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一種基于聚焦離子束誘導(dǎo)的有序砷化鎵量子點的制備方法與流程

文檔序號:11100531閱讀:1032來源:國知局
一種基于聚焦離子束誘導(dǎo)的有序砷化鎵量子點的制備方法與制造工藝

本發(fā)明涉及半導(dǎo)體材料制備技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種基于聚焦離子束誘導(dǎo)的有序砷化鎵量子點的制備方法。



背景技術(shù):

近年來,量子點在納米科學(xué)技術(shù)領(lǐng)域扮演著越來越重要的角色。由于量子點明顯的量子限制效應(yīng)和小尺寸效應(yīng)帶來的獨特的電子和光電子性質(zhì),引起了科研工作者廣泛的興趣。

由于發(fā)射光譜窄、發(fā)射波長可調(diào)和化學(xué)穩(wěn)定性能好等優(yōu)異的光學(xué)、電學(xué)性能,量子點在納米半導(dǎo)體器件制造中有廣泛的應(yīng)用,如量子點激光器、量子點光電探測器、量子點太陽能電池、量子點發(fā)光二極管和量子點異質(zhì)結(jié)場效應(yīng)晶體管等。量子點結(jié)構(gòu)的器件往往要求制備的量子點有序統(tǒng)一的結(jié)構(gòu)排布。但是如何獲得高質(zhì)量的有序量子點結(jié)構(gòu)從始至終都是研究者們研究的難題。

一般來講,量子點的制備方法可以分為兩種:

一種是自上而下的制備方法,利用先進的薄膜生長技術(shù)結(jié)合超微細加工工藝來制備量子點,比如光刻和刻蝕技術(shù)。由于生長和加工設(shè)備的限制,這種方法難以制備出尺寸極小而且形貌可控的高質(zhì)量量子點,同時獲得的量子點側(cè)壁分辨率低、易損傷等缺點。

另一種方法是自下而上的自組裝方法,主要包括分子束外延和金屬有機氣相沉積法等方法。相比于自上而下的方式,外延生長制備量子點更加快捷,同時材料質(zhì)量更好。

純粹利用外延生長技術(shù)制備量子點,形成的量子點結(jié)構(gòu)必然是隨機分布的?;诖?,我們提出一種基于聚焦離子束誘導(dǎo)的有序砷化鎵量子點的制備方法,該方法結(jié)合FIB技術(shù)和外延生長技術(shù),為有序量子點的制備提供了一種可行的方案。



技術(shù)實現(xiàn)要素:

本發(fā)明的目的在于,提供一種基于聚焦離子束誘導(dǎo)的有序砷化鎵量子點的制備方法,該方法通過FIB生長有序Ga液滴,并以此作為加工模板,利用分子束外延生長實現(xiàn)有序GaAs量子點的制備。

本發(fā)明的技術(shù)方案如下:

一種基于聚焦離子束誘導(dǎo)的有序砷化鎵量子點的制備方法,包括如下步驟:

步驟一:提供GaAs襯底材料,對所述GaAs襯底材料進行表面清潔;

步驟二:利用聚焦離子束(FIB)轟擊GaAs襯底,通過改變離子束照射參數(shù),誘導(dǎo)有序Ga金屬納米液滴形成;

步驟三:把GaAs襯底放入分子束外延(MBE)系統(tǒng)中,打開As4源,形成有序GaAs量子點。

對GaAs襯底的表面進行清洗。

所述聚焦離子束的照射角度范圍為37°—60°。

所述聚焦離子束的加速電壓范圍為5keV—15keV。

所述聚焦離子束的束流范圍為0.06nA—5nA。

當GaAs襯底放入分子束外延系統(tǒng)進行分子束外延時,生長溫度范圍控制在100℃—580℃。

本發(fā)明的有益效果如下:

本發(fā)明通過聚焦離子束(FIB)生長有序Ga液滴,并以此作為加工模板,利用分子束外延生長實現(xiàn)有序GaAs量子點的制備。

附圖說明

圖1為使用本方法制備有序砷化鎵量子點的示意圖;

其中,附圖標記為:110-襯底,210-有序Ga金屬納米液滴,310-有序GaAs量子點。

具體實施方式

如圖1 所示,本發(fā)明涉及一種基于聚焦離子束誘導(dǎo)的有序砷化鎵量子點的制備方法,包括如下步驟:

步驟一:選擇一襯底110,該襯底為半絕緣GaAs單晶片,晶向為(100),厚度為325um; 對GaAs基片進行RCA清洗。

步驟二:利用聚焦離子束(FIB)轟擊襯底110,通過改變離子束照射參數(shù),誘導(dǎo)有序Ga金屬納米液滴210形成。有序Ga金屬納米液滴210的形成可以理解為:高能Ga+濺射到GaAs表面,當能量到達一定值,會破壞Ga-As化學(xué)鍵,襯底上大量液滴鎵聚集成核形成鎵液滴。其中,F(xiàn)IB的入射角為55°,加速電壓為10keV,離子束電流為0.93nA,轟擊時間為5min。

步驟三:把GaAs襯底放入分子束外延(MBE)系統(tǒng)中,打開As4源,形成有序GaAs量子點310。其中,分子束外延生長速率為1ML/s,溫度為500℃,真空度為10-8Torr。

以上所述,僅為本發(fā)明中具體實施方式,但本發(fā)明的保護范圍并不局限于此,任何熟悉該技術(shù)的人在本發(fā)明所揭露的技術(shù)范圍,可輕易想到的變化或者替換,都應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的保護范圍之中。因此,本發(fā)明的保護范圍應(yīng)該以權(quán)利要求書的保護范圍為準。

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