專利名稱：硅片清洗槽液位控制及補液裝置的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及在太陽能清洗設備和濕法處理設備，具體涉及一種用于太陽能硅片清洗槽液位控制及補液裝置。
背景技術：
在太陽能硅片的清洗設備和濕法處理設備中，尤其是鏈式太陽能清洗設備和濕法處理設備中，槽體的液位控制及補液精度直接影響整機的生產工藝，在設備進行配液時，槽體內補入的藥液量的實際值與理論值的一致性，將嚴重影響硅片的腐蝕效果和藥液的使用壽命，降低產品的工藝性能?，F有的補液裝置一般是直接通過導管將清洗液導入槽體內，無法做到液面的精確控制
發(fā)明內容
·本發(fā)明提出一種太陽能硅片清洗槽液位控制及補液裝置。本發(fā)明采用的技術方案是，設計一種硅片清洗槽液位控制及補液裝置，包括槽體、伸入槽體內的補液導管、用于檢測補入液體的第一檢測儀、用于檢測槽體最低液位的第二檢測儀，和補液裝置，所述的補液裝置包括補液桶和與補液導管連接的導管，其中，所述的補液桶和導管之間設有多個并聯的控制閥。在一較佳實施例中，所述的第一檢測儀采用超聲波檢測儀，所述的第二檢測儀采用浮球檢測儀。與現有技術相比，本發(fā)明能精準的檢測到槽內的藥液體積，能縮小實際補入量與理論值的誤差，提高補液精度，提高硅片的腐蝕效果和藥液的使用壽命，在程序設計中還能記錄歷史補液量，對于成本的控制起到一定的作用。


下面結合附圖和實施例對本發(fā)明作進一步的說明，其中
圖I為本發(fā)明的結構示意圖。
具體實施例方式如圖I所示，本發(fā)明提出的硅片清洗槽液位控制及補液裝置包括槽體I、伸入槽體內的補液導管2、用于檢測補入液體的第一檢測儀3、用于檢測槽體最低液位的第二檢測儀4，和補液裝置5。補液裝置包括補液桶51與補液導管2連接的導管52，補液桶和導管之間設有兩個并聯的控制閥53和54，也可以并聯兩個以上的控制閥，旁路的控制閥流量比主路上的控制閥流量要小。該實施例中，第一檢測儀3采用超聲波檢測儀，第二檢測儀采用浮球檢測儀4。工作時，通過操作臺調節(jié)控制閥導通，讓液體從補液桶51順著管路通過補液導管52補入槽內。在補液的同時，超聲波檢測儀在線檢測實際補入液體的體積，浮球檢測儀檢測最低液位(該最低液位為保護液位)。本發(fā)明提出的硅片清洗槽液位控制及補液裝置能精準的檢測到槽內的藥液體積，能縮小實際補入量與理論值的誤差，提高補液精度，在程序設計中還能記錄歷史補液量，對于成本的控制起到很好的效果。·
權利要求
1.一種硅片清洗槽液位控制及補液裝置，包括槽體(I)、伸入槽體內的補液導管(2)、用于檢測補入液體的第一檢測儀(3)、用于檢測槽體最低液位的第二檢測儀(4)，和補液裝置(5)，所述的補液裝置包括補液桶(51)和與補液導管(2)連接的導管(52)，其特征在于，所述的補液桶和導管之間設有多個并聯的控制閥(53、54)。
2.如權利要求I所述的裝置，其特征在于所述的第一檢測儀采用超聲波檢測儀，所述的第二檢測儀采用浮球檢測儀。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種硅片清洗槽液位控制及補液裝置，包括槽體(1)、伸入槽體內的補液導管(2)、用于檢測補入液體的第一檢測儀(3)、用于檢測槽體最低液位的第二檢測儀(4)，和補液裝置(5)，所述的補液裝置包括補液桶(51)和與補液導管(2)連接的導管(52)，其中，所述的補液桶和導管之間設有多個并聯的控制閥(53、54)。本發(fā)明能精準的檢測到槽內的藥液體積，能縮小實際補入量與理論值的誤差，提高補液精度。
文檔編號H01L21/67GK102784788SQ20121030964
公開日2012年11月21日 申請日期2012年8月28日 優(yōu)先權日2012年8月28日
發(fā)明者左國軍 申請人:常州捷佳創(chuàng)精密機械有限公司