本實(shí)用新型屬于物理實(shí)驗(yàn)領(lǐng)域，涉及一種粉料研磨裝置。

背景技術(shù)：

任何一種粉末衍射技術(shù)都要求樣品是十分細(xì)小的粉末顆粒，使試樣在受光照的體積中有足夠多數(shù)目的晶粒。因?yàn)橹挥羞@樣，才能滿足獲得正確的粉末衍射圖譜數(shù)據(jù)的條件：即試樣受光照體積中晶粒的取向是完全機(jī)遇的。雖然很多固體樣品本身已處于微晶狀態(tài)，但通常卻是較粗糙的粉末顆?；蚴禽^大的集結(jié)塊，更多數(shù)的固體樣品則是具有或大或小晶粒的結(jié)晶織構(gòu)或者是可以辨認(rèn)出外形的粗晶粒，因此實(shí)驗(yàn)時(shí)一般需要先加工成合用的細(xì)粉末。因?yàn)榇蠖鄶?shù)固體顆粒是易碎的，所以最常用的方法是研磨和過(guò)篩，只有當(dāng)樣品是十分細(xì)的粉末，手摸無(wú)顆粒感，才可以認(rèn)為晶粒的大小已符合要求。持續(xù)的在研缽或在球磨中研磨至<360目的粉末，可以有效的得到足夠細(xì)的顆粒。

衍射儀對(duì)樣品粉末顆粒尺寸的要求比粉末照相法的要求高得多，有時(shí)甚至那些可以通過(guò)360目（38μm）粉末顆粒都不能符合要求。對(duì)于高吸收的或者顆?；臼莻€(gè)單晶體顆粒的樣品，其顆粒大小要求更為嚴(yán)格。例如，石英粉末的顆粒大小至少小于5μm，同一樣品不同樣片強(qiáng)度測(cè)量的平均偏差才能達(dá)到1％，顆粒大小若在10μm以內(nèi)，則誤差在2～3％左右。但是若樣品本身已處于微晶狀態(tài)，則為了能制得平滑粉末樣面，樣品粉末能通過(guò)300目便足夠了。制備粉末需根據(jù)不同的具體情況采用不同的方法。

在XRD檢測(cè)過(guò)程中，對(duì)于粉末樣品的準(zhǔn)備工作，必須有足夠的重視。有時(shí)常常由于急于要看到衍射圖，或舍不得花必要的功夫而馬虎地準(zhǔn)備樣品，這樣常會(huì)給實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)帶入顯著的誤差甚至無(wú)法解釋，造成混亂。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本實(shí)用新型為解決XRD檢測(cè)過(guò)程中，粉末樣品制備要求高，制備繁瑣，需要時(shí)間長(zhǎng)的技術(shù)問(wèn)題，公開(kāi)了一種粉料研磨裝置。

為解決上述技術(shù)問(wèn)題，本實(shí)用新型采用以下技術(shù)方案：

一種粉料研磨裝置，包括液氮室、傳送裝置、研磨裝置和保護(hù)殼，所述液氮室由外殼、夾層、內(nèi)槽、基座組成；傳送裝置由傳送彎道、傳送帶、托槽和研缽組成；研磨裝置由研磨器、護(hù)檐、第一研磨桿、第二研磨桿和電機(jī)室組成；保護(hù)殼上設(shè)有控制模塊和出料口；所述液氮室上端設(shè)有端口，端口處設(shè)有蓋塞，端口旁設(shè)有注口，液氮室底部設(shè)有基座，外殼和內(nèi)槽之間設(shè)有夾層，內(nèi)槽盛有液氮；傳送彎道的進(jìn)料道口與端口重合，傳送道與進(jìn)料道垂直設(shè)置，傳送道穿過(guò)液氮室與出料口相接，傳送道內(nèi)設(shè)有傳送帶，傳送帶與電機(jī)相連，傳送帶上設(shè)有托槽，托槽內(nèi)設(shè)有研缽，傳送道上設(shè)有限位孔；研磨裝置的第一研磨桿穿過(guò)限位孔，第一研磨桿下端設(shè)有研磨器，研磨器上罩有護(hù)檐，研磨器位于傳送道內(nèi)，第一研磨桿齒輪端與第二研磨桿齒輪端通過(guò)齒輪嚙合，第二研磨桿另一端通過(guò)萬(wàn)向球設(shè)在電機(jī)室上；保護(hù)殼正面設(shè)有控制模塊和出料口，控制模塊通過(guò)第一導(dǎo)線與電機(jī)室相連，控制模塊通過(guò)第二導(dǎo)線與電機(jī)相連。

所述外殼與內(nèi)槽的底部之間設(shè)有凸起，凸起具有支撐并固定內(nèi)槽的作用。

所述注口處設(shè)有注塞。

所述限位孔由彈性材料制成，彈性材料保證在第二研磨桿接觸第一研磨桿之前，研磨裝置處于上浮閑置狀態(tài)。

所述研磨器由2-4個(gè)研磨球組成。

本實(shí)用新型的有益效果在于：本實(shí)用新型將冷卻裝置、研磨裝置和傳送裝置結(jié)合起來(lái)用于XRD樣品的制備，使粉末樣品的制備更加自動(dòng)化、標(biāo)準(zhǔn)化、智能化，大大縮短了制備時(shí)間，節(jié)約了勞動(dòng)力。

附圖說(shuō)明

圖1為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖2為攪拌裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖3為保護(hù)殼的正面結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實(shí)施方式

如圖1-3所示，一種粉料研磨裝置，包括液氮室、傳送裝置、研磨裝置7和保護(hù)殼8，所述液氮室由外殼2、夾層15、內(nèi)槽3、基座1組成；傳送裝置由傳送彎道4、傳送帶14、托槽5和研缽16組成；研磨裝置7由研磨器18、護(hù)檐17、第一研磨桿19、第二研磨桿24和電機(jī)室23組成；保護(hù)殼8上設(shè)有控制模塊10和出料口11；所述液氮室上端設(shè)有端口42，端口42處設(shè)有蓋塞6，端口42旁設(shè)有注口31，液氮室底部設(shè)有基座1，外殼2和內(nèi)槽3之間設(shè)有夾層15，內(nèi)槽3盛有液氮；傳送彎道4的進(jìn)料道口與端口42重合，傳送道43與進(jìn)料道41垂直設(shè)置，傳送道43穿過(guò)液氮室與出料口11相接，傳送道43內(nèi)設(shè)有傳送帶14，傳送帶14與電機(jī)13相連，傳送帶14上設(shè)有托槽5，托槽5內(nèi)設(shè)有研缽16，傳送道43上設(shè)有限位孔；研磨裝置7的第一研磨桿19穿過(guò)限位孔，第一研磨桿19下端設(shè)有研磨器18，研磨器18上罩有護(hù)檐，研磨器18位于傳送道43內(nèi)，第一研磨桿齒輪端20與第二研磨桿齒輪端21通過(guò)齒輪嚙合，第二研磨桿24另一端通過(guò)萬(wàn)向球22設(shè)在電機(jī)室23上，當(dāng)?shù)谝谎心U19在非工作狀態(tài)時(shí)，由于限位孔的作用，攪拌裝置處于閑置狀態(tài)；保護(hù)殼8正面設(shè)有控制模塊10和出料口11，控制模塊10通過(guò)第一導(dǎo)線9與電機(jī)室23相連，控制模塊10通過(guò)第二導(dǎo)線12與電機(jī)13相連。所述外殼2與內(nèi)槽3的底部之間設(shè)有凸起32。所述注口31處設(shè)有注塞。所述限位孔由彈性材料制成，彈性材料保證在第二研磨桿接觸第一研磨桿之前，研磨裝置處于上浮閑置狀態(tài)。所述研磨器18由2-4個(gè)研磨球組成。

本實(shí)用新型的使用方法如下：通過(guò)加樣勺，將樣品加入到研缽16內(nèi)，蓋上塞蓋6，靜置5-10min，打開(kāi)開(kāi)關(guān)，傳送帶14緩慢將樣品傳送至研磨裝置下方，快速轉(zhuǎn)動(dòng)的研磨裝置將樣品迅速研磨，研磨之后可由傳送帶14傳送至出料口11，本實(shí)用新型可實(shí)現(xiàn)樣品的連續(xù)研磨。