一種用于基板顯影的清洗裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型涉及清洗裝置，具體講是一種用于除去附著在基板表面上的顆粒的用于基板顯影的清洗裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]半導體設(shè)備的制造過程中，為了在基板上形成電極圖案，采用光刻技術(shù)。在該光刻技術(shù)中，采用旋涂法在晶片等上涂敷光抗蝕劑液，根據(jù)規(guī)定的電路圖案對由此形成的抗蝕劑膜進行曝光，對該曝光圖案實施顯影處理，從而在抗蝕劑膜上形成電路圖案
[0003]因此，在半導體設(shè)備的制造工藝中，使基板保持清潔狀態(tài)是極其重要的。因此，設(shè)置一種清洗裝置，用來在各個處理工藝前后，根據(jù)需要清洗除去附著在基板上的顆粒。
[0004]現(xiàn)有的用于基板顯影的清洗裝置上用于固定基板的夾具結(jié)構(gòu)比較復雜；市場上有一種清洗基板的裝置，它包括用于一個箱體，箱體內(nèi)設(shè)有用于固定基板且可帶動基板旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)夾具，箱體上部設(shè)有進水口，箱體下部設(shè)有出水口，清洗液進水口進入并對基板進行沖刷，旋轉(zhuǎn)夾具帶動基板旋轉(zhuǎn)，在離心力的作用下，清洗液在基板表面擴散，從而達到清洗基板表面顆粒的目的，但其仍存在一些不足之處:上述該清洗裝置的旋轉(zhuǎn)夾具為由電機帶動轉(zhuǎn)動的旋轉(zhuǎn)板，旋轉(zhuǎn)板上表面設(shè)有用于容置基板的限位凹槽，由于基板位于限位凹槽內(nèi)，使得基板在沖洗時容易使得清洗液或顆粒堆積在限位凹槽內(nèi)壁與基板邊緣之間，導致清洗效率低。
【實用新型內(nèi)容】
[0005]本實用新型所要解決的技術(shù)問題:提供一種結(jié)構(gòu)簡單、清洗效果好的用于基板顯影的清洗裝置。
[0006]為了解決上述技術(shù)問題，本實用新型是通過以下技術(shù)方案實現(xiàn)的:一種用于基板顯影的清洗裝置，它包括本體和用于固定基板且可帶動基板旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)夾具，本體內(nèi)設(shè)有可容置旋轉(zhuǎn)夾具的容腔，所述旋轉(zhuǎn)夾具包括用于容置基板且對基板周向限位的下夾具和用于對基板上限位的上夾具，下夾具與上夾具可拆式連接；下夾具上表面邊緣沿周向設(shè)有若干個用于防止基板脫離下夾具的限位凸塊，限位凸塊之間有間隙；所述上夾具中部設(shè)有可供清洗液穿過并對基板進行清洗的通孔，上夾具下表面設(shè)有用于防止基板從下夾具掉出的限位機構(gòu)。
[0007]作為優(yōu)選，所述限位機構(gòu)包括上夾具下表面位于通孔邊緣位置處沿周向設(shè)置的凸起凸起在上夾具與下夾具連接后與基板上表面相抵。
[0008]作為優(yōu)選，所述下夾具外壁沿周向向外設(shè)有至少二個第一延長塊，第一延長塊上表面設(shè)有凸臺，凸臺上表面鉸接有限位塊;上夾具外壁沿周向?qū)?yīng)第一延長塊的位置處設(shè)有第二延長塊，第二延長塊上設(shè)有可供限位塊穿過的限位通孔。
[0009]采用上述結(jié)構(gòu)，本實用新型所具有的優(yōu)點是:將基板放于下夾具上表面，下夾具上表面與基板下表面相抵，下夾具四周邊緣位于基板的外側(cè)設(shè)有限位凸塊，限位凸塊用于防止基板在夾具的帶動下發(fā)生自轉(zhuǎn)或從夾具側(cè)向掉落，實現(xiàn)周線限位的目的；限位凸塊之間有間隙，當上夾具與下夾具連接后，清洗液或顆粒從限位凸塊之間的間隙件掉落，從而防止清洗液或顆粒堆積，清洗效果好;上夾具下表面設(shè)有凸起，凸起在上夾具和下夾具連接后與基板上表面相抵，凸起使得上夾具與基板之間有間隙，上夾具上設(shè)有可供清洗液清洗基板的通孔，當清洗基板時，清洗液自通孔流經(jīng)基板上表面，最后從限位凸塊之間的間隙間流出，凸塊同時起到防止基板因向上跳動而掉出夾具的目的；下夾具和上夾具四周分別設(shè)有相互配合的延伸塊，第一延伸塊鉸接有限位塊，限位塊通過限位銷與凸臺鉸接，限位塊可繞限位銷在凸臺上表面轉(zhuǎn)動，當上夾具和下夾具固定時，將上夾具的限位通孔穿過限位塊后，轉(zhuǎn)動限位塊即可實現(xiàn)上夾具與下夾具的連接，結(jié)構(gòu)簡單，安裝方便，解決現(xiàn)有技術(shù)夾具固定不牢固而導致上夾具飛起的問題。
【附圖說明】
[0010]圖1為本實用新型一種用于基板顯影的清洗裝置的下夾具和本體的俯視裝配結(jié)構(gòu)示意圖。
[0011 ]圖2為本實用新型一種用于基板顯影的清洗裝置的上夾具的仰視結(jié)構(gòu)示意圖。
[0012]如圖所示:1-本體，2-下夾具，3-上夾具，4-限位凸塊，5-通孔，6-凸起，7.1-第一延長塊，7.2-第二延長塊，8-凸臺，9-限位塊，10-限位通孔。
【具體實施方式】
[0013]下面結(jié)合附圖對本實用新型做進一步的說明。
[0014]在本實用新型描述中，需要理解的是，術(shù)語“上”、“下”、“內(nèi)”、“外”等指示方位或位置關(guān)系是基于附圖所述的位置關(guān)系，僅是為了便于描述本發(fā)明或簡化描述，而不是指示必須具有的特定的方位。
[0015]如圖1、圖2所示，一種用于基板顯影的清洗裝置，它包括本體1和用于固定基板且可帶動基板旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)夾具，本體1內(nèi)設(shè)有可容置旋轉(zhuǎn)夾具的容腔，所述旋轉(zhuǎn)夾具包括用于容置基板且對基板周向限位的下夾具2和用于對基板上限位的上夾具3，下夾具2與上夾具3可拆式連接;下夾具2上表面邊緣沿周向設(shè)有若干個用于防止基板脫離下夾具2的限位凸塊4，限位凸塊4之間有間隙;所述上夾具3中部設(shè)有可供清洗液穿過并對基板進行清洗的通孔5，上夾具3下表面設(shè)有用于防止基板從下夾具2掉出的限位機構(gòu)。
[0016]所述限位機構(gòu)包括上夾具3下表面位于通孔5邊緣位置處沿周向設(shè)置的凸起6，凸起6在上夾具3與下夾具2連接后與基板上表面相抵。
[0017]所述下夾具2外壁沿周向向外設(shè)有至少二個第一延長塊7.1，第一延長塊7.1上表面設(shè)有凸臺8，凸臺8上表面鉸接有限位塊9;上夾具2外壁沿周向?qū)?yīng)第一延長塊7.1的位置處設(shè)有第二延長塊7.2，第二延長塊7.2上設(shè)有可供限位塊9穿過的限位通孔10。
[0018]將基板放于下夾具2上表面，下夾具2上表面與基板下表面相抵，下夾具2四周邊緣位于基板的外側(cè)設(shè)有限位凸塊4，限位凸塊4用于防止基板在夾具的帶動下發(fā)生自轉(zhuǎn)或從夾具側(cè)向掉落，實現(xiàn)周線限位的目的；限位凸塊4之間有間隙，當上夾具3與下夾具2連接后，清洗液或顆粒從限位凸塊4之間的間隙件掉落，從而防止清洗液或顆粒堆積，清洗效果好;上夾具3下表面設(shè)有凸起6，凸起6在上夾具3和下夾具2連接后與基板上表面相抵，凸起6使得上夾具3與基板之間有間隙，上夾具3上設(shè)有可供清洗液清洗基板的通孔，當清洗基板時，清洗液自通孔流經(jīng)基板上表面，最后從限位凸塊4之間的間隙間流出，凸塊6同時起到防止基板因向上跳動而掉出夾具的目的；下夾具2和上夾具3四周分別設(shè)有相互配合的延伸塊，第一延伸塊7.1鉸接有限位塊9，限位塊9通過限位銷與凸臺8鉸接，限位塊9可繞限位銷在凸臺8上表面轉(zhuǎn)動，當上夾具3和下夾具2固定時，將上夾具3的限位通孔10穿過限位塊9后，轉(zhuǎn)動限位塊9即可實現(xiàn)上夾具與下夾具的連接，結(jié)構(gòu)簡單，安裝方便。
[0019]本實用新型還具有其他結(jié)構(gòu)，如下夾具上設(shè)有可帶動下夾具2和基板轉(zhuǎn)動的轉(zhuǎn)動裝置等，因未設(shè)計發(fā)明點，在此不再一一展開。
[0020]以上對本實用新型及其實施方式進行了描述，這種描述沒有限制性，附圖中所示的也只是本實用新型的實施方式之一，實際的結(jié)構(gòu)并不局限于此?？偠灾绻绢I(lǐng)域的普通技術(shù)人員受其啟示，在不脫離本實用新型創(chuàng)造宗旨的情況下，不經(jīng)創(chuàng)造性的設(shè)計出與該技術(shù)方案相似的結(jié)構(gòu)方式及實施例，均應(yīng)屬于本實用新型的保護范圍。
【主權(quán)項】
1.一種用于基板顯影的清洗裝置，它包括本體(1)和用于固定基板且可帶動基板旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)夾具，本體(1)內(nèi)設(shè)有可容置旋轉(zhuǎn)夾具的容腔，其特征在于:所述旋轉(zhuǎn)夾具包括用于容置基板且對基板周向限位的下夾具(2)和用于對基板上限位的上夾具(3)，下夾具(2)與上夾具(3)可拆式連接;下夾具(2)上表面邊緣沿周向設(shè)有若干個用于防止基板脫離下夾具(2)的限位凸塊(4)，限位凸塊(4)之間有間隙；所述上夾具(3)中部設(shè)有可供清洗液穿過并對基板進行清洗的通孔(5)，上夾具(3)下表面設(shè)有用于防止基板從下夾具(2)掉出的限位機構(gòu)。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于基板顯影的清洗裝置，其特征在于:所述限位機構(gòu)包括上夾具(3)下表面位于通孔(5)邊緣位置處沿周向設(shè)置的凸起(6)，凸起(6)在上夾具(3)與下夾具(2)連接后與基板上表面相抵。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于基板顯影的清洗裝置，其特征在于:所述下夾具(2)外壁沿周向向外設(shè)有至少二個第一延長塊(7.1)，第一延長塊(7.1)上表面設(shè)有凸臺(8)，凸臺(8)上表面鉸接有限位塊(9);上夾具(2)外壁沿周向?qū)?yīng)第一延長塊(7.1)的位置處設(shè)有第二延長塊(7.2)，第二延長塊(7.2)上設(shè)有可供限位塊(9)穿過的限位通孔(10)。
【專利摘要】一種用于基板顯影的清洗裝置，它包括本體（1）和用于固定基板且可帶動基板旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)夾具，本體（1）內(nèi)設(shè)有可容置旋轉(zhuǎn)夾具的容腔，所述旋轉(zhuǎn)夾具包括用于容置基板且對基板周向限位的下夾具（2）和用于對基板上限位的上夾具（3），下夾具（2）與上夾具（3）可拆式連接；下夾具（2）上表面邊緣沿周向設(shè)有若干個用于防止基板脫離下夾具（2）的限位凸塊（4），限位凸塊（4）之間有間隙；所述上夾具（3）中部設(shè)有可供清洗液穿過并對基板進行清洗的通孔（5），上夾具（3）下表面設(shè)有用于防止基板從下夾具（2）掉出的限位機構(gòu)。
【IPC分類】H01L21/67, H01L21/687
【公開號】CN205081102
【申請?zhí)枴緾N201520931213
【發(fā)明人】肖會華
【申請人】江西芯創(chuàng)光電有限公司
【公開日】2016年3月9日
【申請日】2015年11月20日