一種硅片清洗機純水回收系統(tǒng)的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型涉及半導(dǎo)體材料生產(chǎn)技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種硅片清洗機純水回收系統(tǒng)。
【背景技術(shù)】
[0002]電路級硅拋光片在對表面進行鏡面拋光加工后,表面受到拋光粘片蠟、拋光液等的嚴(yán)重污染,而拋光硅片的表面潔凈度是產(chǎn)品最為關(guān)鍵的質(zhì)量參數(shù)之一,拋光工序后硅片表面必須要被去除顆粒、金屬離子和有機污染物,濕法化學(xué)清洗工藝是最有效的硅片清洗技術(shù)。在濕法化學(xué)清洗工藝中,硅片通過一系列多個酸堿性不同化學(xué)液槽的清洗,以達到去除表面顆粒、有機物污染、金屬離子的目的。拋光硅片表面是一層二氧化硅薄膜,二氧化硅表面為親水性表面,所以硅片浸濕后表面會附帶有一層水膜,這層水膜中包含著用于清洗硅片的化學(xué)品,殘留的某一堿性化學(xué)品會和之后的另一種化學(xué)液槽中的酸性化學(xué)品反應(yīng),對硅片的后續(xù)加工造成失效。所以各個化學(xué)液槽之后都配置純水槽,用來對從前一道化學(xué)液槽出來的硅片進行漂洗,去除硅片表面的化學(xué)液殘留,避免影響清洗效果。純水槽分為溢流槽和快速倒洗槽兩種,純水溢流槽是通過從純水槽底部不斷供應(yīng)新鮮的純水,多余的純水從槽上沿向外溢流,使硅片表面的化學(xué)液被不斷地稀釋,隨溢流的純水排到槽外??焖俚瓜床凼窃诠杵M入水槽中,槽底部的排放閥門打開,純水被快速排空,槽子兩側(cè)上方的噴嘴開始對硅片進行純水噴淋,當(dāng)純水再次注滿槽體并做短暫溢流后,槽內(nèi)的純水重新快速排空。此過程通常重復(fù)幾個周期,將硅片表面殘留的化學(xué)液完全去除。
[0003]在現(xiàn)有的清洗機中,純水槽使用過的純水都被直接排放掉,而用于清洗硅拋光片純水屬于超純水,水中顆粒物、金屬離子含量、電阻率值和有機物總含量等眾多的參數(shù)都有嚴(yán)格的指標(biāo),需要經(jīng)過多重離子交換樹脂、RO反滲透、紫外燈殺菌等等一系列復(fù)雜的處理過程才能獲得,因此超純水價格也是較為昂貴,現(xiàn)有硅片清洗機使用過程中造成大量的超純水被排入下水地溝,純水消耗居高不下,成為清洗過程中最高的運行成本。
【實用新型內(nèi)容】
[0004]為解決上述技術(shù)問題,本實用新型提供一種硅片清洗機純水回收系統(tǒng),該裝置可以有效解決目前現(xiàn)有硅片清洗機因大量消耗純水而運行成本高的問題,減少了純水排放量、大幅度降低生產(chǎn)成本。
[0005]本實用新型所采用的技術(shù)方案是:一種硅片清洗機純水回收系統(tǒng),包括純水槽、排水收集池、主排水管路、直排水管路、回收排水管路以及回收水儲罐,所述純水槽設(shè)置在排水收集池內(nèi)部,排水收集池的底部呈錐形,且排水收集池通過底端開口與主排水管路的一端連接,主排水管路的另一端通過三通氣動閥分別連接直排水管路和回收排水管路的進水端,回收排水管路上設(shè)有Ph值測試儀,回收排水管路的出水端連接至回收水儲罐,回收水儲罐的底部設(shè)有出水管路,出水管路上設(shè)有水泵,所述的三通氣動閥與PLC控制器連接。
[0006]與現(xiàn)有技術(shù)相比,本實用新型至少具有下述優(yōu)點及有益效果:
[0007]本實用新型所述的清洗機純水回收系統(tǒng),加工簡單,安裝操作方便,可以有效解決目前現(xiàn)有硅片清洗機因大量消耗純水而運行成本高的問題,減少了純水排放量、大幅度降低生產(chǎn)成本。
【附圖說明】
[0008]圖1為本實用新型的結(jié)構(gòu)示意圖;
[0009]附圖標(biāo)記:1、純水槽,2、排水收集池,3、主排水管路,4、三通氣動閥,5、直排水管路,6、回收排水管路,7、PH值測試儀,8、回收水儲罐,9、出水管路,10、水泵。
【具體實施方式】
[0010]為使本實用新型的內(nèi)容更明顯易懂,以下結(jié)合具體實施例,對本實用新型進行詳細描述。
[0011]如圖所示,一種硅片清洗機純水回收系統(tǒng),包括純水槽1、排水收集池2、主排水管路3、直排水管路5、回收排水管路6以及回收水儲罐8,所述純水槽I設(shè)置在排水收集池2內(nèi)部,排水收集池2的底部呈錐形,且排水收集池2通過底端開口與主排水管路3的一端連接,主排水管路3的另一端通過三通氣動閥4分別連接直排水管路5和回收排水管路6的進水端,回收排水管路6上設(shè)有Ph值測試儀7,回收排水管路6的出水端連接至回收水儲罐8,回收水儲罐8的底部設(shè)有出水管路9,出水管路9上設(shè)有水泵10,所述的三通氣動閥4與PLC控制器連接。
[0012]為了使本實用新型具有更好的效果,排水收集池2使用高純PVC材質(zhì)制成。
[0013]本實用新型的純水槽I設(shè)置在排水收集池2內(nèi)部,純水槽I溢流或排放出的使用過的純水都存儲在排水收集池2內(nèi),三通氣動閥4受PLC程序控制開啟狀態(tài),硅片在水槽漂洗初期溢流和排放的純水中含有的化學(xué)液的濃度偏高,此階段三通氣動閥4控制純水從直排水管路5排放至外界;硅片在純水槽I漂洗后期溢流和排放的純水中含有的化學(xué)液的濃度偏低,PH值接近7時,此階段三通氣動閥4控制純水從回收排水管路6排放,流入回收水儲罐8,切換排放的時間節(jié)點在PLC程序中設(shè)定。PH值測試儀7安裝在回收排水管路6上,通過PH值進行回收水質(zhì)得監(jiān)控?;厥账畠?通過出水管路9和廠務(wù)純水站連接,水泵10將需要回收的純水送入純水站再生利用。
[0014]本實用新型的硅片清洗機純水回收系統(tǒng)可以對清洗機排放的大部分純水實現(xiàn)回收利用,大幅度降低了清洗機純水的消耗量。該系統(tǒng)中除了直排水管路5,還增加了一路回收排水管路6,該回收排水管路6和廠務(wù)純水站相連接,通過PLC控制器程序控制主排水管路3上的三通氣動閥4實現(xiàn)使用后純水可以在直排水管路5和回收排水管路6之間切換排放,排入回收排水管路6的純水經(jīng)過回收水儲罐8被水泵10打入廠務(wù)純水站,只需經(jīng)過反滲透、過濾等簡單處理,即可再生為完全合格的純水得以再度利用,以解決現(xiàn)有硅片消耗、排放大量超純水弓I起的運行成本突高的問題。
[0015]本實用新型所列舉的技術(shù)方案和實施方式并非是限制,與本實用新型所列舉的技術(shù)方案和實施方式等同或者效果相同方案都在本實用新型所保護的范圍內(nèi)。
【主權(quán)項】
1.一種硅片清洗機純水回收系統(tǒng),其特征在于:包括純水槽(I)、排水收集池(2)、主排水管路(3)、直排水管路(5)、回收排水管路(6)以及回收水儲罐(8),所述純水槽(I)設(shè)置在排水收集池(2)內(nèi)部,排水收集池(2)的底部呈錐形,且排水收集池(2)通過底端開口與主排水管路(3)的一端連接,主排水管路(3)的另一端通過三通氣動閥(4)分別連接直排水管路(5)和回收排水管路(6)的進水端,回收排水管路(6)上設(shè)有Ph值測試儀(7),回收排水管路(6)的出水端連接至回收水儲罐(8),回收水儲罐(8)的底部設(shè)有出水管路(9),出水管路(9)上設(shè)有水泵(10),所述的三通氣動閥(4)與PLC控制器連接。
【專利摘要】本實用新型公開一種硅片清洗機純水回收系統(tǒng),包括純水槽、排水收集池、主排水管路、直排水管路、回收排水管路以及回收水儲罐,所述純水槽設(shè)置在排水收集池內(nèi)部,排水收集池的底部呈錐形,且排水收集池通過底端開口與主排水管路的一端連接,主排水管路的另一端通過三通氣動閥分別連接直排水管路和回收排水管路的進水端,回收排水管路上設(shè)有Ph值測試儀,回收排水管路的出水端連接至回收水儲罐,回收水儲罐的底部設(shè)有出水管路,出水管路上設(shè)有水泵,所述的三通氣動閥與PLC控制器連接。本實用新型可以有效解決目前現(xiàn)有硅片清洗機因大量消耗純水而運行成本高的問題,減少了純水排放量、大幅度降低生產(chǎn)成本。
【IPC分類】B08B13/00
【公開號】CN204685622
【申請?zhí)枴緾N201520361523
【發(fā)明人】熊誠雷, 史舸, 邵奇, 沈激, 張倩
【申請人】麥斯克電子材料有限公司
【公開日】2015年10月7日
【申請日】2015年5月30日