笫2 模塊(IOI)上端被開放著，可提供生成等離子體火焰(Fl)噴出的火 焰出口 (110)。還有，若上述放電管(70)和第1、 2模塊(81, 101)相結(jié)合，第 1、 2模塊(81， 101)的具備空間(S1，S2，S3)被連續(xù)形成一個大空間。 這些第2模塊(101)或者是由金屬構(gòu)成，或者是由金屬或金屬合金被 覆層覆蓋在內(nèi)面或者是外面來阻止電磁波.上述氣體注入口 (102)起的作用是往具備在第2模塊(101)的 空間(S3)注入氫氣或是碳化氫燃料及廢氣。至少有一個以上的氣體 注入口 (102)對第2模塊(101)的圓柱方向以等角度間距設(shè)置。被 這些氣體注入口 (102)注入的氣體，可使用氫氣或者使用液相或汽相 曱烷、乙烷、丙烷、丁烷等碳化氫燃料。圖3是由多數(shù)個上述氣體注入口構(gòu)成時，氣體注入口 (102)排列 結(jié)構(gòu)的正斷面示意圖.參照圖3,兩個氣體注入口 (102)對于第2模塊(101)長度方 向，設(shè)置為有高度差。具有這樣高度差的兩個氣體注入口，各自注入 廢氣和氫氣或者是碳化氫燃料，先被氫氣或者是碳化氯燃料產(chǎn)生高溫 等離子體火焰后，可注入廢氣體進(jìn)行分解，或者是在兩個注入口放入 不同廢氣體，用高溫等離子體火焰同時進(jìn)行分解.還有，上述氣體注入口 (102a)可以如同上述水平狀態(tài)設(shè)置，如 圖4所示，也可以從第2模塊(101)的外側(cè)到內(nèi)側(cè)下向傾斜設(shè)置， 還可以如同圖5所示，兩個氣體注入口(102a，102b)維持著相互面對的 狀態(tài)下，向第2模塊(101)的內(nèi)側(cè)下向傾斜設(shè)置。這比水平狀態(tài)的設(shè) 置，注入的廢氣體可直接噴射到等離子體，可加長分解時間提高分解 效率。如同上述燃料及廢氣供應(yīng)部具備至少一個以上氣體注入口 ( 102 )， 具備兩個以上上述注入口 (102)時，對于第2塊(101)長度方向 設(shè)置為有高度差，或者對于第2模塊(101)援助方向設(shè)置為相互具有等角度間距，如此，通過多個氣體注入口 (102)階段性注入廢氣體和 燃料北大體積，擴大的高溫等離子體火焰可提高分解效率，對于如同上述等離子體火焰發(fā)生裝置操作過程的說明如下.從電源供應(yīng)部(20)向電磁管(10)提供電源，電磁管(10)振 蕩出電磁波，振蕩出來的電磁波通過循環(huán)器(30 )和方向性結(jié)合器(40 ) 和短線調(diào)節(jié)器(50)及導(dǎo)波管傳達(dá)到放電管(70)。還有，從上述氣體 供應(yīng)部(80)把從外部供應(yīng)部(圖面上未圖示)供應(yīng)的渦流氣體注入 到放電管(70)的內(nèi)部空間(Sl).如同上述，電磁波流入到放電管(70)內(nèi)部，等渦流氣體供應(yīng)， 點火部(90)電極電壓增加，提供產(chǎn)生等離子體所需電子，生成等離 子體。還有，被供應(yīng)的渦流氣體穩(wěn)定生成的等離子體，放電管內(nèi)形成渦 流，從高溫等離子體火焰保護(hù)放電管(70)內(nèi)壁。結(jié)果，供應(yīng)的渦流 氣體提供對放電管的(70)熱性保護(hù)及穩(wěn)定等離子體功能。從燃料及廢氣體供應(yīng)部(100)所供應(yīng)的氫氣或者是碳化氫燃料， 從等離子體火焰?zhèn)让嫒缤瑥U氣體所注入，被空氣及氧氣等離子體發(fā)生 的火焰從第2模塊(101)火焰出口 (110)噴出。例如，使用液態(tài)碳 化氫系列燃料時，等離子體火焰中心溫度被攝氏5000~6000度的空氣 等離子體，氣化液態(tài)燃料，被高溫等離子體氣體瞬間燃燒.以此，注 入的廢氣體被氧化分解，排放氣體中再也不會殘留氟化系列污染物氣 體。氟化系列氣體，主要在需要真空狀態(tài)的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中使用，用氮 氣運轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)泵排放到真空室外。旋轉(zhuǎn)泵以氮氣噴射運轉(zhuǎn)。所以氟化 系列氣體的主要混合氣體為氮氣。在這個發(fā)明中使用的氟化系列氣體 主要有三氟化氮(NF3)、六氟化氮(SF6)和四氣化氮(CF4)等。<實施例1 >圖6和圖7是利用紅外線分管測定儀(FTIR)來測定通過高溫等離 子體火焰前后的三氟化氮(NF3)的分析結(jié)果圖表。使用的裝置是如圖2所示結(jié)構(gòu)的裝置。在實施例中利用送風(fēng)機注入含有NF3的空氣，渦流氣體使用了壓 縮空氣，注入燃料使用了甲烷。這時，注入的空氣和壓縮空氣流量為每分鐘500升和50升，甲烷 是每分鐘15升，NF3每分鐘600毫升。被NF3所污染的氣體經(jīng)過在放 電管發(fā)生的高溫等離子體火焰后，用紅外線分光檢測儀測定留在排放 氣體中所剩的NF3量結(jié)果，可知道在上述實施條件下，99%以上被高 溫等離子體火焰分解。<實施例2>圖8和圖9是利用紅外線分管測定儀(FTIR)來測定通過高溫等離 子體火焰前后的六氟化磺(SF6)的分析結(jié)果圖表，使用的裝置是如圖2 所示結(jié)構(gòu)的裝置。在這實施例中注入氣體為SF6,氮氣和氧氣用氣體混合裝置來混 合注入，渦流氣體使用了壓縮空氣，還有燃料使用了曱烷。這時，注 入的氮氣和氧氣和壓縮空氣流量每分鐘流量為120升和30升，SF6每 分鐘100毫升。被SF6所污染的氣體通過在放電管發(fā)生的高溫等離子 體火焰后，用紅外線分光檢測儀測定留在排放氣體中所剩的SF6量結(jié) 果，可知道在上述事實條件下，99。/。以上被高溫等離子體火焰分解圖IO所示的是根據(jù)氮氣量的分解效率圖表。氮氣每分鐘可注入60升至160升，氧氣、壓縮空氣、SF6的量與 上述實施例相同。實行后排放氣體中的SF6量利用紅外線分光檢測儀 計算出其效率，其結(jié)果在上述實施條件下SF6被高溫等離子體火焰把 120升每分鐘污染的氮氣分解99%以上。<實施例3>圖11和圖12是利用紅外線分管測定儀(FTIR)來測定通過高溫等離 子體火焰前后的四氟化氮(CF"的分析結(jié)果圖表。使用的裝置是如圖 2所示結(jié)構(gòu)的裝置。在這實施例中注入氣體為CF4，氮氣和氧氣用氣體混合裝置來混 合注入，渦流氣體使用了壓縮空氣，還有燃料使用了曱烷。這時，注 入的氮氣和氧氣和壓縮空氣流量每分鐘流量為40升和30升，CF4每 分鐘50毫升被注入。被CF4所污染的氣體經(jīng)過在放電管發(fā)生的高溫等 離子體火焰后，用紅外線分光檢測儀測定留在排放氣體中所剩的CF4 量結(jié)果，可知道在上述事實條件下，98。/。以上被高溫等離子體火焰分 解圖13所示的是根據(jù)氮氣亮亮的分界效率圖表。氮氣每分鐘可注入 40升到120升，氧氣、壓縮空氣、CF4的量與上述事實例相同。實行 后排放氣體中的CF4量利用紅外線分光檢測儀計算出其效率，其結(jié)果 在上述事實條件下CF4被高溫等離子體火焰把60升每分鐘污染的氮 氣分解90%以上。半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中所使用的代表性真空泵每分鐘排放含有20毫升氟 化碳?xì)怏w的氮氣5至50升。在氟化系列氣體中最穩(wěn)定的污染物是CF4 氣體。所只要能消除CF4，氣體所有氟化系列氣體都能被消除。本發(fā)明不僅限于上述實施例，在權(quán)力范圍內(nèi)，不脫離本次申請的 發(fā)明要點，在當(dāng)年發(fā)明所屬的技術(shù)領(lǐng)域上，只要具有一般知識者不僅 都可進(jìn)行多樣變化，這些變化也將包括在權(quán)力范圍記載范圍之內(nèi)。本發(fā)明是往被電磁波發(fā)振的等離子體火把，注入碳化氫氣體生成 高溫等離子體火焰，可輕易在大氣壓下破壞大氣溫暖化物質(zhì)的氟化系 列氣體，有防止污染物質(zhì)流漏到大氣的效果。即，本發(fā)明在現(xiàn)今尖端 產(chǎn)業(yè)表面洗滌中，開發(fā)能完全消除溫暖化氣體的基礎(chǔ)技術(shù)，可在大氣 壓中使用，與半導(dǎo)體工程的真空流程線無關(guān)使用，具有在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中很容易安裝的優(yōu)點。還有，本發(fā)明在大氣壓中很容易制作高溫等離子體火焰，可把 含有氟化氣體的氮氣或是空氣有效流入到生成高溫等離子體火焰的 放電管中，利用1.4千瓦電磁波來制作的高溫等離子火焰來處理每分 鐘50升以上排放氣體的效果。
權(quán)利要求
1. 氟化氣體消除裝置，包含從電源供應(yīng)部接受電力而發(fā)振電磁波的電磁管；傳送從上述電磁管發(fā)振的電磁波，吸收往電磁波反射的反射波的循環(huán)器；監(jiān)控通過上述循環(huán)器傳送的電磁波強度為入射波和反射波的方向性結(jié)合器；對從上述方向性結(jié)合器流入的電磁波，調(diào)節(jié)入射波和反射波強度來符合電阻的短線調(diào)節(jié)器；從上述短線調(diào)節(jié)器傳送的電磁波流入的導(dǎo)波管；貫通上述導(dǎo)波管來相結(jié)合，被通過上述導(dǎo)波管輸入的電磁波及從外部注入的渦流氣體來產(chǎn)生等離子體氣體的放電管；連接在上述放電管一端，往上述放電管提供渦流氣體的供應(yīng)部；布置在放電管內(nèi)，為了在上述放電管內(nèi)產(chǎn)生等離子體而提供初期電子的點火部；及與上述放電管另一端相連接，向在上述放電管內(nèi)生成的等離子體提供燃料及廢氣體的燃料及廢氣供應(yīng)部。
2. 根據(jù)權(quán)利要求l的氟化氣體消除裝置，其特征在于，上述放電管為 從導(dǎo)波管終端相隔電磁波波長1/8-1/2距離，垂直貫通導(dǎo)波管。
3. 根據(jù)權(quán)利要求l的氟化氣體消除裝置，其特征在于，上述氣體供應(yīng) 部連接在上述放電管一端，在上述放電管內(nèi)提供連續(xù)空間的第l模塊； 及包括貫通上述第l塊，在第l塊內(nèi)部形成的空間提供注入渦流氣體 的路徑的注入口至少一個。
4. 根據(jù)權(quán)利要求l的氟化氣體消除裝置，其特征在于，上述渦流氣體 為空氣、氧氣、氮氣、氬其中的任何一個或者是兩個以上氣體。
5. 根據(jù)權(quán)利要求l的氟化氣體消除裝置，其特征在于，包含上述燃 料及廢氣體供應(yīng)部與上述放電管的另一端相連，向上述放電管的內(nèi)部 提供連續(xù)性空間的第2模塊；貫通上述第2模塊而形成，向上述第2 模塊內(nèi)部供應(yīng)燃料及廢氣體通路的氣體注入口至少一個；連接在上述氣體注入口混合燃料及廢氣體的氣體混合裝置。
6. 根據(jù)權(quán)利要求5的氟化氣體消除裝置，其特征在于，包含具有一 定長度管的上述氣體混合裝置；布置在上述管內(nèi)混合上述燃料及廢氣 體的混合材料。
7. 根據(jù)權(quán)利要求6的氟化氣體消除裝置 為網(wǎng)或者是珠子。
8. 根據(jù)權(quán)利要求7的氟化氣體消除裝置 由鐵或者是鎢構(gòu)成.
9. 根據(jù)權(quán)利要求5的氟化氣體消除裝置 由金屬組成。
10. 根據(jù)權(quán)利要求5的氟化氣體消除裝置，其特征在于，上述第2模 塊是包含著由金屬或者是金屬合金構(gòu)成的被覆層。
11. 根據(jù)權(quán)利要求5的氟化氣體消除裝置，其特征在于，上述燃料及 廢氣體供應(yīng)部為供應(yīng)液態(tài)或氣態(tài)氫氣或者是碳化氫燃料。
12. 根據(jù)權(quán)利要求5的氟化氣體消除裝置，其特征在于，上述氣體注 入口為從第2模塊外側(cè)越往內(nèi)側(cè)，往上述放電管方向傾斜設(shè)置。
13. 根據(jù)權(quán)利要求5的氟化氣體消除裝置，其特征在于，上述氣體注 入口為對上述第2模塊圓柱方向以相互等角度間距，設(shè)置多數(shù)個氣體 注入口 。
14. 根據(jù)權(quán)利要求5的氟化氣體消除裝置，其特征在于，對上述第2 模塊長度方向，在相異位置設(shè)置有多數(shù)個氣體注入口。
15. 根據(jù)權(quán)利要求1的氟化氣體消除裝置，其特征在于，還具備著， 連接在上述燃料及廢氣體供應(yīng)部，把在半導(dǎo)體制造工程中生成的廢氣 體，往上述燃料及廢氣體供應(yīng)部供應(yīng)的真空泵.
16. 根據(jù)權(quán)利要求15的氟化氣體消除裝置，其特征在于，上述真空泵 每分鐘排放5~60升氮氣體。
17. 根據(jù)權(quán)利要求1的氟化氣體消除裝置，其特征在于，利用等離子 體中心溫度為4500 6500。C的高溫等離子體火焰。
18. 根據(jù)權(quán)利要求1的氟化氣體消除裝置，其特征在于，上述磁電管,其特征在于，上述混合材料 ,其特征在于，上述混合材料 ,其特征在于，上述第2模塊產(chǎn)生10MHz ~ 10GHz電磁波.
19. 根據(jù)權(quán)利要求18的氟化氣體消除裝置，其特征在于，上述磁電管 產(chǎn)生2.45 GHz電磁波。
20. 含有氟化氣體的廢氣體處理方法，包括把廢氣體流入到放電管 暴漏在從磁電管出來的電磁波當(dāng)中的階段；利用上述電磁波在放電管 形成等離子體火把，把上述廢氣體暴漏在上述等離子體火把中氧化生 成富產(chǎn)物的階段。
21. 根據(jù)權(quán)利要求20的廢氣體處理方法，其特征在于，還包括把渦流 氣體供應(yīng)到上述放電管階段，
22. 根據(jù)權(quán)利要求21的廢氣體處理方法，其特征在于，上述渦流氣體 生成化學(xué)不穩(wěn)定分子，上述分子在等離子體火把中以活性化學(xué)物質(zhì)起 作用，促進(jìn)化學(xué)反應(yīng)。
23. 根據(jù)權(quán)利要求21的廢氣體處理方法，其特征在于，上述渦流氣體， 冷卻上述放電管內(nèi)壁，并形成旋渦。
24. 根據(jù)權(quán)利要求20的廢氣體處理方法，其特征在于，上述磁電管發(fā) 生2.45GHz。
25. 根據(jù)權(quán)利要求20的廢氣體處理方法，其特征在于，把反應(yīng)氣體添 加到上述廢氣體而供應(yīng)。
26. 根據(jù)權(quán)利要求20的廢氣體處理方法，其特征在于，上述廢氣體 為半導(dǎo)體洗滌氣體。
27. 根據(jù)權(quán)利要求21的廢氣體處理方法，其特征在于，上述渦流氣體 上添加反應(yīng)氣體供應(yīng).
全文摘要
本發(fā)明所述的消除氟化系列氣體的裝置和方法，是有關(guān)于在使用氟化系列氣體的電腦或者是半導(dǎo)體等尖端產(chǎn)業(yè)裝置的配置制造及洗滌過程中，被未反應(yīng)的氟化系列氣體所污染的氣體通過高溫，大容量的等離子體火焰中，利用熱分解或者是等離子化學(xué)反應(yīng)消除氟化系列氣體污染源的裝置及方法。
文檔編號H05H1/00GK101279187SQ20071009041
公開日2008年10月8日 申請日期2007年4月6日 優(yōu)先權(quán)日2007年4月6日
發(fā)明者嚴(yán)桓燮 申請人:嚴(yán)桓燮