用于半導(dǎo)體等離子體設(shè)備中的水平調(diào)整裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種能夠用于半導(dǎo)體等離子體設(shè)備中的水平調(diào)整裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]現(xiàn)有等離子體半導(dǎo)體工藝設(shè)備，通常是使用表面平整的噴淋頭作為上極板和表面平整的加熱盤做為下電極，在上下極板間施加電壓，形成等離子體來(lái)進(jìn)行薄膜沉積。
[0003]在上述工藝過(guò)程中，影響工藝產(chǎn)品質(zhì)量的關(guān)鍵是上下極板間的平行，其直接影響工藝過(guò)程中薄膜的致密性和均勻性。在半導(dǎo)體工藝設(shè)備中，需要定期對(duì)加熱盤、噴淋板、陶瓷環(huán)等硬件進(jìn)行拆卸清洗和更換，每次拆裝都需要重新對(duì)設(shè)備進(jìn)行水平度的調(diào)整。
[0004]目前，傳統(tǒng)的調(diào)節(jié)工藝設(shè)備水平度的方法精度較低，水冷塊和支撐座之間采用碟簧連接會(huì)降低設(shè)備的穩(wěn)定性，導(dǎo)致的均勻性降低問(wèn)題會(huì)越發(fā)顯著。因此，需要設(shè)計(jì)一種新型的水平調(diào)整裝置，提高工藝產(chǎn)品的均勻性，以適應(yīng)技術(shù)不斷提高的需要。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0005]針對(duì)上述現(xiàn)有技術(shù)的不足，本實(shí)用新型提供了用于半導(dǎo)體等離子體設(shè)備中的水平調(diào)整裝置。
[0006]為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案是:用于半導(dǎo)體等離子體設(shè)備中的水平調(diào)整裝置，包括三角水冷塊和三角支撐座，兩者大小和形狀相同，并通過(guò)鎖緊螺母和調(diào)整螺栓連接。所述的鎖緊螺母和調(diào)整螺栓與三角水冷塊和三角支撐座接觸的面為球面。
[0007]優(yōu)選的，所述的鎖緊螺母和調(diào)整螺栓固定在三角水冷塊三個(gè)頂點(diǎn)處。
[0008]優(yōu)選的，所述三角支撐座通過(guò)內(nèi)壁螺紋與調(diào)整螺栓連接。
[0009]優(yōu)選的，所述調(diào)整螺栓的螺紋調(diào)整精度為0.5_。
[0010]本實(shí)用新型利用調(diào)整螺栓帶動(dòng)上方水冷塊，進(jìn)而使加熱盤的水平度發(fā)生改變，避免了調(diào)平誤差，鎖緊螺母與調(diào)整螺栓和支撐座、水冷塊的接觸面為球面，增大了接觸面積，使設(shè)備更加穩(wěn)定，提高了工藝質(zhì)量和產(chǎn)能。
【附圖說(shuō)明】
[0011]圖1是本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0012]圖2是鎖緊螺母和調(diào)整螺栓的結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0013]下面將結(jié)合本實(shí)用新型實(shí)施例中的附圖，對(duì)本實(shí)用新型實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清晰、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本實(shí)用新型一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒緦?shí)用新型中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒(méi)有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本實(shí)用新型保護(hù)的范圍。
[0014]如圖1所示:用于半導(dǎo)體等離子體設(shè)備中的水平調(diào)整裝置，包括三角水冷塊2和三角支撐座3，兩者大小和形狀相同，并通過(guò)鎖緊螺母1和調(diào)整螺栓4連接。三角水冷塊與加熱盤固定連接。所述的鎖緊螺1母和調(diào)整螺栓4與三角水冷塊和三角支撐座接觸的面為球面5，使接觸面時(shí)刻為點(diǎn)接觸，能提高設(shè)備的穩(wěn)定性，并且避免調(diào)平誤差，節(jié)約調(diào)平時(shí)間，從而提高了工藝質(zhì)量和產(chǎn)能。三角水冷塊與調(diào)整螺栓之間留有一定縫隙。鎖緊螺母1和調(diào)整螺栓4固定在三角水冷塊2三個(gè)頂點(diǎn)處，使三角水冷塊2和三角支撐座3長(zhǎng)期保持穩(wěn)定。水平調(diào)整裝置固定于反應(yīng)腔體下方滑臺(tái)上，通過(guò)三點(diǎn)進(jìn)行調(diào)節(jié)，可調(diào)整三點(diǎn)不在一條直線上。
[0015]三角支撐座在三個(gè)方向設(shè)有通孔，3個(gè)通孔的位置不在同一條直線上，通孔內(nèi)壁設(shè)有螺紋，調(diào)整螺栓下端可旋入支撐座通孔內(nèi)，與通孔內(nèi)壁螺紋配合。調(diào)整螺栓的下端突出部分為六角形螺栓，通過(guò)旋轉(zhuǎn)六角形螺栓，使螺栓可沿軸向升降。與三角支撐座同樣的三角水冷塊在三個(gè)方向上設(shè)有通孔，與三個(gè)調(diào)整螺栓上端以間隙形式配合，使調(diào)整螺栓直接穿過(guò)通孔，上端以鎖緊螺母鎖緊。
[0016]本實(shí)用新型的水平調(diào)節(jié)裝置在使用時(shí)，可通過(guò)調(diào)節(jié)調(diào)整螺栓下端的六角形部分，使某一方向上的調(diào)整螺栓和支撐座產(chǎn)生相對(duì)位移，調(diào)整螺栓帶動(dòng)上方水冷塊發(fā)生位移，進(jìn)而起到調(diào)節(jié)與水冷塊相接的加熱盤的水平度。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.用于半導(dǎo)體等離子體設(shè)備中的水平調(diào)整裝置，其特征在于:包括三角水冷塊和三角支撐座，兩者大小和形狀相同，并通過(guò)鎖緊螺母和調(diào)整螺栓連接，所述的鎖緊螺母和調(diào)整螺栓與三角水冷塊和三角支撐座接觸的面為球面。2.如權(quán)利要求1所述的用于半導(dǎo)體等離子體設(shè)備中的水平調(diào)整裝置，其特征在于:所述的鎖緊螺母和調(diào)整螺栓固定在三角水冷塊三個(gè)頂點(diǎn)處。3.用于半導(dǎo)體等離子體設(shè)備中的水平調(diào)整裝置，其特征在于:所述三角支撐座通過(guò)內(nèi)壁螺紋與調(diào)整螺栓連接。4.用于半導(dǎo)體等離子體設(shè)備中的水平調(diào)整裝置，其特征在于:所述調(diào)整螺栓的螺紋調(diào)整精度為0.5mm。
【專利摘要】用于半導(dǎo)體等離子體設(shè)備中的水平調(diào)整裝置，包括三角水冷塊和三角支撐座，兩者大小和形狀相同，并通過(guò)鎖緊螺母和調(diào)整螺栓連接。所述的鎖緊螺母和調(diào)整螺栓與三角水冷塊和三角支撐座接觸的面為球面。本實(shí)用新型利用調(diào)整螺栓帶動(dòng)上方水冷塊，進(jìn)而使加熱盤的水平度發(fā)生改變，避免了調(diào)平誤差，鎖緊螺母與調(diào)整螺栓和支撐座、水冷塊的接觸面為球面，增大了接觸面積，使設(shè)備更加穩(wěn)定，提高了工藝質(zhì)量和產(chǎn)能。
【IPC分類】H01J37/20
【公開(kāi)號(hào)】CN205081088
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201520805580
【發(fā)明人】王燚, 范川, 周仁, 劉憶軍, 吳夢(mèng)瑤
【申請(qǐng)人】沈陽(yáng)拓荊科技有限公司
【公開(kāi)日】2016年3月9日
【申請(qǐng)日】2015年10月16日