專利名稱：傳送裝置及系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及半導(dǎo)體制造的技術(shù)，具體地，涉及一種傳送裝置及系統(tǒng)。
背景技術(shù)：
在半導(dǎo)體、液晶或LED等制造行業(yè)中，需要能夠在大氣或者真空環(huán)境中在精確地取放晶片的自動(dòng)化傳送裝置，該傳送裝置通常包括機(jī)械臂和驅(qū)動(dòng)裝置。圖1為現(xiàn)有的傳送裝置中的機(jī)械臂的結(jié)構(gòu)示意圖。如圖1所示，傳送裝置的機(jī)械臂的結(jié)構(gòu)一般采用kara(Selective ComplianceAssembly Robot Arm，選擇性柔順裝配機(jī)器人手臂)連桿方式，上述的連桿方式通常為懸臂梁結(jié)構(gòu)，機(jī)械臂的各個(gè)連桿之間通過(guò)軸承連接，機(jī)械臂內(nèi)部安裝同步帶實(shí)現(xiàn)旋轉(zhuǎn)和伸縮。由于該機(jī)械臂其前端邏輯控制優(yōu)化的難度較大、且在取放晶片時(shí)各個(gè)連桿和軸承的受力變化比較大、受力情況也比較復(fù)雜，因此導(dǎo)致了傳送裝置往復(fù)運(yùn)動(dòng)的性能差、使得傳送裝置維護(hù)時(shí)間周期短和壽命較短。

發(fā)明內(nèi)容
為解決上述問(wèn)題，本發(fā)明提供一種傳送裝置及系統(tǒng)，其能夠解決傳送裝置維護(hù)時(shí)間周期短和壽命較短的問(wèn)題。為此，本發(fā)明提供一種傳送裝置，其中，包括機(jī)械臂、第一驅(qū)動(dòng)裝置、摩擦輪和轉(zhuǎn)動(dòng)帶；所述第一驅(qū)動(dòng)裝置的轉(zhuǎn)動(dòng)軸上固定有摩擦輪，所述摩擦輪通過(guò)與所述轉(zhuǎn)動(dòng)帶之間的摩擦力帶動(dòng)所述轉(zhuǎn)動(dòng)帶運(yùn)動(dòng)，所述轉(zhuǎn)動(dòng)帶與所述機(jī)械臂固定連接。其中，還包括支架，所述支架上設(shè)置有用于機(jī)械臂滑動(dòng)的導(dǎo)軌，所述機(jī)械臂套接在所述導(dǎo)軌上并沿著所述導(dǎo)軌運(yùn)動(dòng)。其中，所述機(jī)械臂包括支撐件、延長(zhǎng)件和承托件，所述延長(zhǎng)件的一端與所述承托件固定連接，另一端與所述支撐件固定連接，所述支撐件滑設(shè)在所述導(dǎo)軌上。其中，所述支架上固定有套設(shè)在所述摩擦輪和所述轉(zhuǎn)動(dòng)帶的防護(hù)罩，該防護(hù)罩用于阻擋所述摩擦輪和所述轉(zhuǎn)動(dòng)帶摩擦產(chǎn)生的顆粒飛濺。其中，在所述支架上安裝有兩組張力輪，所述兩組張力輪設(shè)置在所述摩擦輪的兩側(cè)，該兩組張力輪用于將所述轉(zhuǎn)動(dòng)帶按壓在所述摩擦輪上。其中，在所述支架的兩端分別安裝有一組導(dǎo)向輪，所述轉(zhuǎn)動(dòng)帶繞設(shè)在兩組所述導(dǎo)向輪上以進(jìn)行循環(huán)運(yùn)動(dòng)。其中，還包括第二驅(qū)動(dòng)裝置，所述第二驅(qū)動(dòng)裝置分別與所述支架和第一驅(qū)動(dòng)裝置固定連接，用于帶動(dòng)所述支架和第一驅(qū)動(dòng)裝置轉(zhuǎn)動(dòng)。其中，所述摩擦輪與所述轉(zhuǎn)動(dòng)帶的表面均經(jīng)過(guò)拋光處理，以提高光滑度。其中還包括升降裝置，所述升降裝置用于升起或降下所述第二驅(qū)動(dòng)裝置。本發(fā)明還提供一種傳送系統(tǒng)，其中，包括工藝腔室和上述的任意一種傳送裝置；所述傳送裝置的機(jī)械臂用于取放晶片；
所述工藝腔室中設(shè)置有放置晶片的工藝平臺(tái)。其中，所述傳送裝置的數(shù)量為兩個(gè)，其中一個(gè)用于將晶片放置到所述工藝腔室，另一個(gè)傳送裝置用于從所述工藝腔室中取出晶片。本發(fā)明具有下述有益效果通過(guò)驅(qū)動(dòng)摩擦輪帶動(dòng)轉(zhuǎn)動(dòng)帶運(yùn)動(dòng)來(lái)驅(qū)動(dòng)機(jī)械臂進(jìn)行往復(fù)運(yùn)動(dòng)，不僅使機(jī)械臂的邏輯控制優(yōu)化簡(jiǎn)單，而且摩擦輪和轉(zhuǎn)動(dòng)帶之間具有零間隙和重復(fù)性能好的特點(diǎn)，更容易精確地控制機(jī)械臂的位置及其運(yùn)動(dòng)軌跡，當(dāng)機(jī)械臂在取或放晶片時(shí)， 機(jī)械臂、摩擦輪、張力輪和導(dǎo)向輪等部件所受的外力變化不明顯，使傳送裝置具有維護(hù)時(shí)間間隔長(zhǎng)、使用壽命長(zhǎng)的優(yōu)點(diǎn)。


圖1為現(xiàn)有的傳送裝置中的機(jī)械臂的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2為本發(fā)明提供的傳送裝置第一實(shí)施例的立體圖；圖3為本發(fā)明提供的傳送裝置第一實(shí)施例的俯視圖；圖4為本發(fā)明提供的傳送裝置第一實(shí)施例中支架的結(jié)構(gòu)示意圖；圖5為本發(fā)明提供的傳送裝置第二實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖；圖6本發(fā)明提供的傳送系統(tǒng)實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施例方式為使本領(lǐng)域的技術(shù)人員更好地理解本發(fā)明的技術(shù)方案，下面結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明提供的實(shí)施例進(jìn)行詳細(xì)描述。圖2為本發(fā)明提供的傳送裝置第一實(shí)施例的立體圖，圖3為本發(fā)明提供的傳送裝置第一實(shí)施例的俯視圖，圖4為本發(fā)明提供的傳送裝置第一實(shí)施例中支架的結(jié)構(gòu)示意圖。 結(jié)合圖2、圖3和圖4所示，本實(shí)施例中的傳送裝置包括機(jī)械臂、第一驅(qū)動(dòng)裝置202、摩擦輪 (圖2中未示出)和轉(zhuǎn)動(dòng)帶204，其中，機(jī)械臂包括固定連接的延長(zhǎng)件2011、承托件2012和支撐件2013，延長(zhǎng)件2011的一端與承托件2012連接，另一端與支撐件2013連接。具體地， 承托件2012可以通過(guò)托持、邊緣夾持或真空吸附等方式來(lái)承托晶片或其它待加工的產(chǎn)品， 第一驅(qū)動(dòng)裝置202可以為電動(dòng)機(jī)，其轉(zhuǎn)動(dòng)軸上固定安裝有摩擦輪，摩擦輪與轉(zhuǎn)動(dòng)帶204之間壓緊以在二者之間產(chǎn)生摩擦力；同時(shí)，轉(zhuǎn)動(dòng)帶204通過(guò)表面積較大的支撐件2013與機(jī)械臂的延長(zhǎng)件2011固定連接，以增強(qiáng)轉(zhuǎn)動(dòng)帶204與機(jī)械臂之間固定連接的穩(wěn)定性，當(dāng)?shù)谝或?qū)動(dòng)裝置202帶動(dòng)摩擦輪轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)，摩擦輪利用摩擦輪與轉(zhuǎn)動(dòng)帶204之間的摩擦力來(lái)帶動(dòng)轉(zhuǎn)動(dòng)帶 204運(yùn)動(dòng)，轉(zhuǎn)動(dòng)帶204同時(shí)帶動(dòng)機(jī)械臂運(yùn)動(dòng)，在轉(zhuǎn)動(dòng)帶204的帶動(dòng)下，機(jī)械臂可以相對(duì)于摩擦輪進(jìn)行前進(jìn)和后退的往復(fù)運(yùn)動(dòng)。本實(shí)施例傳送裝置還包括支架205，支架205為直角的L型支架，包括豎直方向的支架板2051和水平方向的支架板2052，L型的支架205具有穩(wěn)定性強(qiáng)、剛度高的優(yōu)點(diǎn)，并且在支架板2051上還設(shè)置有導(dǎo)軌2053，機(jī)械臂的支撐件2013滑設(shè)在導(dǎo)軌2053上，使支撐件 2013沿著導(dǎo)軌2053往復(fù)運(yùn)動(dòng)，導(dǎo)軌2053既能支撐機(jī)械臂的重量，又能約束機(jī)械臂的運(yùn)動(dòng)軌跡，從而保持機(jī)械臂的運(yùn)動(dòng)狀態(tài)穩(wěn)定，且在實(shí)際應(yīng)用中，也可以直接將機(jī)械臂的延長(zhǎng)件2011 滑設(shè)在導(dǎo)軌2053上；在支架205上設(shè)置有兩組張力輪206，兩組張力輪206與摩擦輪203分布在轉(zhuǎn)動(dòng)帶204的兩側(cè)，張力輪206將轉(zhuǎn)動(dòng)帶204緊壓到摩擦輪203上，以使摩擦輪203與轉(zhuǎn)動(dòng)帶204之間產(chǎn)生摩擦力，在需要調(diào)整摩擦輪203與轉(zhuǎn)動(dòng)帶204之間的摩擦力的大小時(shí)， 可以通過(guò)調(diào)整張力輪206的中心位置以增大或減小摩擦輪203與轉(zhuǎn)動(dòng)帶204之間的壓力， 從而增大或減小摩擦輪203與轉(zhuǎn)動(dòng)帶204之間的摩擦力；在支架205的兩端還分別設(shè)置有一組導(dǎo)向輪207，并使摩擦輪203、轉(zhuǎn)動(dòng)帶204、張力輪206和導(dǎo)向輪207處于同一平面上運(yùn)動(dòng)，轉(zhuǎn)動(dòng)帶204繞設(shè)在導(dǎo)向輪207上以使轉(zhuǎn)動(dòng)帶204循環(huán)運(yùn)動(dòng)，張力輪206和導(dǎo)向輪207都可在轉(zhuǎn)動(dòng)帶204的帶動(dòng)下轉(zhuǎn)動(dòng)，以減少其與轉(zhuǎn)動(dòng)帶204之間的摩擦力，提高轉(zhuǎn)動(dòng)帶204、張力輪206和導(dǎo)向輪207的使用壽命，同時(shí)減少第一驅(qū)動(dòng)裝置的能量消耗。本實(shí)施例傳送裝置的具體工作流程如下啟動(dòng)第一驅(qū)動(dòng)裝置202以驅(qū)動(dòng)摩擦輪203逆時(shí)針轉(zhuǎn)動(dòng)，轉(zhuǎn)動(dòng)帶204則開始帶動(dòng)機(jī)械臂向前運(yùn)動(dòng)，以使機(jī)械臂的承托件2012上的晶片到達(dá)預(yù)設(shè)位置；進(jìn)一步地，啟動(dòng)第一驅(qū)動(dòng)裝置202以驅(qū)動(dòng)摩擦輪203順時(shí)針轉(zhuǎn)動(dòng)，轉(zhuǎn)動(dòng)帶204則將帶動(dòng)機(jī)械臂向后運(yùn)動(dòng)，從而實(shí)現(xiàn)往復(fù)傳送晶片的目的。圖5為本發(fā)明提供的傳送裝置第二實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖。如圖5所示，本實(shí)施例傳送裝置還包括第二驅(qū)動(dòng)裝置208，用于帶動(dòng)第一驅(qū)動(dòng)裝置202和支架205作為整體一起轉(zhuǎn)動(dòng)，以帶動(dòng)支架205上的機(jī)械臂的轉(zhuǎn)動(dòng)；從而既能通過(guò)第一驅(qū)動(dòng)裝置202使機(jī)械臂相對(duì)于摩擦輪203做前進(jìn)和后退的運(yùn)動(dòng)，又能通過(guò)第二驅(qū)動(dòng)裝置208使機(jī)械臂繞摩擦輪203轉(zhuǎn)動(dòng)，增加了機(jī)械臂運(yùn)動(dòng)方式的多樣性和靈活性，擴(kuò)大了傳送裝置的適用范圍，其中，第二驅(qū)動(dòng)裝置 208可以為電動(dòng)機(jī)。進(jìn)一步的，本實(shí)施例傳送裝置還包括升降裝置，升降裝置可以與第二驅(qū)動(dòng)裝置208 固定連接，例如將升降裝置固定安裝在第二驅(qū)動(dòng)裝置208的下部，用于帶動(dòng)第二驅(qū)動(dòng)裝置 208、第一驅(qū)動(dòng)裝置202和支架205作為一個(gè)整體上升或下降，從而實(shí)現(xiàn)機(jī)械臂的上升或下降。本實(shí)施例傳送裝置的具體工作流程如下啟動(dòng)第一驅(qū)動(dòng)裝置202以驅(qū)動(dòng)摩擦輪203逆時(shí)針轉(zhuǎn)動(dòng)，轉(zhuǎn)動(dòng)帶204則開始帶動(dòng)機(jī)械臂向前運(yùn)動(dòng)，以使機(jī)械臂的承托件2012上的晶片到達(dá)預(yù)設(shè)位置，這時(shí)，通過(guò)升降裝置使機(jī)械臂下降，以將機(jī)械臂上的晶片放置到工藝腔室或工藝平臺(tái)上；進(jìn)一步地，啟動(dòng)第一驅(qū)動(dòng)裝置202以驅(qū)動(dòng)摩擦輪203順時(shí)針轉(zhuǎn)動(dòng)，轉(zhuǎn)動(dòng)帶204則將帶動(dòng)機(jī)械臂向后運(yùn)動(dòng)，再通過(guò)第二驅(qū)動(dòng)裝置208驅(qū)動(dòng)繞機(jī)械臂轉(zhuǎn)動(dòng)，以使機(jī)械臂可以繼續(xù)接取晶片。在實(shí)際應(yīng)用中，機(jī)械臂的長(zhǎng)度可以根據(jù)待傳送晶片的尺寸來(lái)調(diào)整，當(dāng)晶片的尺寸較小時(shí)，可以減少機(jī)械臂和支架205的長(zhǎng)度，以減少支架205的轉(zhuǎn)動(dòng)半徑；而在需要將傳送裝置安放在一定體積的傳送腔室里時(shí)，減少機(jī)械臂和支架205的長(zhǎng)度可以減小傳送腔室的體積，在第二驅(qū)動(dòng)裝置208的下端還可以安裝有升降裝置，升降裝置用于提升或降下傳送裝置，進(jìn)一步提高傳送裝置運(yùn)動(dòng)方式的多樣性和靈活性。而且由于L形的支架205具有良好的剛度和穩(wěn)定性，更有利于精確控制沿著導(dǎo)軌2053運(yùn)動(dòng)的機(jī)械臂的運(yùn)動(dòng)軌跡，以及提高機(jī)械臂上的承托件2012的位置精度。在上述各實(shí)施例中，可以在支架205上固定有套設(shè)在摩擦輪203和轉(zhuǎn)動(dòng)帶204周圍的防護(hù)罩，防護(hù)罩用于防止摩擦輪203和轉(zhuǎn)動(dòng)帶204摩擦產(chǎn)生的細(xì)小顆粒飛濺到晶片上； 也可以對(duì)摩擦輪203和轉(zhuǎn)動(dòng)帶204的表面進(jìn)行電解拋光處理，以提高摩擦輪203和轉(zhuǎn)動(dòng)帶 204的光滑度，減少二者摩擦?xí)r產(chǎn)生細(xì)小顆粒的機(jī)會(huì)。同時(shí)，為避免高光滑度帶來(lái)的摩擦輪203和轉(zhuǎn)動(dòng)帶204之間的摩擦力減小的問(wèn)題，摩擦輪203和轉(zhuǎn)動(dòng)帶204可以采用同一種材質(zhì)構(gòu)成，例如不銹鋼SUS304等，以提高摩擦輪203和轉(zhuǎn)動(dòng)帶204之間的粘和力；也可以通過(guò)調(diào)整張力輪206的位置來(lái)進(jìn)一步將轉(zhuǎn)動(dòng)帶204緊壓到摩擦輪203上，以增強(qiáng)摩擦輪203和轉(zhuǎn)動(dòng)帶204之間的摩擦力，防止摩擦輪203和轉(zhuǎn)動(dòng)帶204之間發(fā)生相對(duì)滑動(dòng)。上述各實(shí)施例通過(guò)驅(qū)動(dòng)摩擦輪帶動(dòng)轉(zhuǎn)動(dòng)帶運(yùn)動(dòng)來(lái)驅(qū)動(dòng)機(jī)械臂進(jìn)行往復(fù)運(yùn)動(dòng)，不僅使機(jī)械臂的邏輯控制優(yōu)化簡(jiǎn)單，而且摩擦輪和轉(zhuǎn)動(dòng)帶之間具有零間隙和重復(fù)性能好的特點(diǎn)，更容易精確地控制機(jī)械臂的位置及其運(yùn)動(dòng)軌跡，當(dāng)機(jī)械臂在取或放晶片時(shí)，機(jī)械臂、摩擦輪、張力輪和導(dǎo)向輪等部件所受的外力變化不明顯，使傳送裝置的各部件具有維護(hù)時(shí)間間隔長(zhǎng)、使用壽命長(zhǎng)的優(yōu)點(diǎn)。圖6本發(fā)明提供的傳送系統(tǒng)實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖。如圖6所示，本發(fā)明傳送系統(tǒng)包括傳送裝置、工藝腔室30和升降裝置，傳送裝置可以采用上述傳送裝置實(shí)施例中的任意一種結(jié)構(gòu)，工藝腔室30可以是用于刻蝕工藝、光刻工藝或化學(xué)沉積等加工晶片的工藝腔室， 工藝腔室30中設(shè)置有工藝平臺(tái)301，用于放置晶片；其中，在本實(shí)施例中，設(shè)定第一驅(qū)動(dòng)裝置202逆時(shí)針旋轉(zhuǎn)時(shí)，驅(qū)動(dòng)機(jī)械臂向工藝腔室方向移動(dòng)，第一驅(qū)動(dòng)裝置202順時(shí)針旋轉(zhuǎn)時(shí)， 將機(jī)械臂從工藝腔室中拉回。本發(fā)明傳送系統(tǒng)的具體工作流程如下在需要向工藝腔室30傳送晶片時(shí)，啟動(dòng)第一驅(qū)動(dòng)裝置202逆時(shí)針轉(zhuǎn)動(dòng)，第一驅(qū)動(dòng)裝置202驅(qū)動(dòng)摩擦輪203逆時(shí)針轉(zhuǎn)動(dòng)，轉(zhuǎn)動(dòng)帶204開始帶動(dòng)機(jī)械臂向工藝腔室30的進(jìn)出口方向運(yùn)動(dòng)，同時(shí)開啟工藝腔室30的進(jìn)出口 ；機(jī)械臂可通過(guò)該進(jìn)出口進(jìn)入工藝腔室30中，當(dāng)機(jī)械臂的承托件2012上的晶片到達(dá)工藝腔室30中的工藝平臺(tái)301的上方后，升降裝置降下傳送裝置以使機(jī)械臂承托件2012接近工藝平臺(tái)301，然后將晶片平穩(wěn)安全地放置在工藝平臺(tái)301上，升降裝置再將傳送裝置升起以升高機(jī)械臂，接著第一驅(qū)動(dòng)裝置202驅(qū)動(dòng)摩擦輪 203順時(shí)針轉(zhuǎn)動(dòng)，轉(zhuǎn)動(dòng)帶204將帶動(dòng)機(jī)械臂離開工藝腔室30，然后停留在工藝腔室30的進(jìn)出口附近，此時(shí)工藝腔室30關(guān)閉進(jìn)出口以在工藝腔室30中進(jìn)行加工晶片的制程，如光刻、 氣相沉積、物理刻蝕等制程；等到加工晶片的制程結(jié)束之后，再啟動(dòng)第一驅(qū)動(dòng)裝置202驅(qū)動(dòng)摩擦輪203逆時(shí)針轉(zhuǎn)動(dòng)，同時(shí)打開工藝腔室30的進(jìn)出口，轉(zhuǎn)動(dòng)帶204帶動(dòng)機(jī)械臂再次進(jìn)入工藝腔室30，然后降下機(jī)械臂以從工藝腔室30的工藝平臺(tái)301上取出加工后的晶片，接著第一驅(qū)動(dòng)裝置202驅(qū)動(dòng)摩擦輪203順時(shí)針轉(zhuǎn)動(dòng)，轉(zhuǎn)動(dòng)帶204將帶動(dòng)機(jī)械臂離開工藝腔室30， 從而實(shí)現(xiàn)從工藝腔室30中取出晶片。在實(shí)際應(yīng)用中，也可以設(shè)置兩個(gè)傳送裝置，其中一個(gè)傳送裝置專門負(fù)責(zé)從晶片盒的相應(yīng)位置取出待加工的晶片并傳送到工藝腔室30中，另一個(gè)傳送裝置則專門負(fù)責(zé)從工藝腔室30取出加工完成之后的晶片放置到晶片盒的相應(yīng)位置上，從而提高晶片的取放效率。本實(shí)施例通過(guò)驅(qū)動(dòng)摩擦輪和轉(zhuǎn)動(dòng)帶的方式來(lái)驅(qū)動(dòng)機(jī)械臂的往復(fù)運(yùn)動(dòng)，不僅使機(jī)械臂的邏輯控制優(yōu)化簡(jiǎn)單，而且摩擦輪和轉(zhuǎn)動(dòng)帶之間具有零間隙和重復(fù)性能好的特點(diǎn)，容易更精確地控制機(jī)械臂的位置和運(yùn)動(dòng)軌跡，在取或放晶片時(shí)，摩擦輪、張力輪和導(dǎo)向輪所受的外力變化不明顯，使傳送裝置具有維護(hù)時(shí)間間隔長(zhǎng)以及使用壽命長(zhǎng)的優(yōu)點(diǎn)?？梢岳斫獾氖?，以上實(shí)施方式僅僅是為了說(shuō)明本發(fā)明的原理而采用的示例性實(shí)施方式，然而本發(fā)明并不局限于此。對(duì)于本領(lǐng)域內(nèi)的普通技術(shù)人員而言，在不脫離本發(fā)明的精神和實(shí)質(zhì)的情況下，可以做出各種變型和改進(jìn)，這些變型和改進(jìn)也視為本發(fā)明的保護(hù)范圍。
權(quán)利要求
1.一種傳送裝置，其特征在于，包括機(jī)械臂、第一驅(qū)動(dòng)裝置、摩擦輪和轉(zhuǎn)動(dòng)帶；所述第一驅(qū)動(dòng)裝置的轉(zhuǎn)動(dòng)軸上固定有摩擦輪，所述摩擦輪通過(guò)與所述轉(zhuǎn)動(dòng)帶之間的摩擦力帶動(dòng)所述轉(zhuǎn)動(dòng)帶運(yùn)動(dòng)，所述轉(zhuǎn)動(dòng)帶與所述機(jī)械臂固定連接。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的傳送裝置，其特征在于還包括支架，所述支架上設(shè)置有用于機(jī)械臂滑動(dòng)的導(dǎo)軌，所述機(jī)械臂套接在所述導(dǎo)軌上并沿著所述導(dǎo)軌運(yùn)動(dòng)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的傳送裝置，其特征在于，所述機(jī)械臂包括支撐件、延長(zhǎng)件和承托件，所述延長(zhǎng)件的一端與所述承托件固定連接， 另一端與所述支撐件固定連接，所述支撐件滑設(shè)在所述導(dǎo)軌上。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的傳送裝置，其特征在于，所述支架上固定有套設(shè)在所述摩擦輪和所述轉(zhuǎn)動(dòng)帶的防護(hù)罩，該防護(hù)罩用于阻擋所述摩擦輪和所述轉(zhuǎn)動(dòng)帶摩擦產(chǎn)生的顆粒飛濺。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的傳送裝置，其特征在于，在所述支架上安裝有兩組張力輪，所述兩組張力輪設(shè)置在所述摩擦輪的兩側(cè)，該兩組張力輪用于將所述轉(zhuǎn)動(dòng)帶按壓在所述摩擦輪上。
6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的傳送裝置，其特征在于，在所述支架的兩端分別安裝有一組導(dǎo)向輪，所述轉(zhuǎn)動(dòng)帶繞設(shè)在兩組所述導(dǎo)向輪上以進(jìn)行循環(huán)運(yùn)動(dòng)。
7.根據(jù)權(quán)利要求2所述的傳送裝置，其特征在于，還包括第二驅(qū)動(dòng)裝置，所述第二驅(qū)動(dòng)裝置分別與所述支架和第一驅(qū)動(dòng)裝置固定連接，用于帶動(dòng)所述支架和第一驅(qū)動(dòng)裝置轉(zhuǎn)動(dòng)。
8.根據(jù)權(quán)利要求2所述的傳送裝置，其特征在于，所述摩擦輪與所述轉(zhuǎn)動(dòng)帶的表面均經(jīng)過(guò)拋光處理，以提高光滑度。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的傳送裝置，其特征在于還包括升降裝置，所述升降裝置用于升起或降下所述第二驅(qū)動(dòng)裝置。
10.一種傳送系統(tǒng)，其特征在于，包括工藝腔室和權(quán)利要求1-9任意一項(xiàng)所述的傳送裝置；所述傳送裝置的機(jī)械臂用于取放晶片； 所述工藝腔室中設(shè)置有放置晶片的工藝平臺(tái)。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的傳送系統(tǒng)，其特征在于，所述傳送裝置的數(shù)量為兩個(gè)，其中一個(gè)用于將晶片放置到所述工藝腔室，另一個(gè)傳送裝置用于從所述工藝腔室中取出晶片。
全文摘要
本發(fā)明提供一種傳送裝置及系統(tǒng)，其中，傳送裝置包括機(jī)械臂、第一驅(qū)動(dòng)裝置、摩擦輪和轉(zhuǎn)動(dòng)帶；所述第一驅(qū)動(dòng)裝置的轉(zhuǎn)動(dòng)軸上固定有摩擦輪，所述摩擦輪通過(guò)與所述轉(zhuǎn)動(dòng)帶之間的摩擦力帶動(dòng)所述轉(zhuǎn)動(dòng)帶運(yùn)動(dòng)，所述轉(zhuǎn)動(dòng)帶與所述機(jī)械臂固定連接。本發(fā)明通過(guò)驅(qū)動(dòng)摩擦輪帶動(dòng)轉(zhuǎn)動(dòng)帶運(yùn)動(dòng)來(lái)驅(qū)動(dòng)機(jī)械臂進(jìn)行往復(fù)運(yùn)動(dòng)，不僅使機(jī)械臂的邏輯控制優(yōu)化簡(jiǎn)單，而且摩擦輪和轉(zhuǎn)動(dòng)帶之間具有零間隙和重復(fù)性能好的特點(diǎn)，更容易精確地控制機(jī)械臂的位置及其運(yùn)動(dòng)軌跡，當(dāng)機(jī)械臂在取或放晶片時(shí)，機(jī)械臂、摩擦輪、張力輪和導(dǎo)向輪等部件所受的外力變化不明顯，使傳送裝置具有維護(hù)時(shí)間間隔長(zhǎng)、使用壽命長(zhǎng)的優(yōu)點(diǎn)。
文檔編號(hào)B65G47/90GK102452559SQ201010523079
公開日2012年5月16日 申請(qǐng)日期2010年10月22日 優(yōu)先權(quán)日2010年10月22日
發(fā)明者周衛(wèi)國(guó) 申請(qǐng)人:北京北方微電子基地設(shè)備工藝研究中心有限責(zé)任公司