一種有機(jī)電致發(fā)光器件及其制備方法
【專(zhuān)利摘要】本發(fā)明提供了一種有機(jī)電致發(fā)光器件，包括依次層疊的陽(yáng)極導(dǎo)電基板、功能層、發(fā)光層、陰極層和封裝層，陽(yáng)極導(dǎo)電基板和封裝層形成封閉空間，功能層、發(fā)光層和陰極層容置在該封閉空間內(nèi)，封裝層依次包括保護(hù)層、阻擋層和聚對(duì)苯二甲酸乙二酯膜，所述阻擋層為多層層疊結(jié)構(gòu)，阻擋層的材質(zhì)為有機(jī)阻擋材料和無(wú)機(jī)阻擋材料形成的混合材料。本發(fā)明還提供了該有機(jī)電致發(fā)光器件的制備方法，該方法可有效地減少水汽、氧對(duì)有機(jī)電致發(fā)光器件的侵蝕，從而對(duì)器件有機(jī)功能材料及電極形成有效的保護(hù)，提高器件的透光率，可顯著地提高有機(jī)電致發(fā)光器件的壽命。本發(fā)明方法尤其適用于封裝柔性有機(jī)電致發(fā)光器件。
【專(zhuān)利說(shuō)明】一種有機(jī)電致發(fā)光器件及其制備方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及電子器件相關(guān)領(lǐng)域，尤其涉及一種有機(jī)電致發(fā)光器件及其制備方法?！颈尘凹夹g(shù)】
[0002]有機(jī)電致發(fā)光器件(OLED)是基于有機(jī)材料的一種電流型半導(dǎo)體發(fā)光器件。其典型結(jié)構(gòu)是在ITO玻璃上制備幾十納米厚的有機(jī)發(fā)光材料作發(fā)光層，發(fā)光層上方有低功函數(shù)的金屬電極。當(dāng)電極上加有電壓時(shí)，發(fā)光層就產(chǎn)生光福射。
[0003]OLED器件具有主動(dòng)發(fā)光、發(fā)光效率高、功耗低、輕、薄、無(wú)視角限制等優(yōu)點(diǎn)，被業(yè)內(nèi)人士認(rèn)為是最有可能在未來(lái)的照明和顯示器件市場(chǎng)上占據(jù)霸主地位的新一代器件。作為一項(xiàng)嶄新的照明和顯示技術(shù)，OLED技術(shù)在過(guò)去的十多年里發(fā)展迅猛，取得了巨大的成就。由于全球越來(lái)越多的照明和顯示廠家紛紛投入研發(fā)，大大的推動(dòng)了 OLED的產(chǎn)業(yè)化進(jìn)程，使得OLED產(chǎn)業(yè)的成長(zhǎng)速度驚人，目前已經(jīng)到達(dá)了大規(guī)模量產(chǎn)的前夜。
[0004]柔性產(chǎn)品是有機(jī)電致發(fā)光器件的發(fā)展趨勢(shì)，但目前普遍存在壽命短，因此封裝的好壞直接影響器件的壽命。傳統(tǒng)技術(shù)中采用玻璃蓋或金屬蓋進(jìn)行封裝，其邊沿用紫外聚合樹(shù)脂密封，但這種方法中使用的玻璃蓋或金屬蓋體積往往較大，增加了器件的重量，并且該方法不能應(yīng)用于柔性有機(jī)電致放光器件的封裝。以及，現(xiàn)有的有機(jī)電致發(fā)光器件通常不能提供良好的透光率。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]為克服上述現(xiàn)有技術(shù)的缺陷，本發(fā)明提供了一種有機(jī)電致發(fā)光器件及其制備方法。該有機(jī)電致發(fā)光器件可有效地減少水汽、氧對(duì)有機(jī)電致發(fā)光器件的侵蝕，保護(hù)有機(jī)電致發(fā)光器件的有機(jī)功能材料和電極免遭破壞，且提高器件的透光率，對(duì)OLED器件的壽命有顯著的提高。本發(fā)明方法適用于封裝以導(dǎo)電玻璃基板制備的有機(jī)電致發(fā)光器件，也適用于封裝以塑料或金屬為基底制備的柔性有機(jī)電致發(fā)光器件。本發(fā)明方法尤其適用于封裝柔性有機(jī)電致發(fā)光器件。
[0006]—方面,本發(fā)明提供了 一種有機(jī)電致發(fā)光器件，包括陽(yáng)極導(dǎo)電基板、功能層、發(fā)光層、陰極層和封裝層，陽(yáng)極導(dǎo)電基板和封裝層形成封閉空間，功能層、發(fā)光層和陰極層容置在該封閉空間內(nèi)，其特征在于，所述封裝層依次包括保護(hù)層、阻擋層和聚對(duì)苯二甲酸乙二酯(PET)膜，所述阻擋層為多層層疊結(jié)構(gòu)，所述阻擋層的材質(zhì)為有機(jī)阻擋材料和無(wú)機(jī)阻擋材料形成的混合材料，其中，有機(jī)阻擋材料為聚四氟乙烯、甲基丙烯酸樹(shù)脂或甲基環(huán)戊烯醇酮，無(wú)機(jī)阻擋材料為二氧化鈦(TiO2)、二氧化鋯(ZrO2)或二氧化鉿(HfO2)，所述無(wú)機(jī)阻擋材料在阻擋層中的質(zhì)量分?jǐn)?shù)為15?30%。
[0007]阻擋層為多層層疊結(jié)構(gòu)，可以延長(zhǎng)水、氧滲透路徑，有效減少外部水、氧等活性物質(zhì)對(duì)有機(jī)電致發(fā)光器件的侵蝕，達(dá)到良好的封裝效果。
[0008]優(yōu)選地，所述阻擋層為4?6層的層疊結(jié)構(gòu)。
[0009]阻擋層的材質(zhì)為有機(jī)阻擋材料和無(wú)機(jī)阻擋材料形成的混合材料。[0010]有機(jī)阻擋材料和無(wú)機(jī)阻擋材料混合形成阻擋層材質(zhì)，可以提高有機(jī)電致發(fā)光器件光的透光率，降低封裝對(duì)光效的影響，提高能源效率，使封裝層具有質(zhì)量輕、阻隔水、氧能力強(qiáng)的優(yōu)點(diǎn)。
[0011 ] 優(yōu)選地，無(wú)機(jī)阻擋材料粉末直徑20~40nm。 [0012]通過(guò)真空蒸鍍的方式在陰極層上制備保護(hù)層，保護(hù)層的存在可以保護(hù)陰極在后續(xù)操作過(guò)程中免遭破壞。
[0013]保護(hù)層材料選自有機(jī)小分子材料、無(wú)機(jī)材料或金屬材料中的一種，優(yōu)選自酞菁銅(CuPc),N, Nj - (1-萘基)-N，N’ - 二苯基 _4，4’ -聯(lián)苯二胺(NPB)、八羥基喹啉鋁(Alq3)、氧化硅(SiO)、氟化鎂(MgF2)或硫化鋅(ZnS)。優(yōu)選地，保護(hù)層的厚度為200nm~300nm。
[0014]在帶有阻擋層的PET膜邊緣涂布封裝膠，用UV光進(jìn)行固化，將所述的有機(jī)電致發(fā)光器件封裝在所述PET膜及陽(yáng)極導(dǎo)電基板內(nèi)。
[0015]優(yōu)選地，陽(yáng)極導(dǎo)電基板為導(dǎo)電玻璃基板或?qū)щ娪袡C(jī)薄膜基板。
[0016]功能層通常包括空穴注入層、空穴傳輸層、電子傳輸層和電子注入層。發(fā)光層設(shè)置于空穴傳輸層和電子傳輸層之間。優(yōu)選地，功能層和發(fā)光層為通過(guò)真空蒸鍍的方法設(shè)置。
[0017]優(yōu)選地，陰極層為透明陰極層。
[0018]更優(yōu)選地，陰極層為ZnS/Ag/ZnS。
[0019]另一方面，本發(fā)明提供了一種有機(jī)電致發(fā)光器件的制備方法，包括以下步驟:
[0020](I)在潔凈的導(dǎo)電玻璃基板或?qū)щ娪袡C(jī)薄膜基板上制備有機(jī)電致發(fā)光器件的陽(yáng)極圖形；采用真空蒸鍍的方法在基板上依次制備功能層、發(fā)光層和陰極層；
[0021](2)采用真空蒸鍍的方式在陰極層上制備保護(hù)層；
[0022](3)采用先旋涂后曝光的方式在PET膜上制備阻擋層，所述阻擋層的材質(zhì)為有機(jī)阻擋材料和無(wú)機(jī)阻擋材料形成的混合材料，其中，有機(jī)阻擋材料為聚四氟乙烯、甲基丙烯酸樹(shù)脂或甲基環(huán)戊烯醇酮，無(wú)機(jī)阻擋材料為T(mén)i02、Zr02或!1?)2，無(wú)機(jī)阻擋材料在阻擋層中的質(zhì)量分?jǐn)?shù)為15~30% ；
[0023](4)重復(fù)步驟(3)，得到具有多層層疊結(jié)構(gòu)的阻擋層。
[0024](5)在帶有阻擋層的PET膜邊緣涂布封裝膠，用UV光進(jìn)行固化，將所述有機(jī)電致發(fā)光器件封裝在所述PET膜和陽(yáng)極導(dǎo)電基板內(nèi)。
[0025]步驟(3)采用先旋涂后曝光的方式在PET膜上制備阻擋層，阻擋層的材質(zhì)為有機(jī)阻擋材料和無(wú)機(jī)阻擋材料形成的混合材料。
[0026]有機(jī)阻擋材料和無(wú)機(jī)阻擋材料混合形成阻擋層材質(zhì)，一方面可以提高有機(jī)電致發(fā)光器件光的透光率，降低封裝對(duì)光效的影響，提高能源效率；另一方面，有機(jī)阻擋材料和無(wú)機(jī)阻擋材料形成的混合膜層彌補(bǔ)了單一無(wú)機(jī)物層和單一有機(jī)物層的缺點(diǎn)，使封裝層具有質(zhì)量輕、阻隔水、氧能力強(qiáng)的優(yōu)點(diǎn)。
[0027]優(yōu)選地,步驟(3)在惰性氛圍下,進(jìn)行旋涂和曝光,涂膠厚度I~1.5 μ m,然后用UV光進(jìn)行固化，光強(qiáng)10~15mW/cm2,曝光時(shí)間300~400s。
[0028]有機(jī)阻擋材料為聚四氟乙烯、甲基丙烯酸樹(shù)脂或甲基環(huán)戊烯醇酮，無(wú)機(jī)阻擋材料為 Ti02、ZrO2 或 HfO2。
[0029]優(yōu)選地，無(wú)機(jī)阻擋材料粉末直徑20~40nm。
[0030]阻擋層為多層層疊結(jié)構(gòu)，可以延長(zhǎng)水、氧滲透路徑，有效減少外部水、氧等活性物質(zhì)對(duì)有機(jī)電致發(fā)光器件的侵蝕，達(dá)到良好的封裝效果。
[0031]優(yōu)選地，所述阻擋層為4~6層的層疊結(jié)構(gòu)。
[0032]步驟(2)為通過(guò)真空蒸鍍的方式在陰極層上制備保護(hù)層，保護(hù)層的存在可以保護(hù)功能層和金屬陰極在后續(xù)操作過(guò)程中免遭破壞。
[0033]保護(hù)層材料選自有機(jī)小分子材料、無(wú)機(jī)材料或金屬材料中的一種，優(yōu)選自CuPc、NPB、Alq3、SiO、MgF2或ZnS。優(yōu)選地，保護(hù)層的厚度為200nm~300nm。
[0034]優(yōu)選地，步驟(2)真空蒸鍍過(guò)程的真空度lX10_5Pa~lX10_3Pa，蒸發(fā)速度
0.5A ~ 5 A /s?
[0035]優(yōu)選地，陽(yáng)極導(dǎo)電基板為導(dǎo)電玻璃基板或?qū)щ娪袡C(jī)薄膜基板。
[0036]采用真空蒸鍍的方法在陽(yáng)極導(dǎo)電基板上制備功能層、發(fā)光層和陰極層。
[0037]功能層通常包括空穴注入層、空穴傳輸層、電子傳輸層和電子注入層。發(fā)光層設(shè)置于空穴傳輸層和電子傳輸層之間。
[0038]采用蒸鍍方式制備陰極層。
[0039]優(yōu)選地，陰極層為透明陰極層。
`[0040]更優(yōu)選地，陰極層為ZnS/Ag/ZnS。
[0041]步驟(5)為在帶有阻擋層的PET膜邊緣涂布封裝膠，用UV光進(jìn)行固化，將所述有機(jī)電致發(fā)光器件封裝在所述PET膜和導(dǎo)電基板內(nèi)。
[0042]優(yōu)選地，UV光的光強(qiáng)15~25mW/cm2，曝光時(shí)間300~400s。
[0043]本發(fā)明提供了一種有機(jī)電致發(fā)光器件及其制備方法具有以下有益效果:
[0044](I)本發(fā)明有機(jī)電致發(fā)光器件可以有效地減少外部水、氧等活性物質(zhì)對(duì)有機(jī)電致發(fā)光器件的侵蝕，從而對(duì)器件有機(jī)功能材料及電極形成有效的保護(hù)，提高器件透光率，可顯著地提高有機(jī)電致發(fā)光器件的壽命；
[0045](2)本發(fā)明有機(jī)電致發(fā)光器件封裝層的透光率達(dá)69%以上，防水性能(WVTR)達(dá)到
3.lXl(T4g/m2.day，壽命達(dá) 4，600 小時(shí)以上(T70@1000cd/m2)；
[0046](3)本發(fā)明方法適用于封裝以導(dǎo)電玻璃為陽(yáng)極基板制備的有機(jī)電致發(fā)光器件，也適用于封裝以塑料或金屬為陽(yáng)極基底制備的柔性有機(jī)電致發(fā)光器件。本發(fā)明方法尤其適用于封裝柔性有機(jī)電致發(fā)光器件；
[0047](4)本發(fā)明有機(jī)電致發(fā)光器件材料廉價(jià)，封裝方法操作簡(jiǎn)單，易大面積制備，適于工業(yè)化大規(guī)模使用。
【專(zhuān)利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0048]圖1是本發(fā)明有機(jī)電致發(fā)光器件的結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0049]以下所述是本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式。應(yīng)當(dāng)指出，對(duì)于本【技術(shù)領(lǐng)域】的普通技術(shù)人員來(lái)說(shuō)，在不脫離本發(fā)明原理的前提下，還可以做出若干改進(jìn)和調(diào)整，這些改進(jìn)和調(diào)整也視為在本發(fā)明的保護(hù)范圍內(nèi)。
[0050]實(shí)施例1:
[0051]一種有機(jī)電致發(fā)光器件的制備方法，包括以下步驟:[0052](I) ITO玻璃基板I前處理:丙酮清洗一乙醇清洗一去離子水清洗一乙醇清洗，均用超聲波清洗機(jī)進(jìn)行清洗，單項(xiàng)洗滌清洗5分鐘，然后用氮?dú)獯蹈?，烘箱烤干待用；?duì)洗凈后的ITO玻璃基板I進(jìn)行表面活化處理，以增加導(dǎo)電表面層的含氧量，提高導(dǎo)電層表面的功函數(shù)；ΙΤ0厚度為IOOnm ；
[0053](2)功能層及發(fā)光層的制備:空穴注入層2:在ITO玻璃基板I上蒸鍍MoO3摻雜NPB得到的混合材料，MoO3的摻雜質(zhì)量分?jǐn)?shù)為30%，蒸鍍均采用高真空鍍膜設(shè)備進(jìn)行，蒸鍍時(shí)真空度為1\10_^，蒸發(fā)速度為0.〗人/85得到空穴注入層2，厚度為IOnm;
[0054]空穴傳輸層3:采用4，4’，4"-三(咔唑_9_基)三苯胺(TCTA)作為空穴傳輸材料，在空穴注入層2上蒸鍍TCTA，蒸鍍真空度IX 10_5Pa，蒸發(fā)速度--Α/sJI發(fā)厚度30nm ； [0055]發(fā)光層4:在空穴傳輸層3上蒸鍍發(fā)光層4,發(fā)光層4主體材料米用1，3，5_三(1-苯基-1H-苯并咪唑-2-基)苯(TPBI)，客體材料采用三(2-苯基吡啶)合銥(Ir(ppy)3)，客體材料質(zhì)量占主體材料的5%，蒸鍍真空度I X 10?,蒸發(fā)速度i).2A/s，蒸發(fā)厚度20nm ；
[0056]電子傳輸層5的制備:在發(fā)光層4上蒸鍍4，7- 二苯基-1，10-菲羅啉(Bphen)作為電子傳輸材料，蒸鍍真空度1\10々8，蒸發(fā)速度0.1人/5，蒸發(fā)厚度IOnm ；
[0057]電子注入層6的制備:在電子傳輸層5上蒸鍍電子注入材料形成電子注入層6，電子注入層6材質(zhì)為CsN3摻雜Bphen，摻雜質(zhì)量分?jǐn)?shù)30%，蒸鍍真空度I X 10_5Pa，蒸發(fā)速度
0.2A/S，蒸發(fā)厚度20nm ；
[0058](3)陰極層7的制備:在電子注入層6上依次蒸鍍ZnS、Ag和ZnS形成陰極層ZnS/Ag/ZnS，ZnS厚度30nm, Ag厚度IOnm,蒸鍍真空度I X 10_5Pa，蒸發(fā)速度lA/s。
[0059](4)保護(hù)層81的制備:采用真空蒸鍍的方式在陰極層7上蒸鍍CuPc，真空度I X IO-5Pa,蒸發(fā)速度.0.5A/S，厚度 200nm ；
[0060](5)阻擋層87的制備:在PET膜88上制備，阻擋層87的材質(zhì)為有機(jī)阻擋材料和無(wú)機(jī)阻擋材料形成的混合材料，有機(jī)阻擋材料為聚四氟乙烯，無(wú)機(jī)阻擋材料為T(mén)iO2,無(wú)機(jī)阻擋材料粉末直徑30nm，混合膜層中，無(wú)機(jī)阻擋材料占混合膜層的質(zhì)量分?jǐn)?shù)為22%。采用先旋涂后曝光的方式制備，在惰性氛圍下制備，涂膠厚度1.5 μ m,然后用UV光(λ =365nm)進(jìn)行固化，光強(qiáng)15mW/cm2,曝光時(shí)間400s ；
[0061](6)阻擋層86、85、84、83和82的制備:在步驟(5)后采用和步驟(5)相同的方法和材質(zhì)在阻擋層87上制備阻擋層86，再在阻擋層86上采用和步驟(5)相同的方法和材質(zhì)制備阻擋層85，在阻擋層85上采用和步驟(5)相同的方法和材質(zhì)制備阻擋層84，在阻擋層84上采用和步驟(5)相同的方法和材質(zhì)制備阻擋層83，在阻擋層83上采用和步驟(5)相同的方法和材質(zhì)制備阻擋層82 ；
[0062](7)PET膜88的覆蓋:在帶有阻擋層的PET膜邊緣涂布封裝膠，用UV光(λ =365nm)進(jìn)行固化，光強(qiáng)20mW/cm2，曝光時(shí)間350s ;將所述的有機(jī)電致發(fā)光器件封裝在所述PET膜88及陽(yáng)極導(dǎo)電基板I內(nèi)。
[0063]本實(shí)施例有機(jī)電致發(fā)光器件的水氧滲透率(WVTR，g/m2 -day)為3.1X10_4，有機(jī)電致發(fā)光器件的壽命為5，398h (T70@1000cd/m2)，透光率為71.5%。
[0064]圖1是本發(fā)明實(shí)施例1制得的有機(jī)電致發(fā)光器件的結(jié)構(gòu)示意圖。如圖1所示，本實(shí)施例有機(jī)電致發(fā)光器件，依次包括ITO玻璃基板1、空穴注入層2、空穴傳輸層3、發(fā)光層
4、電子傳輸層5、電子注入層6、陰極層7和封裝層8，封裝層8依次包括保護(hù)層81，6層阻擋層82、83、84、85、86和87，以及PET膜88。ITO玻璃基板I和PET膜88通過(guò)封裝膠密封形成封閉空間，空穴注入層2,空穴傳輸層3,發(fā)光層4,電子傳輸層5,電子注入層6,陰極層7,保護(hù)層81和阻擋層82、83、84、85、86和87容置在該封閉空間內(nèi)。
[0065]實(shí)施例2:
[0066]一種有機(jī)電致發(fā)光器件的制備方法，包括以下步驟:
[0067](1)、(2)、(3)同實(shí)施例1 ;
[0068](4)保護(hù)層的制備:采用真空蒸鍍的方式在陰極層上蒸鍍NPB，真空度5X10_5Pa，蒸發(fā)速度.5 A/S，厚度300nm ；
[0069](5)阻擋層的制備:在PET膜上制備，阻擋層的材質(zhì)為有機(jī)阻擋材料和無(wú)機(jī)阻擋材料形成的混合材料，有機(jī)阻擋材料為甲基環(huán)戊烯醇酮，無(wú)機(jī)阻擋材料為ZrO2,無(wú)機(jī)阻擋材料粉末直徑20nm，混合膜層中，無(wú)機(jī)阻擋材料占混合膜層的質(zhì)量分?jǐn)?shù)為30%。采用先旋涂后曝光的方式制備，在惰性氛圍下制備，涂膠厚度1.2 μ m，然后用UV光(λ =365nm)進(jìn)行固化，光強(qiáng)12mW/cm2,曝光時(shí)間350s ；
[0070](6)在步驟(5)制備的阻擋層上采用和步驟(5)相同的方法和材質(zhì)重復(fù)制備阻擋層4次；
[0071](7) PET膜的覆蓋:在帶有阻擋層的PET膜邊緣涂布封裝膠，用UV光(λ=365ηπι)進(jìn)行固化，光強(qiáng)25mW/cm2，曝光時(shí)間400s ;將所述的有機(jī)電致發(fā)光器件封裝在所述PET膜及陽(yáng)極導(dǎo)電基板內(nèi)。
[0072]本實(shí)施例有機(jī)電致發(fā)光器件的水氧滲透率(WVTR，g/m2 -day)為4.3X 10_4，有機(jī)電致發(fā)光器件的壽命為5，265h (T70@1000cd/m2)，透光率為72.3%。
[0073]實(shí)施例3:
[0074]一種有機(jī)電致發(fā)光器件的制備方法，包括以下步驟:
[0075](I)、(2)、(3)同實(shí)施例1 ;
[0076](4)保護(hù)層的制備:采用真空蒸鍍的方式在陰極層上蒸鍍Alq3，真空度5X10_5Pa，蒸發(fā)速度2A /s,厚度250nm ；
[0077](5)阻擋層的制備:在PET膜上制備，阻擋層的材質(zhì)為有機(jī)阻擋材料和無(wú)機(jī)阻擋材料形成的混合材料，有機(jī)阻擋材料為甲基丙烯酸樹(shù)脂，無(wú)機(jī)阻擋材料為HfO2,無(wú)機(jī)阻擋材料粉末直徑40nm，混合膜層中，無(wú)機(jī)阻擋材料占混合膜層的質(zhì)量分?jǐn)?shù)為15%。采用先旋涂后曝光的方式制備，在惰性氛圍下制備，涂膠厚度I μ m,然后用UV光(λ =365nm)進(jìn)行固化,光強(qiáng)10mW/cm2,曝光時(shí)間300s ；
[0078](6)在步驟(5)制備的阻擋層上采用和步驟(5)相同的方法和材質(zhì)重復(fù)制備阻擋層3次；
[0079](7) PET膜的覆蓋:在帶有阻擋層的PET膜邊緣涂布封裝膠，用UV光(λ=365ηπι)進(jìn)行固化，光強(qiáng)15mW/cm2，曝光時(shí)間300s ;將所述的有機(jī)電致發(fā)光器件封裝在所述PET膜及陽(yáng)極導(dǎo)電基板內(nèi)。
[0080]本實(shí)施例有機(jī)電致發(fā)光器件的水氧滲透率(WVTR，g/m2 -day)為5.2X 10_4，有機(jī)電致發(fā)光器件的壽命為5，187h (T70@1000cd/m2)，透光率為73.2%。
[0081]實(shí)施例4:
[0082]一種有機(jī)電致發(fā)光器件的制備方法，包括以下步驟:[0083](1)、(2)、(3)同實(shí)施例1 ;
[0084](4)保護(hù)層的制備:采用真空蒸鍍的方式在陰極層上蒸鍍SiO，真空度lX10_5Pa，蒸發(fā)速度0.5A/s，厚度200nm ；
[0085](5)阻擋層的制備:在PET膜上制備，阻擋層的材質(zhì)為有機(jī)阻擋材料和無(wú)機(jī)阻擋材料形成的混合材料，有機(jī)阻擋材料為聚四氟乙烯，無(wú)機(jī)阻擋材料為T(mén)iO2，無(wú)機(jī)阻擋材料粉末直徑30nm，混合膜層中，無(wú)機(jī)阻擋材料占混合膜層的質(zhì)量分?jǐn)?shù)為20%。采用先旋涂后曝光的方式制備，在惰性氛圍下制備，涂膠厚度1.5 μ m,然后用UV光(λ =365nm)進(jìn)行固化,光強(qiáng)15mW/cm2,曝光時(shí)間 400s ；
[0086](6)在步驟(5)制備的阻擋層上采用和步驟(5)相同的方法和材質(zhì)重復(fù)制備阻擋層3次；
[0087](7) PET膜的覆蓋:在帶有阻擋層的PET膜邊緣涂布封裝膠，用UV光(λ=365ηπι)進(jìn)行固化，光強(qiáng)20mW/cm2，曝光時(shí)間350s ;將所述的有機(jī)電致發(fā)光器件封裝在所述PET膜及陽(yáng)極導(dǎo)電基板內(nèi)。
[0088]本實(shí)施例有機(jī)電致發(fā)光器件的水氧滲透率(WVTR，g/m2 -day)為6.0X 10_4，有機(jī)電致發(fā)光器件的壽命為5，013h (T70@1000cd/m2)，透光率為74.4%。
[0089]實(shí)施例5:
[0090]一種有機(jī)電致發(fā)光器件的制備方法，包括以下步驟:
[0091](I)、(2)、(3)同實(shí)施例1 ;
[0092](4)保護(hù)層的制備:采用真空蒸鍍的方式在陰極層上蒸鍍MgF2，真空度5X 10_5Pa，蒸發(fā)速度5 A /S，厚度300nm ；
[0093](5)阻擋層的制備:在PET膜上制備，阻擋層的材質(zhì)為有機(jī)阻擋材料和無(wú)機(jī)阻擋材料形成的混合材料，有機(jī)阻擋材料為甲基環(huán)戊烯醇酮，無(wú)機(jī)阻擋材料為ZrO2,無(wú)機(jī)阻擋材料粉末直徑20nm，混合膜層中，無(wú)機(jī)阻擋材料占混合膜層的質(zhì)量分?jǐn)?shù)為25%。采用先旋涂后曝光的方式制備，在惰性氛圍下制備，涂膠厚度1.2 μ m，然后用UV光(λ =365nm)進(jìn)行固化，光強(qiáng)12mW/cm2,曝光時(shí)間350s ；
[0094](6)在步驟(5)制備的阻擋層上采用和步驟(5)相同的方法和材質(zhì)重復(fù)制備阻擋層3次；
[0095](7) PET膜的覆蓋:在帶有阻擋層的PET膜邊緣邊緣涂布封裝膠，用UV光(λ=365ηπι)進(jìn)行固化，光強(qiáng)25mW/cm2，曝光時(shí)間400s ;將所述的有機(jī)電致發(fā)光器件封裝在所述PET膜及陽(yáng)極導(dǎo)電基板內(nèi)。
[0096]本實(shí)施例有機(jī)電致發(fā)光器件的水氧滲透率(WVTR，g/m2 -day)為6.7X 10_4，有機(jī)電致發(fā)光器件的壽命為4，779h (T70@1000cd/m2)，透光率為73.9%。
[0097]實(shí)施例6:
[0098]一種有機(jī)電致發(fā)光器件的制備方法，包括以下步驟:
[0099](1)、(2)、(3)同實(shí)施例1 ;
[0100](4)保護(hù)層的制備:采用真空蒸鍍的方式在陰極層上蒸鍍ZnS，真空度lX10_3Pa，蒸發(fā)速度2A/S，厚度250nm ；
[0101](5)阻擋層的制備:在PET膜上制備，阻擋層的材質(zhì)為有機(jī)阻擋材料和無(wú)機(jī)阻擋材料形成的混合材料，有機(jī)阻擋材料為甲基丙烯酸樹(shù)脂，無(wú)機(jī)阻擋材料為HfO2,無(wú)機(jī)阻擋材料粉末直徑40nm，混合膜層中，無(wú)機(jī)阻擋材料占混合膜層的質(zhì)量分?jǐn)?shù)為18%。采用先旋涂后曝光的方式制備，在惰性氛圍下制備，涂膠厚度I μ m,然后用UV光(λ =365nm)進(jìn)行固化,光強(qiáng)10mW/cm2,曝光時(shí)間 300s ；
[0102](6)在步驟(5)制備的阻擋層上采用和步驟(5)相同的方法和材質(zhì)重復(fù)制備阻擋層3次；
[0103](7) PET膜的覆蓋:在帶有阻擋層的PET膜邊緣涂布封裝膠，用UV光(λ=365ηπι)進(jìn)行固化，光強(qiáng)15mW/cm2，曝光時(shí)間300s ;將所述的有機(jī)電致發(fā)光器件封裝在所述PET膜及陽(yáng)極導(dǎo)電基板內(nèi)。
[0104]本實(shí)施例有機(jī)電致發(fā)光器件的水氧滲透率(WVTR，g/m2 -day)為7.5X 10_4，有機(jī)電致發(fā)光器件的壽命為4，609h (T70@1000cd/m2)，透光率為69.3%。
[0105]效果實(shí)施例
[0106]為有效證明本發(fā)明有機(jī)電致發(fā)光器件及其制備方法的有益效果，提供相關(guān)實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)如下。
[0107]表1.實(shí)施例1飛有機(jī)電致發(fā)光器件水氧滲透率
[0108]
【權(quán)利要求】
1.一種有機(jī)電致發(fā)光器件，包括依次層疊的陽(yáng)極導(dǎo)電基板、功能層、發(fā)光層、陰極層和封裝層，陽(yáng)極導(dǎo)電基板和封裝層形成封閉空間，功能層、發(fā)光層和陰極層容置在該封閉空間內(nèi)，其特征在于，所述封裝層依次包括保護(hù)層、阻擋層和聚對(duì)苯二甲酸乙二酯膜，所述阻擋層為多層層疊結(jié)構(gòu)，所述阻擋層的材質(zhì)為有機(jī)阻擋材料和無(wú)機(jī)阻擋材料形成的混合材料，其中，有機(jī)阻擋材料為聚四氟乙烯、甲基丙烯酸樹(shù)脂或甲基環(huán)戊烯醇酮，無(wú)機(jī)阻擋材料為二氧化鈦、二氧化鋯或二氧化鉿，所述無(wú)機(jī)阻擋材料在阻擋層中的質(zhì)量分?jǐn)?shù)為15?30%。
2.如權(quán)利要求1所述的有機(jī)電致發(fā)光器件，其特征在于，所述阻擋層為4?6層的層疊結(jié)構(gòu)。
3.如權(quán)利要求1所述的有機(jī)電致發(fā)光器件，其特征在于，所述保護(hù)層材質(zhì)為酞菁銅、N, N’ - 二苯基-N, N’ - 二 (1-萘基)-1, I，-聯(lián)苯-4，4’ - 二胺、8-羥基喹啉鋁、氧化硅、氟化鎂或硫化鋅。
4.如權(quán)利要求1所述的有機(jī)電致發(fā)光器件，其特征在于，所述保護(hù)層的厚度為200nm?300nmo
5.一種有機(jī)電致發(fā)光器件的制備方法，其特征在于，包括以下步驟: (1)在潔凈的導(dǎo)電玻璃基板或?qū)щ娪袡C(jī)薄膜基板上制備有機(jī)電致發(fā)光器件的陽(yáng)極圖形；采用真空蒸鍍的方法在基板上依次制備功能層、發(fā)光層和陰極層； (2)采用真空蒸鍍的方式在陰極層上制備保護(hù)層； (3)采用先旋涂后曝光的方式在聚對(duì)苯二甲酸乙二酯膜上制備阻擋層，所述阻擋層的材質(zhì)為有機(jī)阻擋材料和無(wú)機(jī)阻擋材料形成的混合材料，其中，有機(jī)阻擋材料為聚四氟乙烯、甲基丙烯酸樹(shù)脂或甲基環(huán)戊烯醇酮，無(wú)機(jī)阻擋材料為二氧化鈦、二氧化鋯或二氧化鉿，所述無(wú)機(jī)阻擋材料在阻擋層中的質(zhì)量分?jǐn)?shù)為15?30% ； (4)重復(fù)步驟(3)，得到具有多層層疊結(jié)構(gòu)的阻擋層； (5)在帶有阻擋層的聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯膜邊緣涂布封裝膠，用UV光進(jìn)行固化，將所述有機(jī)電致發(fā)光器件封裝在所述聚對(duì)苯二甲酸乙二酯膜和陽(yáng)極導(dǎo)電基板內(nèi)。
6.如權(quán)利要求5所述的有機(jī)電致發(fā)光器件的制備方法，其特征在于，步驟(3)中所述阻擋層的制備條件為:在惰性氛圍下，進(jìn)行旋涂和曝光，涂膠厚度I?1.5 μ m，然后用UV光進(jìn)行固化，光強(qiáng)10?15mW/cm2，曝光時(shí)間300?400s。
7.如權(quán)利要求5所述的有機(jī)電致發(fā)光器件的制備方法，其特征在于，所述阻擋層為4?6層的層疊結(jié)構(gòu)。
8.如權(quán)利要求5所述的有機(jī)電致發(fā)光器件的制備方法，其特征在于，步驟(2)中所述保護(hù)層材質(zhì)為酞菁銅、N，N’ - 二苯基-N，N’ - 二(1-萘基)-1, I’ -聯(lián)苯-4，4’ - 二胺、8-羥基喹啉招、氧化娃、氟化鎂或硫化鋅。
9.如權(quán)利要求5所述的有機(jī)電致發(fā)光器件的制備方法，其特征在于，步驟(2)中所述保護(hù)層真空蒸鍍的條件為:真空度I X KT5Pa?I X 10_3Pa，蒸發(fā)速度0.5A ~ 5 A /S。
10.如權(quán)利要求5所述的有機(jī)電致發(fā)光器件的制備方法，其特征在于，步驟(2)中所述保護(hù)層的厚度為200nm?300nm。
【文檔編號(hào)】H01L51/52GK103730595SQ201210388951
【公開(kāi)日】2014年4月16日 申請(qǐng)日期:2012年10月15日 優(yōu)先權(quán)日:2012年10月15日
【發(fā)明者】周明杰, 王平, 鐘鐵濤, 黃輝 申請(qǐng)人:海洋王照明科技股份有限公司, 深圳市海洋王照明技術(shù)有限公司, 深圳市海洋王照明工程有限公司