線圈及其制備方法和應(yīng)用
【專利摘要】本發(fā)明提供了一種線圈及其制備方法和應(yīng)用，所述方法包括：利用LDS塑料母粒形成線圈載體；在所述線圈載體表面形成連續(xù)的線槽；以及在所述線槽的內(nèi)壁上形成連續(xù)的金屬層，以便獲得所述線圈。利用本發(fā)明的該方法能夠快速有效地制備獲得適用于電磁加熱設(shè)備的線圈，不僅制作成本低，且易實現(xiàn)設(shè)計、試制及量產(chǎn)的柔性化、以及線圈盤的輕型化。
【專利說明】
線圈及其制備方法和應(yīng)用
技術(shù)領(lǐng)域
[0001] 本發(fā)明涉及電磁加熱技術(shù)領(lǐng)域，具體地，涉及線圈及其制備方法和應(yīng)用，更具體 地，涉及制備線圈的方法、線圈以及電磁加熱設(shè)備。
【背景技術(shù)】
[0002] 目前，電磁加熱設(shè)備的線圈盤都是采用漆包線繞線的方式制作。這種方式制作工 藝復(fù)雜，可設(shè)計性差，而且線圈盤繞線的方式較為單一。由此，亟需一種制作成本低，易實現(xiàn) 設(shè)計、試制及量產(chǎn)的柔性化的制備線圈盤的方法。
[0003] 因此，目前的線圈盤技術(shù)仍有待改進。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004] 本發(fā)明旨在至少在一定程度上解決相關(guān)技術(shù)中的技術(shù)問題之一。為此，本發(fā)明的 一個目的在于提出一種制作成本低，易實現(xiàn)設(shè)計、試制及量產(chǎn)的柔性化的制備線圈的方法。
[0005] 在本發(fā)明的第一方面，本發(fā)明提供了一種制備線圈的方法。根據(jù)本發(fā)明的實施例， 該方法包括：利用LDS塑料母粒形成線圈載體；在所述線圈載體表面形成連續(xù)的線槽；以及 在所述線槽的內(nèi)壁上形成連續(xù)的金屬層，以便獲得所述線圈。發(fā)明人發(fā)現(xiàn)，利用本發(fā)明的該 方法能夠快速有效地制備獲得適用于電磁加熱設(shè)備的線圈，發(fā)明人創(chuàng)造性的將激光直接成 型技術(shù)（LDS)應(yīng)用于制備線圈，不僅制作成本低，且易實現(xiàn)設(shè)計、試制及量產(chǎn)的柔性化、以 及線圈盤的輕型化。
[0006] 根據(jù)本發(fā)明的實施例，所述LDS塑料母粒為選自PC-ABS合金、聚氨酯類、聚酯類、 聚碳酸酯類中的至少一種。
[0007] 根據(jù)本發(fā)明的實施例，所述線圈載體是通過注射成型形成的。
[0008] 根據(jù)本發(fā)明的實施例，所述線槽是通過激光蝕刻形成的。
[0009] 根據(jù)本發(fā)明的實施例，所述線槽呈螺旋形，優(yōu)選呈阿基米德螺旋形。
[0010] 根據(jù)本發(fā)明的實施例，所述線槽的寬度為200微米~10毫米。
[0011] 根據(jù)本發(fā)明的實施例，相鄰線槽之間的間隔距離為200微米~10毫米。
[0012] 根據(jù)本發(fā)明的實施例，所述金屬層是通過選自化學(xué)鍍、電鍍、濺射、化學(xué)沉積中的 至少一種方法形成的，優(yōu)選地，在所述線槽的內(nèi)壁上形成金屬層進一步包括：（1)通過化學(xué) 鍍或者化學(xué)鍍和電鍍的組合，在所述線槽內(nèi)壁上形成底層；（2)通過電鍍在所述底層上形 成中間層；（3)通過電鍍在所述中間層上形成表層。
[0013] 根據(jù)本發(fā)明的實施例，所述底層是由銅形成的，所述中間層是由鎳形成的，所述表 層是由金形成的。
[0014] 根據(jù)本發(fā)明的實施例，所述底層的厚度為8~16微米，所述中間層的厚度為1~ 5微米，所述表層的厚度為0. 1~0. 5微米。
[0015] 在本發(fā)明的第二方面，本發(fā)明提供了一種線圈。根據(jù)本發(fā)明的實施例，所述線圈是 通過前面所述的方法制備的。發(fā)明人發(fā)現(xiàn)，相對于傳統(tǒng)線圈，本發(fā)明的該線圈不僅制備成本 低，且厚度較小、重量較輕、加熱效率較高。
[0016] 在本發(fā)明的第三方面，本發(fā)明提供了一種線圈。根據(jù)本發(fā)明的實施例，所述線圈 包括：線圈載體，所述線圈載體上形成有連續(xù)的線槽，所述線槽的內(nèi)壁上形成有連續(xù)的金屬 層，其中，所述線圈載體是由LDS塑料母粒形成的。發(fā)明人發(fā)現(xiàn)，本發(fā)明的該線圈不僅制備 成本低，且厚度較小、重量較輕、加熱效率較高。
[0017] 根據(jù)本發(fā)明的實施例，所述LDS塑料母粒為選自PC-ABS合金、聚氨酯類、聚酯類、 聚碳酸酯類中的至少一種。
[0018] 根據(jù)本發(fā)明的實施例，所述線槽呈螺旋形，優(yōu)選呈阿基米德螺旋形。
[0019] 根據(jù)本發(fā)明的實施例，所述線槽的寬度為200微米~10毫米。
[0020] 根據(jù)本發(fā)明的實施例，相鄰線槽之間的間隔距離為200微米~10毫米。
[0021] 根據(jù)本發(fā)明的實施例，所述金屬層進一步包括：底層，所述底層形成于所述線槽的 內(nèi)壁上沖間層，所述中間層形成于所述底層上；表層，所述表層形成于所述中間層上。
[0022] 根據(jù)本發(fā)明的實施例，所述底層是由銅形成的，所述中間層是由鎳形成的，所述表 層是由金形成的。
[0023] 根據(jù)本發(fā)明的實施例，所述底層的厚度為8~16微米，所述中間層的厚度為1~ 5微米，所述表層的厚度為0. 1~0. 5微米。
[0024] 在本發(fā)明的第四方面，本發(fā)明提供了一種電磁加熱設(shè)備。根據(jù)本發(fā)明的實施例，所 述電磁加熱設(shè)備具有前面所述的線圈。該電磁加熱設(shè)備高度較低，重量較輕，且加熱效率較 高，成本低。
[0025] 根據(jù)本發(fā)明的實施例，所述電磁加熱設(shè)備為選自電磁爐、電飯煲、電壓力煲、電水 壺中的至少一種。
【附圖說明】
[0026] 圖1顯示了根據(jù)本發(fā)明實施例的制備線圈的方法的流程示意圖；
[0027] 圖2顯示了根據(jù)本發(fā)明實施例的線圈的結(jié)構(gòu)示意圖，
[0028] 其中，圖2A顯示了根據(jù)本發(fā)明實施例的線圈的主視圖，
[0029] 圖2B顯示了根據(jù)本發(fā)明實施例的線圈的俯視圖，
[0030] 圖2C顯示了根據(jù)本發(fā)明實施例的線圈的左視圖，
[0031] 圖2D顯示了根據(jù)本發(fā)明實施例的線圈的立體圖；以及
[0032] 圖3顯示了根據(jù)本發(fā)明實施例的激光蝕刻示意圖。
【具體實施方式】
[0033] 下面詳細描述本發(fā)明的實施例。下面描述的實施例是示例性的，僅用于解釋本發(fā) 明，而不能理解為對本發(fā)明的限制。實施例中未注明具體技術(shù)或條件的，按照本領(lǐng)域內(nèi)的文 獻所描述的技術(shù)或條件或者按照產(chǎn)品說明書進行。所用試劑或儀器未注明生產(chǎn)廠商者，均 為可以通過市購獲得的常規(guī)產(chǎn)品。
[0034] 在本發(fā)明的第一方面，本發(fā)明提供了一種制備線圈的方法。根據(jù)本發(fā)明的實施例， 參照圖1和圖2,該方法包括以下步驟：
[0035] SlOO :利用LDS塑料母粒形成線圈載體10。
[0036] 根據(jù)本發(fā)明的實施例，所述LDS塑料母粒的具體種類不受特別限制，本領(lǐng)域技術(shù) 人員可以根據(jù)實際需要靈活選擇。根據(jù)本發(fā)明的一些實施例，所述LDS塑料母?？梢詾?選自PC/ABS合金、聚氨酯類、聚酯類、聚碳酸酯類中的至少一種。根據(jù)本發(fā)明的一些具體 示例，所述 LDS 塑料母粒包括但不限于UltramM? T-4381LDS，Vectra? E820Ilds, Pocan DP7102LDS。根據(jù)本發(fā)明的實施例，LDS塑料母粒中含有非導(dǎo)電活性有機金屬，由此，經(jīng)過激 光蝕刻后，可以釋放出活性金屬（例如Cu)種子，由此，可以通過電鍍或化學(xué)鍍在激光刻蝕 部位形成金屬層，有利于后續(xù)步驟的進行。
[0037] 根據(jù)本發(fā)明的實施例，所述線圈載體10是通過注射成型形成的。由此，操作簡單， 方便快捷，有利于降低成本、提高效率。而且，注射成型容易加工外形復(fù)雜、尺寸精確或帶嵌 件的制品，生廣效率尚。
[0038] S200 :在所述線圈載體表面形成連續(xù)的線槽20。
[0039] 根據(jù)本發(fā)明的實施例，所述線槽20是通過激光蝕刻（激光蝕刻示意圖見圖3)形 成的。根據(jù)本發(fā)明的實施例，可以根據(jù)具體電磁加熱設(shè)備的線圈的實際需要，通過激光刻蝕 形成不同形狀的線槽，根據(jù)本發(fā)明的一些實施例，所述線槽呈螺旋形，根據(jù)本發(fā)明的優(yōu)選實 施例，所述線槽呈阿基米德螺旋形。由此，制備獲得的線圈加熱效率較高。
[0040] 根據(jù)本發(fā)明的實施例，所述線槽的寬度為200微米~10毫米。由此，易于加工且 獲得的線圈的加熱效率較高。
[0041] 根據(jù)本發(fā)明的實施例，相鄰線槽之間的間隔距離為200微米~10毫米。由此，易 于加工且獲得的線圈的加熱效率較高。
[0042] S300 :在所述線槽的內(nèi)壁上形成連續(xù)的金屬層，以便獲得所述線圈。其中，所述金 屬層作為線圈中的導(dǎo)線，形成繞線線圈。
[0043] 根據(jù)本發(fā)明的實施例，形成所述金屬層的方法不受特別限制，只要能夠有效在線 槽內(nèi)壁形成金屬層，本領(lǐng)域技術(shù)人員可以根據(jù)實際情況靈活選擇。根據(jù)本發(fā)明的一些實施 例，形成所述金屬層的方法包括但不限于化學(xué)鍍、電鍍、濺射、化學(xué)沉積或其組合。
[0044] 根據(jù)本發(fā)明的實施例，在所述線槽的內(nèi)壁上形成金屬層進一步包括以下步驟：
[0045] (1)通過化學(xué)鍍或者化學(xué)鍍和電鍍的組合，在所述線槽內(nèi)壁上形成底層。根據(jù)本發(fā) 明的一個具體示例，所述底層是由銅形成的。由此，導(dǎo)電效果較好。根據(jù)本發(fā)明的實施例， 所述底層的厚度不受特別限制，根據(jù)本發(fā)明的一些實施例，所述底層的厚度可以為8~16 微米。由此，能夠在保證導(dǎo)電效果的同時，降低成本。如果底層的厚度過小，導(dǎo)電效果不佳， 如果底層的厚度過大，則成本較高。
[0046] 根據(jù)本發(fā)明的實施例，由于形成線圈載體的材料是非導(dǎo)電的，如果要在線槽內(nèi)壁 上形成金屬層，則需要先通過化學(xué)鍍在所述線槽的內(nèi)壁上形成一層導(dǎo)電層，基于此導(dǎo)電層， 可以進一步通過電鍍形成本發(fā)明所述的金屬層。根據(jù)本發(fā)明的一些實施例，可以通過化學(xué) 鍍形成整個底層，也可以預(yù)先通過化學(xué)鍍在線槽內(nèi)壁形成較?。ê穸葹?~5微米）的一 層導(dǎo)電層，然后進一步通過電鍍形成所述底層。例如，要在線槽內(nèi)壁形成厚度為10微米厚 的銅層（即底層），可以直接通過化學(xué)鍍形成厚度為10微米的銅層，以可以預(yù)先通過化學(xué)鍍 在線槽內(nèi)壁形成厚度為3微米的化學(xué)鍍銅層，然后再通過電鍍形成厚度為7微米后的電鍍 銅層，以便獲得厚度為10微米的銅層。
[0047] (2)通過電鍍在所述底層上形成中間層。
[0048] 根據(jù)本發(fā)明的實施例，形成所述中間層的具體材料不受特別限制，根據(jù)本發(fā)明的 具體示例，所述中間層是由鎳形成的，由此，在保證導(dǎo)電效果的同時，能夠有效防止底層氧 化。根據(jù)本發(fā)明的實施例，所述中間層的厚度不受特別限制，根據(jù)本發(fā)明的一些實施例，所 述中間層的厚度為1~5微米。由此，能夠有效防止底層氧化，且導(dǎo)電效果較佳，同時成本 較低，效率較高。
[0049] (3)通過電鍍在所述中間層上形成表層。
[0050] 根據(jù)本發(fā)明的實施例，形成所述表層的材料種類不受特別限制，根據(jù)本發(fā)明的一 些實施例，所述表層是由金形成的。根據(jù)本發(fā)明的實施例，所述表層的厚度不受特別限制， 本領(lǐng)域技術(shù)人員可以根據(jù)需要進行選擇。根據(jù)本發(fā)明的一些實施例，所述表層的厚度為 0. 1~0. 5微米。由此，線圈的導(dǎo)電效果較好，進而加熱效率較佳，同時成本較低，效率較高。
[0051] 本領(lǐng)域技術(shù)人員可以理解，可以根據(jù)實際需要將中間層、表層變更為其他導(dǎo)電性 能的金屬，如銀、鋁等，進一步地，本領(lǐng)域技術(shù)人員還可以根據(jù)設(shè)備的具體要求更改底層、中 間層和表層的厚度，也可以根據(jù)實際需要，選擇底層、中間層和表層的具體材料種類。
[0052] 本領(lǐng)域技術(shù)人員可以理解，為了進一步提高線圈的加熱效率，可以將通過本發(fā)明 的方法制備獲得的線圈與磁條進行合理的組合，由此獲得加熱效率較高的線圈。
[0053] 發(fā)明人發(fā)現(xiàn)，利用本發(fā)明的該方法能夠快速有效地制備獲得適用于電磁加熱設(shè)備 的線圈，發(fā)明人創(chuàng)造性的將激光直接成型技術(shù)（LDS)應(yīng)用于制備線圈，不僅制作成本低，且 易實現(xiàn)設(shè)計、試制及量產(chǎn)的柔性化、以及線圈盤的輕型化。
[0054] 在本發(fā)明的第二方面，本發(fā)明提供了一種線圈。根據(jù)本發(fā)明的實施例，所述線圈是 通過前面所述的方法制備的。發(fā)明人發(fā)現(xiàn)，相對于傳統(tǒng)線圈，本發(fā)明的該線圈不僅制備成本 低，且厚度較小、重量較輕、加熱效率較高。
[0055] 在本發(fā)明的第三方面，本發(fā)明提供了一種線圈。根據(jù)本發(fā)明的實施例，所述線圈 包括：線圈載體，所述線圈載體上形成有連續(xù)的線槽，所述線槽的內(nèi)壁上形成有連續(xù)的金屬 層，其中，所述線圈載體是由LDS塑料母粒形成的。發(fā)明人發(fā)現(xiàn)，本發(fā)明的該線圈不僅制備 成本低，且厚度較小、重量較輕、加熱效率較高。
[0056] 根據(jù)本發(fā)明的實施例，所述LDS塑料母粒為選自PC-ABS合金、聚氨酯類、聚酯 類、聚碳酸酯類中的至少一種。由此，易于加工，制備獲得的線圈的性能較佳。根據(jù)本發(fā) 明的一些具體示例，所述LDS塑料母粒包括但不限于Ultramid? T-4381LDS，Vectra? E820Ilds，P〇Can DP7102LDS。根據(jù)本發(fā)明的實施例，LDS塑料母粒中含有非導(dǎo)電活性有機 金屬，由此，經(jīng)過激光蝕刻后，可以釋放出活性金屬（例如Cu)種子，由此，可以通過電鍍或 化學(xué)鍍在激光刻蝕部位形成金屬層，有利于后續(xù)步驟的進行。
[0057] 根據(jù)本發(fā)明的實施例，根據(jù)本發(fā)明的實施例，可以根據(jù)具體電磁加熱設(shè)備對線圈 的實際需要，將線槽涉及為不同的形狀，根據(jù)本發(fā)明的一些實施例，所述線槽呈螺旋形，根 據(jù)本發(fā)明的優(yōu)選實施例，所述線槽呈阿基米德螺旋形。由此，制備獲得的線圈加熱效率較 尚。
[0058] 根據(jù)本發(fā)明的實施例，所述線槽的寬度為200微米~10毫米。由此，易于加工且 獲得的線圈的加熱效率較高。
[0059] 根據(jù)本發(fā)明的實施例，相鄰線槽之間的間隔距離為200微米~10毫米。由此，易 于加工且獲得的線圈的加熱效率較高。
[0060] 根據(jù)本發(fā)明的實施例，所述金屬層進一步包括：底層，所述底層形成于所述線槽的 內(nèi)壁上沖間層，所述中間層形成于所述底層上；表層，所述表層形成于所述中間層上。
[0061] 根據(jù)本發(fā)明的實施例，形成所述地底層的具體材料種類不受特別限制，本領(lǐng)域技 術(shù)人員可以靈活選擇，根據(jù)本發(fā)明的一些實施例，由此，導(dǎo)電效果較好。根據(jù)本發(fā)明的實施 例，所述底層的厚度不受特別限制，根據(jù)本發(fā)明的一些實施例，所述底層的厚度可以為8~ 16微米。由此，能夠在保證導(dǎo)電效果的同時，降低成本。如果底層的厚度過小，導(dǎo)電效果不 佳，如果底層的厚度過大，則成本較高。
[0062] 根據(jù)本發(fā)明的實施例，形成所述中間層的具體材料不受特別限制，根據(jù)本發(fā)明的 具體示例，所述中間層是由鎳形成的，由此，在保證導(dǎo)電效果的同時，能夠有效防止底層氧 化。根據(jù)本發(fā)明的實施例，所述中間層的厚度不受特別限制，根據(jù)本發(fā)明的一些實施例，所 述中間層的厚度為1~5微米。由此，能夠有效防止底層氧化，且導(dǎo)電效果較佳。
[0063] 根據(jù)本發(fā)明的實施例，形成所述表層的材料種類不受特別限制，根據(jù)本發(fā)明的一 些實施例，所述表層是由金形成的。根據(jù)本發(fā)明的實施例，所述表層的厚度不受特別限制， 本領(lǐng)域技術(shù)人員可以根據(jù)需要進行選擇。根據(jù)本發(fā)明的一些實施例，所述表層的厚度為 0. 1~0. 5微米。由此，線圈的導(dǎo)電效果較好，進而家熱效率較佳。
[0064] 本領(lǐng)域技術(shù)人員可以理解，可以根據(jù)實際需要將中間層、表層變更為其他導(dǎo)電性 能的金屬，如銀、鋁等，進一步地，本領(lǐng)域技術(shù)人員還可以根據(jù)設(shè)備的具體要求更改底層、中 間層和表層的厚度，也可以根據(jù)實際需要，選擇底層、中間層和表層的具體材料種類。
[0065] 在本發(fā)明的第四方面，本發(fā)明提供了一種電磁加熱設(shè)備。根據(jù)本發(fā)明的實施例，所 述電磁加熱設(shè)備具有前面所述的線圈。該電磁加熱設(shè)備高度較低，重量較輕，且加熱效率較 高，成本低。
[0066] 根據(jù)本發(fā)明的實施例，所述電磁加熱設(shè)備可以為選自電磁爐、電飯煲、電壓力煲、 電水壺中的至少一種。
[0067] 實施例1 :
[0068] 按照如下步驟，制備加熱線圈：
[0069] 首先，利用LDS塑料母粒（Ultramid?T-4381LDS)注射成型，形成線圈載體，接著， 利用鐳射機（LPKF 3D IR 160Industrial)，以0. 6kw的功率在制得的線圈載體上激光蝕刻 線槽，得到的線槽的寬度為2_，相鄰線槽之間的間距為10_，共鐳射9圈，然后按照下表1 所示的工藝在線槽的內(nèi)壁上形成金屬層，具體地，先利用高壓水對線槽進行清洗，然后通過 化學(xué)鍍在線槽內(nèi)壁上形成一層較薄的銅層，接著通過電鍍繼續(xù)鍍銅，至在線槽內(nèi)壁上形成 厚度為8微米的銅層，接著通過化學(xué)鍍在銅層上形成厚度為3微米的鎳層，再通過閃鍍在鎳 層上形成厚度為0. 1微米的金（Au)層，然后進行干燥，即得線圈，線圈的結(jié)構(gòu)示意圖見圖2。
[0070] 表1電鍍工藝
[0071]
[0072] 通過檢測，本實例制作的線圈安全電流可以達到9A，目前IH加熱的線圈一般安全 電流在6-12A左右。
[0073] 將本實施例中制備獲得的線圈與功率板、主機板、燈板（操控顯示板）、溫控、熱敏 支架、風(fēng)機、電源線、爐面板（瓷板、黑晶板）、塑膠上下蓋等組裝成電磁爐，得到的電磁爐加 熱最大功率可以達到1800w。
[0074] 實施例2 :
[0075] 首先，利用LDS塑料母粒（VectraK E820Ilds)注射成型，形成線圈載體，接著，利 用鐳射機（LPKF 3D IR 160Industrial)，以0. 9kw的功率在制得的線圈載體上激光蝕刻線 槽，得到的線槽的寬度為1. 5_，相鄰線槽之間的間距為10_，共鐳射12圈，然后按照下表2 所示的工藝在線槽的內(nèi)壁上形成金屬層，具體地，先利用高壓水對線槽進行清洗，然后通過 化學(xué)鍍在線槽內(nèi)壁上形成一層較薄的銅層，接著通過電鍍繼續(xù)鍍銅，至在線槽內(nèi)壁上形成 厚度為12微米的銅層，接著通過化學(xué)鍍在銅層上形成厚度為3微米的鎳層，再通過閃鍍在 鎳層上形成厚度為〇. 2微米的金層，然后進行干燥，即得線圈。
[0076] 表2電鍍工藝
[0077]
[0078] 通過檢測，本實例制作的線圈安全電流可以達到12A，目前IH加熱的線圈一般安 全電流在6-12A左右。
[0079] 將本實施例中制備獲得的線圈與功率板、主機板、燈板（操控顯示板）、溫控、熱敏 支架、風(fēng)機、電源線、爐面板（瓷板、黑晶板）、塑膠上下蓋等組裝成電磁爐，得到的電磁爐加 熱最大功率可以達到2100w。
[0080] 實施例3 :
[0081] 首先，利用LDS塑料母粒（Pocan DP7102LDS)注射成型，形成線圈載體，接著，利 用鐳射機（LPKF 3D IR 160Industrial)，以0. 9kw的功率在制得的線圈載體上激光蝕刻線 槽，得到的線槽的寬度為1. 5_，相鄰線槽之間的間距為8_，共鐳射15圈，然后按照下表3 所示的工藝在線槽的內(nèi)壁上形成金屬層，具體地，先利用高壓水對線槽進行清洗，然后通過 化學(xué)鍍在線槽內(nèi)壁上形成一層較薄的銅層，接著通過電鍍繼續(xù)鍍銅，至在線槽內(nèi)壁上形成 厚度為16微米的銅層，接著通過化學(xué)鍍在銅層上形成厚度為5微米的鎳層，再通過閃鍍在 鎳層上形成厚度為〇. 2微米的金層，然后進行干燥，即得線圈。
[0082] 表3電鍍工藝
[0083]
[0084] 通過檢測，本實例制作的線圈安全電流可以達到15A，目前IH加熱的線圈一般安 全電流在6-12A左右。
[0085] 將本實施例中制備獲得的線圈與功率板、主機板、燈板（操控顯示板）、溫控、熱敏 支架、風(fēng)機、電源線、爐面板（瓷板、黑晶板）、塑膠上下蓋等組裝成電磁爐，得到的電磁爐加 熱最大功率可以達到2400w。
[0086] 在本發(fā)明的描述中，需要理解的是，術(shù)語"中心"、"縱向"、"橫向"、"長度"、"寬度"、 "厚度"、"上"、"下"、"前"、"后"、"左"、"右"、"豎直"、"水平"、"頂"、"底" "內(nèi)"、"外"、"順時 針"、"逆時針"、"軸向"、"徑向"、"周向"等指示的方位或位置關(guān)系為基于附圖所示的方位或 位置關(guān)系，僅是為了便于描述本發(fā)明和簡化描述，而不是指示或暗示所指的裝置或元件必 須具有特定的方位、以特定的方位構(gòu)造和操作，因此不能理解為對本發(fā)明的限制。
[0087] 此外，術(shù)語"第一"、"第二"僅用于描述目的，而不能理解為指示或暗示相對重要性 或者隱含指明所指示的技術(shù)特征的數(shù)量。由此，限定有"第一"、"第二"的特征可以明示或 者隱含地包括一個或者更多個該特征。在本發(fā)明的描述中，"多個"的含義是兩個或兩個以 上，除非另有明確具體的限定。
[0088] 在本發(fā)明中，除非另有明確的規(guī)定和限定，術(shù)語"安裝"、"相連"、"連接"、"固定"等 術(shù)語應(yīng)做廣義理解，例如，可以是固定連接，也可以是可拆卸連接，或成一體；可以是機械連 接，也可以是電連接；可以是直接相連，也可以通過中間媒介間接相連，可以是兩個元件內(nèi) 部的連通或兩個元件的相互作用關(guān)系。對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員而言，可以根據(jù)具體情 況理解上述術(shù)語在本發(fā)明中的具體含義。
[0089] 在本發(fā)明中，除非另有明確的規(guī)定和限定，第一特征在第二特征"上"或"下"可以 是第一和第二特征直接接觸，或第一和第二特征通過中間媒介間接接觸。而且，第一特征在 第二特征"之上"、"上方"和"上面"可是第一特征在第二特征正上方或斜上方，或僅僅表示 第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征"之下"、"下方"和"下面"可以是 第一特征在第二特征正下方或斜下方，或僅僅表示第一特征水平高度小于第二特征。
[0090] 在本說明書的描述中，參考術(shù)語"一個實施例"、"一些實施例"、"示例"、"具體示 例"、或"一些示例"等的描述意指結(jié)合該實施例或示例描述的具體特征、結(jié)構(gòu)、材料或者特 點包含于本發(fā)明的至少一個實施例或示例中。在本說明書中，對上述術(shù)語的示意性表述不 必須針對的是相同的實施例或示例。而且，描述的具體特征、結(jié)構(gòu)、材料或者特點可以在任 一個或多個實施例或示例中以合適的方式結(jié)合。此外，在不相互矛盾的情況下，本領(lǐng)域的技 術(shù)人員可以將本說明書中描述的不同實施例或示例以及不同實施例或示例的特征進行結(jié) 合和組合。
[0091] 盡管上面已經(jīng)示出和描述了本發(fā)明的實施例，可以理解的是，上述實施例是示例 性的，不能理解為對本發(fā)明的限制，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員在本發(fā)明的范圍內(nèi)可以對上述 實施例進行變化、修改、替換和變型。
【主權(quán)項】
1. 一種制備線圈的方法，其特征在于，包括： 利用LDS塑料母粒形成線圈載體； 在所述線圈載體表面形成連續(xù)的線槽； 在所述線槽的內(nèi)壁上形成連續(xù)的金屬層，以便獲得所述線圈。2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述LDS塑料母粒為選自PC-ABS合金、聚 氨酯類、聚酯類、聚碳酸酯類中的至少一種。3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述線圈載體是通過注射成型形成的。4. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述線槽是通過激光蝕刻形成的。5. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述線槽呈螺旋形，優(yōu)選呈阿基米德螺旋 形。6. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述線槽的寬度為200微米~10毫米。7. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，相鄰線槽之間的間隔距離為200微米~ 10毫米。8. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述金屬層是通過選自化學(xué)鍍、電鍍、濺 射、化學(xué)沉積中的至少一種方法形成的， 優(yōu)選地，在所述線槽的內(nèi)壁上形成金屬層進一步包括： (1) 通過化學(xué)鍍或者化學(xué)鍍和電鍍的組合，在所述線槽內(nèi)壁上形成底層； (2) 通過電鍍在所述底層上形成中間層； (3) 通過電鍍在所述中間層上形成表層。9. 根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法，其特征在于，所述底層是由銅形成的，所述中間層是由 鎳形成的，所述表層是由金形成的。10. 根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法，其特征在于，所述底層的厚度為8~16微米，所述中 間層的厚度為1~5微米，所述表層的厚度為0. 1~0. 5微米。11. 一種線圈，其特征在于，所述線圈是通過權(quán)利要求1-10中任意一項所述的方法制 備的。12. -種線圈，其特征在于，包括： 線圈載體， 所述線圈載體上形成有連續(xù)的線槽， 所述線槽的內(nèi)壁上形成有連續(xù)的金屬層， 其中，所述線圈載體是由LDS塑料母粒形成的。13. 根據(jù)權(quán)利要求12所述的線圈，其特征在于，所述LDS塑料母粒為選自PC-ABS合金、 聚氨酯類、聚酯類、聚碳酸酯類中的至少一種。14. 根據(jù)權(quán)利要求12所述的線圈，其特征在于，所述線槽呈螺旋形，優(yōu)選呈阿基米德螺 旋形。15. 根據(jù)權(quán)利要求12所述的線圈，其特征在于，所述線槽的寬度為200微米~10毫米。16. 根據(jù)權(quán)利要求12所述的線圈，其特征在于，相鄰線槽之間的間隔距離為200微米~ 10毫米。17. 根據(jù)權(quán)利要求12所述的線圈，其特征在于，所述金屬層進一步包括： 底層，所述底層形成于所述線槽的內(nèi)壁上； 中間層，所述中間層形成于所述底層上； 表層，所述表層形成于所述中間層上。18. 根據(jù)權(quán)利要求17所述的線圈，其特征在于，所述底層是由銅形成的，所述中間層是 由鎳形成的，所述表層是由金形成的。19. 根據(jù)權(quán)利要求17所述的線圈，其特征在于，所述底層的厚度為8~16微米，所述中 間層的厚度為1~5微米，所述表層的厚度為0. 1~0. 5微米。20. -種電磁加熱設(shè)備，其特征在于，所述電磁加熱設(shè)備具有權(quán)利要求11-19中任一項 所述的線圈。21. 根據(jù)權(quán)利要求20所述的加熱設(shè)備，其特征在于，所述電磁加熱設(shè)備為選自電磁爐、 電飯煲、電壓力煲、電水壺中的至少一種。
【文檔編號】H05B6/36GK106034367SQ201510102271
【公開日】2016年10月19日
【申請日】2015年3月9日
【發(fā)明人】楊玲, 曹達華, 何柏鋒
【申請人】佛山市順德區(qū)美的電熱電器制造有限公司, 美的集團股份有限公司