球體成形裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型關(guān)于一種制造設(shè)備，尤指一種球體成形裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]隨著科技的進(jìn)步，集成電路走向高密度、高速度且小體積的趨勢(shì)，隨著芯片集成度的提高，對(duì)于封裝技術(shù)的要求更加嚴(yán)格，球柵數(shù)組封裝(Ball Grid Array)技術(shù)即是這樣的一種應(yīng)用在集成電路上的一種表面黏著封裝技術(shù)，是利用一顆顆小金屬球體，通常是錫球，將各種芯片固著在電路板上。
[0003]由于所制造出的錫球質(zhì)量，例如形狀、大小都會(huì)影響到芯片在1C制程上的良率，對(duì)于技術(shù)人員來(lái)說，在固定面積上布置更多的錫球是錫球制造技術(shù)精進(jìn)的主要課題之一，換言之，錫球的真圓度及尺寸是錫球制造良率的指針參數(shù)，此外，在制造過程中也要兼顧到錫球產(chǎn)出的速度，才能夠兼顧成本效益。
[0004]因此，如何在大量制造錫球的同時(shí)維持錫球的高制造良率，是目前業(yè)界亟待解決的課題。此外，對(duì)于非金屬球體的制造，也面對(duì)同樣的課題。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0005]為解決現(xiàn)有技術(shù)的種種問題，本實(shí)用新型提供一種球體成形裝置，能夠增加金屬球體的制造良率及精度，讓所產(chǎn)出的金屬球體具有小尺寸及高真圓度的特征。
[0006]本實(shí)用新型的球體成形裝置包括:熔爐，具有容置空間及加熱模塊，該加熱模塊用以對(duì)置于該容置空間的物質(zhì)加熱至該物質(zhì)的熔點(diǎn)，該熔爐具有用以排出熔融的該物質(zhì)的開孔；振動(dòng)模塊，具有止擋部，該振動(dòng)模塊用以產(chǎn)生第一振動(dòng)頻率，令該止擋部依據(jù)該第一振動(dòng)頻率往復(fù)移動(dòng)，以封閉或開啟該開孔；偵測(cè)模塊，用以偵測(cè)該物質(zhì)的液面高度，并發(fā)出對(duì)應(yīng)該液面高度的偵測(cè)訊號(hào)；管理模塊，用以接收該偵測(cè)訊號(hào)，并依據(jù)該偵測(cè)訊號(hào)發(fā)出對(duì)應(yīng)的第一控制訊號(hào)至該振動(dòng)模塊，其中，該振動(dòng)模塊接收該第一控制訊號(hào)，并依據(jù)該第一控制訊號(hào)產(chǎn)生第二振動(dòng)頻率，令該止擋部依據(jù)該第二振動(dòng)頻率往復(fù)移動(dòng)，以封閉或開啟該開孔。
[0007]在本實(shí)用新型的一實(shí)施例中，還包括第一填充單元，用以于該镕爐內(nèi)填充第一氣體，該第一氣體用以擠壓熔融的該物質(zhì)往該開孔排出。
[0008]在本實(shí)用新型的一實(shí)施例中，其中，該第一氣體為惰性氣體或氮?dú)狻?br>[0009]在本實(shí)用新型的一實(shí)施例中，其中，該偵測(cè)模塊為用以偵測(cè)該物質(zhì)的液面高度的液位計(jì)或偵測(cè)該第一氣體壓力的氣壓計(jì)。
[0010]在本實(shí)用新型的一實(shí)施例中，還包括靜電單元，具有與該開孔連通的靜電管體。[0011 ] 在本實(shí)用新型的一實(shí)施例中，其中，該靜電管體由鉆石所制成者。
[0012]在本實(shí)用新型的一實(shí)施例中，還包括冷卻模塊，該冷卻模塊包括第一管體及第二管體，該第一管體與該熔爐連接，并具有與該靜電管體連通的第一緩沖空間，該第二管體與該第一管體連通并具有與該第一管體相連通的第二緩沖空間，其中，該第二緩沖空間具有液態(tài)氮。
[0013]在本實(shí)用新型的一實(shí)施例中，還包括第二填充單元，與該第一管體連通，用以于該第一緩沖空間內(nèi)填充第二氣體。
[0014]在本實(shí)用新型的一實(shí)施例中，其中，第二氣體為惰性氣體或氮?dú)狻?br>[0015]在本實(shí)用新型的一實(shí)施例中，還包括控制模塊，其中，該管理模塊，還用以依據(jù)該偵測(cè)訊號(hào)發(fā)出對(duì)應(yīng)的第二控制訊號(hào)，該控制模塊用以依據(jù)該第二控制訊號(hào)控制該第二氣體的壓力。
[0016]相較于現(xiàn)有技術(shù)，本實(shí)用新型的球體成形裝置，當(dāng)熔融金屬由氮?dú)饧訅菏蛊溆伸o電管體的開孔排出時(shí)，經(jīng)由熔融金屬液位的回授控制振動(dòng)模塊的頻率，讓熔融金屬的排出量保持一致，且通過靜電單元對(duì)熔融金屬產(chǎn)生的靜電斥力加上金屬本身的表面張力及重力產(chǎn)生金屬球體后，再利用第一緩沖空間的氮?dú)鈱?duì)金屬球體造成的旋轉(zhuǎn)作用后再加以冷卻，能夠增加金屬球體的制造良率及精度，讓所產(chǎn)出的金屬球體具有小尺寸及高真圓度的特征。
【附圖說明】
[0017]圖1為本實(shí)用新型的球體成形裝置示意圖。
[0018]組件標(biāo)號(hào)說明:
[0019]1 熔爐
[0020]10容置空間
[0021]100球體成形裝置
[0022]11 開孔
[0023]2 振動(dòng)模塊
[0024]21止擋部
[0025]3 偵測(cè)模塊
[0026]4 管理模塊
[0027]5 第一填充單元
[0028]6 靜電單元
[0029]61靜電管體
[0030]7 冷卻模塊
[0031]71第一管體
[0032]711第一緩沖空間
[0033]72第二管體
[0034]721第二緩沖空間
[0035]8 第二填充單元
[0036]9 控制模塊
【具體實(shí)施方式】
[0037]以下藉由特定的具體實(shí)施例說明本實(shí)用新型的實(shí)施方式，熟悉此技藝的人士可由本說明書所揭示的內(nèi)容輕易地了解本實(shí)用新型的其他優(yōu)點(diǎn)及功效。
[0038]須知，本說明書所附圖式所繪示的結(jié)構(gòu)、比例、大小等，均僅用以配合說明書所揭示的內(nèi)容，以供熟悉此技藝的人士的了解與閱讀，并非用以限定本實(shí)用新型可實(shí)施的限定條件，故不具技術(shù)上的實(shí)質(zhì)意義，任何結(jié)構(gòu)的修飾、比例關(guān)系的改變或大小的調(diào)整，在不影響本實(shí)用新型所能產(chǎn)生的功效及所能達(dá)成的目的下，均應(yīng)落在本實(shí)用新型所揭示的技術(shù)內(nèi)容得能涵蓋的范圍內(nèi)。同時(shí)，本說明書中所引用的如「上」、「內(nèi)」、「外」、「底」及「一」等的用語(yǔ)，也僅為便于敘述的明了，而非用以限定本實(shí)用新型可實(shí)施的范圍，其相對(duì)關(guān)系的改變或調(diào)整，在無(wú)實(shí)質(zhì)變更技術(shù)內(nèi)容下，當(dāng)也視為本實(shí)用新型可實(shí)施的范疇，合先敘明。
[0039]請(qǐng)參閱圖1，其為本實(shí)用新型的球體成形裝置的示意圖。如圖所示，本實(shí)用新型提供一種球體成形裝置100，主要包括熔爐1、振動(dòng)模塊2、偵測(cè)模塊3以及管理模塊4，熔爐1具有容置空間10以及加熱模塊(未示出)，容置空間10可供放置固態(tài)金屬或其他非金屬物質(zhì)，本實(shí)施例是以固態(tài)金屬為例予以說明。所述的加熱模塊是一種電熱系統(tǒng)，藉由通電加熱該固態(tài)金屬讓其溫度升高到熔點(diǎn)，該固態(tài)金屬因而變成熔融態(tài)，而熔爐1尚具有開孔11，較佳者為形成于熔爐1的底部，以供形成熔融態(tài)的金屬?gòu)拈_孔11排出，但振動(dòng)模塊2具有對(duì)準(zhǔn)開孔11位置設(shè)置的止擋部21，振動(dòng)模塊2會(huì)產(chǎn)生第一振動(dòng)頻率令止擋部21進(jìn)行上下往復(fù)移動(dòng)，藉以封閉住開孔11或開啟開孔11，讓熔融金屬能夠依據(jù)預(yù)設(shè)的需求定時(shí)或定量的排出。
[0040]接著，偵測(cè)模塊3會(huì)偵測(cè)熔融金屬的液面高度，隨著熔融金屬逐漸排出熔爐1，偵測(cè)模塊3會(huì)發(fā)出偵測(cè)訊號(hào)至管理模塊4，管理模塊4再依據(jù)該偵測(cè)訊號(hào)