全自動太陽能硅片清洗的制造方法
【專利摘要】本實用新型涉及一種太陽能硅片清洗設(shè)備，尤其是一種全自動太陽能硅片清洗機。該清洗機包括一超聲清洗槽，所述的超聲清洗槽后方依次設(shè)有浸泡酸洗槽、超聲堿洗槽以及一個或多個超聲漂洗槽，所述的超聲清洗槽、浸泡酸洗槽、超聲堿洗槽及超聲漂洗槽上方設(shè)有一平移支架，所述的平移支架上吊設(shè)又一個或多個承載待清洗硅片的吊籃，所述的平移支架安裝在一升降結(jié)構(gòu)上。本實用新型的全自動太陽能硅片清洗機通過超聲波使物件的表面及縫隙中的污垢迅速剝落，從而達到物件表面凈化的目的。又結(jié)合堿液清洗、烘干等工藝，實現(xiàn)了多晶、單晶太能能硅片、光學鏡片的清洗。由于本設(shè)備為多槽結(jié)構(gòu)，因此能夠完成較復雜的清洗工藝。
【專利說明】全自動太陽能硅片清洗機
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型涉及一種太陽能硅片清洗設(shè)備，尤其是一種全自動太陽能硅片清洗機。
【背景技術(shù)】
[0002]隨著可再生能源的日益貧乏，尋找新的能源途徑，已經(jīng)成為全人類共同的目標。然而可再生能源一一生物能、光能、水能、風能等有限的幾種，這幾種中只有光能才能目前最有效、快捷的方法。利用太陽能硅片來發(fā)電、供熱是目前全世界開發(fā)的熱點。我們國家雖然在太陽能硅片應(yīng)用行業(yè)起步較晚，但就近幾年來的發(fā)展速度看，還是相當驚人的。但是，當前國內(nèi)太陽能硅片廠商還普遍使用單槽或多槽式組合手工清洗；隨著產(chǎn)品需求量的增加，質(zhì)量要求的提高和勞動力生產(chǎn)成本的增加，原有設(shè)備的清洗形式已經(jīng)不能滿足要求，所以一種新的全自動的清洗設(shè)備已經(jīng)成為硅片生產(chǎn)廠家的迫切需要。
實用新型內(nèi)容
[0003]本實用新型提供一種能自動進行多種清洗方式完成清洗流程的全自動太陽能硅片清洗機。
[0004]為了實現(xiàn)上述目的，本實用新型采用如下技術(shù)方案:
[0005]包括一超聲清洗槽，所述的超聲清洗槽后方依次設(shè)有浸泡酸洗槽、超聲堿洗槽以及一個或多個超聲漂洗槽，所述的超聲清洗槽、浸泡酸洗槽、超聲堿洗槽及超聲漂洗槽上方設(shè)有一平移支架，所述的平移支架上吊設(shè)又一個或多個承載待清洗硅片的吊籃，所述的平移支架安裝在一升降結(jié)構(gòu)上。
[0006]優(yōu)選地，所述的超聲清洗槽前方設(shè)有超聲粗洗槽，平移支架延伸至超聲粗洗槽上方。
[0007]優(yōu)選地，所述的超聲粗洗槽上方設(shè)有浸泡上料槽，平移支架延伸至浸泡上料槽上方。
[0008]優(yōu)選地，所述的超聲漂洗槽后方設(shè)有下料臺。
[0009]優(yōu)選地，所述的吊籃通過一個或多個掛鉤掛于平移支架上。
[0010]優(yōu)選地，所述的超聲清洗槽底部設(shè)有超聲波發(fā)生板。
[0011]優(yōu)選地，所述的浸泡酸洗槽底部設(shè)有超聲波發(fā)生板。
[0012]優(yōu)選地，所述的超聲堿洗槽底部設(shè)有超聲波發(fā)生板。
[0013]優(yōu)選地，所述的每個超聲漂洗槽底部設(shè)有超聲波發(fā)生板。
[0014]優(yōu)選地，所述的浸泡上料槽、超聲粗洗槽、超聲清洗槽、浸泡酸洗槽、超聲堿洗槽及超聲漂洗槽底部分別設(shè)有出液口。
[0015]由于采用了上述結(jié)構(gòu)，本實用新型的全自動太陽能硅片清洗機通過超聲波使物件的表面及縫隙中的污垢迅速剝落，從而達到物件表面凈化的目的。又結(jié)合堿液清洗、烘干等工藝，實現(xiàn)了多晶、單晶太能能硅片、光學鏡片的清洗。由于本設(shè)備為多槽結(jié)構(gòu)，因此能夠完成較復雜的清洗工藝。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0016]圖1是本實用新型實施例的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0017]圖中:
[0018]超聲清洗槽I;
[0019]浸泡酸洗槽2;
[0020]超聲堿洗槽3 ；
[0021]超聲漂洗槽4;
[0022]平移支架5 ；
[0023]吊籃6;
[0024]升降結(jié)構(gòu)7 ；
[0025]超聲粗洗槽8 ；
[0026]浸泡上料槽9 ；
[0027]下料臺10 ;
[0028]掛鉤11;
[0029]超聲波發(fā)生板12 ；
[0030]出液口13。
【具體實施方式】
[0031]如圖1所示，本實施例的全自動太陽能硅片清洗機包括一超聲清洗槽1，所述的超聲清洗槽I后方依次設(shè)有浸泡酸洗槽2、超聲堿洗槽3以及一個或多個超聲漂洗槽4，所述的超聲清洗槽1、浸泡酸洗槽2、超聲堿洗槽3及超聲漂洗槽4上方設(shè)有一平移支架5，所述的平移支架5上吊設(shè)又一個或多個承載待清洗硅片的吊籃6，所述的平移支架5安裝在一升降結(jié)構(gòu)7上。本實施例中有兩個、超聲堿洗槽3及四個超聲漂洗槽4。
[0032]本實施例中，所述的超聲清洗槽I前方設(shè)有超聲粗洗槽8，平移支架5延伸至超聲粗洗槽8上方。
[0033]本實施例中，所述的超聲粗洗槽I上方設(shè)有浸泡上料槽9，平移支架5延伸至浸泡上料槽9上方。
[0034]工作時，首先將浸泡上料槽9、超聲粗洗槽8和超聲清洗槽I中注入自來水，在浸泡酸洗槽中注入酸液，在超聲堿洗槽3中注入堿液，在超聲漂洗槽4中注入純水，即蒸餾水，然后將待清洗硅片放入吊籃6中并置入浸泡上料槽9中浸泡，到達一定時間后，一般半小時以上，即可人工掛在平移支架5上，平移支架5帶動吊籃6運行到超聲粗洗槽8上方時，平移支架5下降，是吊籃6浸沒在浸泡上料槽9中，到達指定反應(yīng)時間后，平移支架5重復升降及平移動作，使吊籃依次經(jīng)過超聲粗洗槽8、超聲清洗槽1、浸泡酸洗槽2、超聲堿洗槽3及超聲漂洗槽4的清洗，最后人工下料，完成清洗過程。
[0035]本實施例中，所述的超聲漂洗槽4后方設(shè)有下料臺10。
[0036]本實施例中，所述的吊籃6通過一個或多個掛鉤11掛于平移支架5上。
[0037]本實施例中，所述的超聲清洗槽I底部設(shè)有超聲波發(fā)生板12。[0038]本實施例中，所述的浸泡酸洗槽2底部設(shè)有超聲波發(fā)生板12。
[0039]本實施例中，所述的超聲堿洗槽3底部設(shè)有超聲波發(fā)生板12。
[0040]本實施例中，所述的每個超聲漂洗槽4底部設(shè)有超聲波發(fā)生板12。
[0041]本實施例中，所述的浸泡上料槽9、超聲粗洗槽8、超聲清洗槽1、浸泡酸洗槽2、超聲堿洗槽3及超聲漂洗槽4底部分別設(shè)有出液口 13。
[0042]以上所述僅為本實用新型的優(yōu)選實施例，并非因此限制本實用新型的專利范圍，凡是利用本實用新型說明書及附圖內(nèi)容所作的等效結(jié)構(gòu)或等效流程變換，或直接或間接運用在其他相關(guān)的【技術(shù)領(lǐng)域】，均同理包括在本實用新型的專利保護范圍內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.全自動太陽能硅片清洗機，其特征在于:包括一超聲清洗槽，所述的超聲清洗槽后方依次設(shè)有浸泡酸洗槽、超聲堿洗槽以及一個或多個超聲漂洗槽，所述的超聲清洗槽、浸泡酸洗槽、超聲堿洗槽及超聲漂洗槽上方設(shè)有一平移支架，所述的平移支架上吊設(shè)又一個或多個承載待清洗硅片的吊籃，所述的平移支架安裝在一升降結(jié)構(gòu)上。
2.如權(quán)利要求1所述的全自動太陽能硅片清洗機，其特征在于:所述的超聲清洗槽前方設(shè)有超聲粗洗槽，平移支架延伸至超聲粗洗槽上方。
3.如權(quán)利要求2所述的全自動太陽能硅片清洗機，其特征在于:所述的超聲粗洗槽上方設(shè)有浸泡上料槽，平移支架延伸至浸泡上料槽上方。
4.如權(quán)利要求3所述的全自動太陽能硅片清洗機，其特征在于:所述的超聲漂洗槽后方設(shè)有下料臺。
5.如權(quán)利要求4所述的全自動太陽能硅片清洗機，其特征在于:所述的吊籃通過一個或多個掛鉤掛于平移支架上。
6.如權(quán)利要求5所述的全自動太陽能硅片清洗機，其特征在于:所述的超聲清洗槽底部設(shè)有超聲波發(fā)生板。
7.如權(quán)利要求6所述的全自動太陽能硅片清洗機，其特征在于:所述的浸泡酸洗槽底部設(shè)有超聲波發(fā)生板。
8.如權(quán)利要求7所述的全自動太陽能硅片清洗機，其特征在于:所述的超聲堿洗槽底部設(shè)有超聲波發(fā)生板。
9.如權(quán)利要求8所述的全自動太陽能硅片清洗機，其特征在于:所述的每個超聲漂洗槽底部設(shè)有超聲波發(fā)生板。
10.如權(quán)利要求9所述的全自動太陽能硅片清洗機，其特征在于:所述的浸泡上料槽、超聲粗洗槽、超聲清洗槽、浸泡酸洗槽、超聲堿洗槽及超聲漂洗槽底部分別設(shè)有出液口。
【文檔編號】H01L31/18GK203787392SQ201420111460
【公開日】2014年8月20日 申請日期:2014年3月12日 優(yōu)先權(quán)日:2014年3月12日
【發(fā)明者】陸惠石 申請人:張家港市港威超聲電子有限公司