專利名稱：用以強化指紋讀取效果的指紋強化披覆層及指紋讀取模塊的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及一種用以強化指紋讀取效果的指紋讀取模塊及指紋強化披覆層，特別是一種設置于一指紋讀取模塊的指紋讀取區(qū)域，以增加該指紋讀取區(qū)域的指紋采集效果的指紋強化披覆層，以及具有該指紋強化披覆層的指紋讀取模塊。
背景技術：
皮紋是一個人最好的身份證明，每個人的皮紋不盡相同，且不易改變。因此，通過皮紋辨識可以確認每個人的身份。具有高安全性的身份辨識工具已經(jīng)成為保護個人及顯示身份的必要設備。可以預見的是，未來人們追求更大的便利與舒適，皮紋辨識必然會被廣泛使用，以取代或輔助一般的常用身份辨識手段。
然而，每個人的指紋膚質(zhì)不盡相同(一般可分為干性與濕性兩種)，因此常常出現(xiàn)指紋讀取器在讀取指紋時無法讀取或者讀取不清楚的情形。尤其是過干或過濕膚質(zhì)的指紋，由于局部指紋表面缺少水氣或含有過多的水氣，而會導致指紋無法與指紋讀取器緊密貼合，進而導致指紋讀取器無法完整讀取所欲采集的指紋圖像。

發(fā)明內(nèi)容
針對以上技術問題，本實用新型的目的在于提供一種用以強化指紋讀取效果的指紋強化披覆層以及具有該指紋強化披覆層的指紋讀取模塊。本實用新型通過設置于指紋讀取模塊的指紋讀取區(qū)域的指紋強化披覆層，增強該指紋讀取區(qū)域的指紋采集效果，以使該指紋讀取模塊在指紋過干或過濕的情況下依然能夠得到清晰的指紋圖像。
根據(jù)本實用新型的一種方案，提供了一種用以強化指紋讀取效果的指紋強化披覆層，其包括一黏著層及一形成于該黏著層上的指紋增強層。
根據(jù)本實用新型另一種方案，提供了一種用以強化指紋讀取效果的指紋強化披覆層，其包括一黏著層、一透明層及一指紋增強層。其中，透明層形成于該黏著層上，并且該指紋增強層形成于該透明層上。
根據(jù)本實用新型的另外一種方案，提供了一種用以強化指紋讀取效果的指紋讀取模塊，其包括一發(fā)光組件、一光學窗、一指紋強化披覆層、一成像光學組件及一圖像感測組件。其中，該發(fā)光組件用以產(chǎn)生一光束；該光學窗設置于該發(fā)光模塊的一端，用以接收該發(fā)光組件所產(chǎn)生的光束；該指紋強化披覆層包括一黏著層和一形成于該黏著層上的指紋增強層，該黏著層設置于該光學窗的表面，用以接收從該發(fā)光組件投入該光學窗的光束，并采集一放置于該指紋強化披覆層表面的指紋圖像光束；該成像光學組件設置于該光學窗的一端，以接收該指紋圖像光束，并將該指紋圖像光束投射至該圖像感測組件；以及，該圖像感測組件設置于該成像光學組件的一端，用以感測從該成像光學組件所投射出的指紋圖像光束。這樣，通過該指紋強化披覆層，增強了指紋讀取模塊采集放置于該指紋強化披覆層表面的指紋的能力，使得采集的指紋圖像更為完整清晰。
為了能更進一步了解本實用新型為達到預定目的所采取的技術、手段及功效，請參閱以下有關本實用新型的詳細說明與附圖，相信由此可以對本實用新型的目的、特征與特點有深入且具體的了解。附圖僅用來提供參考與說明，并非用來對本實用新型加以限制。


圖1是本實用新型的用以強化指紋讀取效果的指紋讀取模塊的結構示意圖；圖2是本實用新型的用以強化指紋讀取效果的指紋強化披覆層的第一實施例的結構示意圖；以及圖3是本實用新型的用以強化指紋讀取效果的指紋強化披覆層的第二實施例的結構示意圖。
其中，附圖標記說明如下發(fā)光組件1
光學窗 2指紋強化披覆層 3指紋強化披覆層 3′黏著層 31透明層 32指紋增強層 33成像光學組件4圖像感測組件5光束L1指紋圖像光束L具體實施方式
請參閱圖1，圖1是本實用新型用以強化指紋讀取效果的指紋讀取模塊的結構示意圖。由圖中可知，本實用新型所提供的用以強化指紋讀取效果的指紋讀取模塊，包括一發(fā)光組件1、一光學窗2、一指紋強化披覆層3、一成像光學組件4及一圖像感測組件5。
發(fā)光組件1用以產(chǎn)生一光束L1；發(fā)光組件1可以是發(fā)光二極管(LED)、有機發(fā)光二極管(OLED or PLED)、電致發(fā)光(Electro luminescence，EL)裝置或任何發(fā)光裝置。光學窗2設置于該發(fā)光模塊1的一端，用以接收該發(fā)光組件1所產(chǎn)生的光束L1。指紋強化披覆層3通過黏貼的方式設置于該光學窗2的表面，或者是通過噴霧或淋幕的方式涂布于該光學窗2的表面，用以接收從發(fā)光組件1投入光學窗2的光束L1，并采集一放置于該指紋強化披覆層3表面的指紋F，產(chǎn)生一指紋圖像光束L2。
此外，成像光學組件4設置于光學窗2的一端，用以接收指紋圖像光束L2，并將指紋圖像光束L2投射出去。另外，圖像感測組件5可以是一線性光感測組件陣列，設置于成像光學組件4的一端，用以感測從成像光學組件4投射出的指紋圖像光束L2。這樣，通過使用指紋強化披覆層3，增加采集該放置于指紋強化披覆層3表面的指紋F的能力，使得該指紋讀取模塊在指紋過干或過濕的情況下依然能夠得到清晰的指紋圖像。
請參閱圖2，圖2是本實用新型的用以強化指紋讀取效果的指紋強化披覆層的第一實施例的結構示意圖。由圖中可知，本實用新型所提供的指紋強化披覆層3是包括一黏著層31、一透明層32及一指紋增強層33。其中，透明層32形成于黏著層31上；指紋增強層33形成于該透明層32上。
其中，黏著層31用以增加指紋強化披覆層3設置于光學窗2的表面的黏著力。黏著層31可以是一感壓膠(PSA)或任何具有黏性的黏著劑。另外，指紋增強層33可用以使該指紋F緊密貼合在指紋強化披覆層3的表面，增加采集指紋圖像時的清晰度。
請參閱圖3，圖3是本實用新型的用以強化指紋讀取效果的指紋強化披覆層的第二實施例的結構示意圖。由圖中可知，第二實施例與第一實施例最大的不同在于第二實施例不采用該透明層32。因此，第二實施例的指紋強化披覆層3′僅包括一黏著層31及一形成于黏著層31上的指紋增強層33。
另外，上述黏著層31、透明層32及指紋增強層33可以通過液體噴灑的方式一層一層地堆棧而成，其中每一層都可以在室溫下，或通過加熱、烘烤，或者紫外光照射的方式，達到固化的目的。
綜上所述，本實用新型通過將該指紋強化披覆層3、3′設置于該光學窗2的表面(該指紋讀取模塊的指紋讀取區(qū)域)，強化該指紋讀取區(qū)域的指紋采集效果，從而使得該指紋讀取模塊不會受到指紋過干或過濕的影響，能夠得到清晰的指紋圖像。
但是，以上所述僅是本實用新型的最佳具體實施例的詳細說明與附圖，并非用來限制本實用新型，本實用新型的特征并不局限于此，本實用新型的所有范圍應以下述的權利要求書為準。凡是符合本實用新型權利要求書的精神及其類似變化的實施例，都應該包含在本實用新型的范圍內(nèi)，任何本領域普通技術人員在本實用新型的范圍內(nèi)可以輕易想到的變化或改進，都可以涵蓋在以下的專利范圍。
權利要求1.一種用以強化指紋讀取效果的指紋強化披覆層，其特征在于，包括一黏著層；以及一指紋增強層，形成于該黏著層上。
2.如權利要求1所述的用以強化指紋讀取效果的指紋強化披覆層，其特征在于，該指紋強化披覆層還包括一透明層，形成于該黏著層和該指紋增強層之間。
3.一種用以強化指紋讀取效果的指紋讀取模塊，其特征在于，包括一發(fā)光組件，用以產(chǎn)生一光束；一光學窗，設置于該發(fā)光模塊的一端，用以接收該發(fā)光組件所產(chǎn)生的光束；一指紋強化披覆層，其包括一黏著層和一形成于該黏著層上的指紋增強層，該黏著層設置于該光學窗的表面，用以接收從該發(fā)光組件投入該光學窗的光束，并采集一放置于該指紋強化披覆層表面的指紋以產(chǎn)生一指紋圖像光束；一成像光學組件，設置于該光學窗的一端，用以接收該指紋圖像光束，并將該指紋圖像光束投射出去；以及一圖像感測組件，設置于該成像光學組件的一端，用以感測從該成像光學組件所投射出的指紋圖像光束。
4.如權利要求3所述的用以強化指紋讀取效果的指紋讀取模塊，其特征在于，該發(fā)光組件是一發(fā)光二極管、有機發(fā)光二極管、或電致發(fā)光裝置。
5.如權利要求3所述的用以強化指紋讀取效果的指紋讀取模塊，其特征在于，該指紋強化披覆層通過噴霧或淋幕的方式涂布于該光學窗的表面。
6.如權利要求3所述的用以強化指紋讀取效果的指紋讀取模塊，其特征在于，該指紋強化披覆層還包括一透明層，形成于該黏著層和該指紋增強層之間。
7.如權利要求3所述的用以強化指紋讀取效果的指紋讀取模塊，其特征在于該黏著層是一感壓膠層。
8.如權利要求3所述的用以強化指紋讀取效果的指紋讀取模塊，其特征在于該圖像感測組件是一線性光感測組件陣列。
專利摘要一種用以強化指紋讀取效果的指紋強化披覆層和指紋讀取模塊，該指紋讀取模塊包括發(fā)光組件、光學窗、指紋強化披覆層、成像光學組件及圖像感測組件。該光學窗用以接收該發(fā)光模塊發(fā)光組件所產(chǎn)生的光束；該指紋強化披覆層包括一黏著層和一形成于該黏著層上的指紋增強層，該黏著層設置于該光學窗表面，以接收從該發(fā)光組件投入該光學窗的光束，并采集一放置于該指紋強化披覆層表面的指紋圖像光束；該成像光學組件設置于該光學窗的一端，以接收該指紋圖像光束，并將該指紋圖像光束投射至該圖像感測組件。這樣，通過該指紋強化披覆層，增強了指紋讀取模塊采集該放置于該指紋強化披覆層表面的指紋的能力，使得所采集的指紋圖像更為完整清晰。
文檔編號G06K9/00GK2921960SQ200620116499
公開日2007年7月11日 申請日期2006年6月7日 優(yōu)先權日2006年6月7日
發(fā)明者鄭家駒, 呂育維, 許敦程, 吳詩斌, 劉子恒 申請人:敦南科技股份有限公司