本發(fā)明的實施方式涉及盤裝置。

背景技術(shù)：

1、如硬盤驅(qū)動器(hdd)那樣的盤裝置例如具有磁盤、對該磁盤讀寫信息的磁頭、支承該磁頭的懸架以及使磁頭和懸架移動的滑架(carriage)。進(jìn)一步，盤裝置有時具有使滑架的臂的振動衰減的阻尼件(damper，減振器)。

2、阻尼件例如安裝于臂的表面。在阻尼件與磁盤之間設(shè)置有間隙，例如能對因振動而阻尼件與磁盤接觸進(jìn)行抑制。但是，在阻尼件與磁盤之間設(shè)置大的間隙有時會使得盤裝置的制造變得困難。

技術(shù)實現(xiàn)思路

1、本發(fā)明的實施方式提供能夠容易地制造的盤裝置。

2、本實施方式涉及的盤裝置具備多個磁盤、多個臂、多個懸架以及多個第1阻尼件。所述多個盤沿著第1旋轉(zhuǎn)軸排列，能夠繞該第1旋轉(zhuǎn)軸旋轉(zhuǎn)。所述多個臂沿著從所述第1旋轉(zhuǎn)軸離開了的第2旋轉(zhuǎn)軸排列，能夠通過繞該第2旋轉(zhuǎn)軸旋轉(zhuǎn)從而各自進(jìn)入到所述多個磁盤中的相鄰的兩個磁盤之間的間隙。所述多個臂各自具有：第1側(cè)面，其朝向所述第1旋轉(zhuǎn)軸；第2側(cè)面，其位于所述第1側(cè)面的相反側(cè)，并且，設(shè)置有縫隙；第1面，其朝向作為所述兩個磁盤中的一方的第1磁盤；第2面，其朝向作為所述兩個磁盤中的另一方的第2磁盤；第1座面，其朝向所述第1磁盤，比所述第1面遠(yuǎn)離所述第1磁盤，比所述第1面遠(yuǎn)離所述第2旋轉(zhuǎn)軸；以及第2座面，其朝向所述第2磁盤，比所述第2面遠(yuǎn)離所述第2磁盤，比所述第2面遠(yuǎn)離所述第2旋轉(zhuǎn)軸。在所述多個臂分別設(shè)置有第1凹陷，所述第1凹陷在所述第1側(cè)面和所述第1面開口，并且，在與所述第1旋轉(zhuǎn)軸正交的方向上比所述縫隙靠近所述第1旋轉(zhuǎn)軸。所述多個懸架分別由所述第1座面或者所述第2座面支承，并且，部分地容納于所述縫隙，安裝于所述多個臂。所述多個第1阻尼件分別配置于所述第1凹陷，安裝于所述多個臂，構(gòu)成為使所述多個臂的振動衰減。

技術(shù)特征：

1.一種盤裝置，具備多個磁盤、多個臂、多個懸架以及多個第1阻尼件，

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的盤裝置，

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的盤裝置，

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的盤裝置，

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的盤裝置，

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的盤裝置，

7.根據(jù)權(quán)利要求2所述的盤裝置，

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的盤裝置，

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的盤裝置，

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的盤裝置，

11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的盤裝置，

12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的盤裝置，

13.根據(jù)權(quán)利要求11所述的盤裝置，

14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的盤裝置，

15.一種盤裝置，具備：

技術(shù)總結(jié)
提供能夠容易地制造的盤裝置。本實施方式涉及的盤裝置具備多個磁盤、多個臂、懸架以及第1阻尼件。所述多個盤沿著第1旋轉(zhuǎn)軸排列。所述臂沿著第2旋轉(zhuǎn)軸排列。所述臂具有第1側(cè)面、設(shè)置有縫隙的第2側(cè)面、朝向第1磁盤的第1面、朝向第2磁盤的第2面、第1座面以及第2座面。在所述臂設(shè)置有在所述第1側(cè)面和所述第1面開口、并且比所述縫隙靠近所述第1旋轉(zhuǎn)軸的第1凹陷。所述懸架由所述第1座面或者所述第2座面支承，并且，部分地容納于所述縫隙。所述第1阻尼件配置于所述第1凹陷，安裝于所述臂。

技術(shù)研發(fā)人員：鈴木保夫,瀨戶間俊彌
受保護(hù)的技術(shù)使用者：株式會社 東芝
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2025/1/6