除草化合物的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及具有化學(xué)式（I)的化合物或所述化合物的農(nóng)學(xué)上可接受的鹽，其中如在此所定義。本發(fā)明進(jìn)一步涉及包括具有化學(xué)式（I)的化合物的除草組合物，并且涉及其用于特別是在有用植物作物中控制雜草的用途。
【專利說明】除草化合物
[0001] 本發(fā)明涉及新穎除草化合物、涉及用于制備它們的方法、涉及包括這些新穎衍生 物的除草組合物、并且涉及其用于特別是在有用植物作物中控制雜草或用于抑制植物生長 的用途。
[0002] 除草的N-(四唑-5-基）和N-(三唑-5-基）芳基甲酰胺是從TO 2012/028579 已知的。除草的氧代吡嗪衍生物是從例如WO 2009/016841已知的。除草的氧代吡啶化合 物是從例如WO 2010/089993、WO 2010/116122和WO 2012/045721已知的。本發(fā)明涉及另 外的此類化合物的供應(yīng)。因此，根據(jù)本發(fā)明，提供了一種具有化學(xué)式（I)的化合物：
[0003]
【權(quán)利要求】
1. 一種具有化學(xué)式（I)的化合物：
或其農(nóng)學(xué)上可接受的鹽， 其中：_ X是O或S ; A1是CH或N ; A2 是 N 或 CR3 ; A3 是 N 或 CR4 ; A4 是 N 或 CR5 ; A5是N或CH ; 其中 R1選自下組，該組由以下各項(xiàng)組成：C1-C6燒基、C1-C 6齒代燒基以及C1-C6燒氧基-C1-C3 燒基； R2選自下組，該組由以下各項(xiàng)組成：氫、C1-C6燒基、C1-C 6齒代燒基、C1-C3燒氧基-C1-C3 燒基、C1-C3齒代燒氧基-C1-C3燒基、C 1-C3燒氧基-C1-C3燒氧基-C1-C 3-燒基、C1-C3燒氧 基-C1-C 3-齒代燒基X1-C3-燒氧基-C1-C3-燒氧基-C 1-C3-齒代燒基、C4_C6-氧雜取代的環(huán)燒 氧基-C 1-C3-燒基、C4-C6-氧雜取代的環(huán)燒基-C 1-C3-燒氧基-C1-C3-燒基、C4-C 6-氧雜取代 的環(huán)燒氧基-C1-C3-齒代燒基、C4-C 6-氧雜取代的環(huán)燒基-C1-C3-燒氧基-C1-C 3-齒代燒基、 (C1-C3鏈烷磺酰基-C1-C 3烷氨基）-C1-C3烷基、（C1-C3鏈烷磺?；?C 3-C4環(huán)烷氨基）-C1-C3烷 基、C 1-C6燒基撰基-C1-C3燒基、C3-C 6環(huán)燒基-C2-C6稀基、C2-C6塊基、C 2-C6-稀基、C2-C6 -齒 代烯基、氰基-C1-C6-烷基、芳基羰基-C1-C 3-烷基（其中該芳基可以任選地被一個(gè)或多個(gè) 選自下組的取代基取代，該組由以下各項(xiàng)組成：齒素、C1-C 3-燒氧基、C1-C3-燒基、C1-C3齒 代烷基）、芳基-C 1-C6烷基、芳氧基-C1-C6烷基（其中兩種情況下，該芳基可以任選地被一 個(gè)或多個(gè)來自下組的取代基取代，該組由以下各項(xiàng)組成：鹵素、C 1-C3-烷氧基、C1-C3-烷基、 C1-C3鹵代烷基）、以及一個(gè)三至十元單環(huán)的或二環(huán)的環(huán)系統(tǒng)，該環(huán)系統(tǒng)可以是芳香族的、飽 和的或部分飽和的并且可以包含從1至4個(gè)各自獨(dú)立地選自下組的雜原子，該組由以下各 項(xiàng)組成：氮、氧以及硫，該環(huán)系統(tǒng)可以任選地被一個(gè)或多個(gè)選自下組的取代基取代，該組由 以下各項(xiàng)組成=C 1-C3烷基、C1-C3鹵代烷基、C2-C 3烯基、C2-C3炔基、C1-C3烷氧基、C 1-C3鹵代 烷氧基、C1-C6烷基-S (O) P-、C1-C6鹵代烷基-S (O) P-、芳基、芳基-S (O) P、雜芳基-S (O) P、芳 氧基、雜芳氧基、C1-C3烷氧基羰基、C1-C 3烷氨基-S (o)p-、C1-C3烷氨基-S(O)P-C1-C3烷基、 C1-C3二燒氨基-S (0) p-、C1-C3二燒氨基-S (0) P-C1-C3燒基、C1-C3燒氨基羰基-、C 1-C3燒氨 基羰基-C1-C3烷基、C 1-C3二烷氨基羰基X1-C3二烷氨基羰基-C1-C 3烷基、C1-C3烷基羰基氨 基、C1-C3烷基-S(O)P-氨基、鹵素、氰基以及硝基；這些雜芳基取代基包含一至三個(gè)各自獨(dú) 立地選自下組的雜原子，該組由以下各項(xiàng)組成：氧、氮以及硫，并且其中該芳基或雜芳基組 分可以任選地被一個(gè)或多個(gè)選自下組的取代基取代，該組由以下各項(xiàng)組成：鹵素、C 1-C3烷 基、C1-C3鹵代烷基、C 1-C3烷氧基W1-C3鹵代烷氧基、苯基、氰基以及硝基； R3選自下組，該組由以下各項(xiàng)組成：氫、鹵素、C1-C6烷基、C 1-C6鹵代烷基、C1-C6烷基羰 基-C1-C3燒基、C3-C6環(huán)燒基-C 2-C6稀基-、C3-C6塊基、C 2-C6-稀基、C1-C6燒氧基C 1-C6燒基、 氰基-C1-C6-烷基、芳基羰基-C 1-C3-烷基（其中該芳基可以任選地被一個(gè)或多個(gè)選自下組 的取代基取代，該組由以下各項(xiàng)組成：齒素、C 1-C3-燒氧基、C1-C3-燒基、C1-C 3齒代燒基）、 芳基-C1-C6烷基（其中該芳基可以任選地被一個(gè)或多個(gè)來自下組的取代基取代，該組由以 下各項(xiàng)組成：齒素、C 1-C3-燒氧基、C1-C3-燒基、C1-C 3齒代燒基）、C1-C6燒氧基C1-C6燒氧 基C 1-C6烷基、芳基、一個(gè)5元或6元雜芳基、一個(gè)5元或6元雜芳基-C1-C 3-烷基以及雜環(huán) 基-C1-C3-烷基，該雜芳基或雜環(huán)基包含一至三個(gè)各自獨(dú)立地選自下組的雜原子，該組由以 下各項(xiàng)組成：氧、氮以及硫，并且其中該芳基、雜環(huán)基或雜芳基組分可以任選地被一個(gè)或多 個(gè)來自下組的取代基取代，該組由以下各項(xiàng)組成：鹵素、C 1-C3烷基、C1-C3鹵代烷基和C1-C 3 燒氧基、氛基以及硝基； R4選自下組，該組由以下各項(xiàng)組成：氫、氰基、硝基、鹵素、羥基、巰基、C1-C6烷基、C 3-C6 環(huán)烷基、C1-C6鹵代烷基、C2-C6鹵代烯基、C 2-C6烯基、芳基-C2-C6烯基、C2-C 6炔基、C1-C6烷 氧基、C4-C7環(huán)燒氧基、C 1-C6 1?代燒氧基、C1-C6燒基-S (0)p、C3-C6環(huán)燒基-S(0)p C1-C6齒 代烷基-S (0) p、C3-C6鹵代環(huán)烷基-S (0) p、C1-C6烷基羰基氨基、（C1-C6烷基羰基）C 1-C3烷 氨基、（C3-C6環(huán)烷基羰基）氨基、（C 3-C6環(huán)烷基羰基）C1-C3烷氨基、芳基羰基氨基、（芳基 羰基）-Cf 3烷氨基、（雜芳基羰基）氨基、（雜芳基羰基）C1-C3烷氨基、氨基、C 1-C6烷氨 基、C2-C6二燒氨基、C 2-C6烯基氨基、C1-C6燒氧基-C2-C 6-燒氨基、（C1-C6燒氧基-C2-C4-燒 基）-C 1-C6-燒氨基、C3-C6環(huán)燒氨基、C3-C 6環(huán)代燒氨基、C1-C3燒氧基-C3-C6環(huán)燒氨基、C 3-C6 炔基氨基、二烷氨基（其中這些取代基連接以形成一個(gè)任選地包含氧任選地被C1-C3-烷氧 基和/或鹵素取代的4-6元環(huán)）、C 2-C6二烷氨基磺酰基、C1-C6烷氨基磺?； 1-C6烷氧 基-C1-C6燒基、C1-C 6燒氧基-C2-C6燒氧基、C1-C6燒氧基-C 2-C6燒氧基-C1-C6-燒基、C3-C 6 烯基-C2-C6烷氧基、C3-C6炔基-C 1-C6烷氧基、C1-C6烷氧基羰基、C1-C 6烷基羰基、C1-C4亞 烷基-S(O)P-R' C1-C4亞烷基-CO2-R' C1-C4亞烷基- (CO) N-R7R'芳基、芳基C1-C3烷基、芳 基-s(0)p、雜芳基-s(0)p、芳氧基、一個(gè)5元或6元雜芳基、雜芳基C 1-C3烷基以及雜芳氧 基，該雜芳基包含一至三個(gè)各自獨(dú)立地選自下組的雜原子，該組由以下各項(xiàng)組成：氧、氮以 及硫，其中該芳基或雜芳基組分可以任選地被一個(gè)或多個(gè)選自下組的取代基取代，該組由 以下各項(xiàng)組成=C 1-C3烷基、C1-C3鹵代烷基、C1-C 3烷氧基A1-C3鹵代烷氧基、鹵基、氰基以及 硝基； R5選自下組，該組由以下各項(xiàng)組成：氫、氟、氯、羥基J1-C3鹵代烷基以及甲基； R6選自下組，該組由以下各項(xiàng)組成：氫、氯、氟以及甲基； R7獨(dú)立地選自下組，該組由以下各項(xiàng)組成：氫和C1-C6烷基；并且 P = 0、1 或 2。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的化合物，其中A1是N并且R1是甲基或乙基。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的化合物，選自下組，該組由以下各項(xiàng)組成：⑴其中A2是CR3， A3 是 CR4, A4 是 CR5 并且 A5 是 CH，（ii)其中 A2 是 CR3, A3 是 N，A4 是 CR5 并且 A5 是 CH，（iii) 其中A2是N，A3是CR4, A4是CR5并且A5是CH，（iv)其中A2是CR 3, A3是CR4, A4是N并且A5 是CH，A2是CR3,（V)其中A2是CR3, A3是CR4, A4是CR5并且A5是N以及（vi)其中A2是N， A3是CR4, A4是CR5并且A5是N。
4. 根據(jù)權(quán)利要求3所述的化合物，（i)其中A2是CR3, A3是CR4, A4是CR5并且A5是N 或（ii)其中A2是N，A3是CR4, A4是CR5并且A5是CH。
5. 根據(jù)以上權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的化合物，其中R2選自下組，該組由以下各項(xiàng)組成： C1-C6燒基、芳基以及一個(gè)包含一至三個(gè)各自獨(dú)立地選自下組的雜原子的5?；?兀雜芳基， 該組由以下各項(xiàng)組成：氧、氮以及硫，并且其中該芳基或雜芳基可以任選地被一個(gè)或多個(gè)選 自下組的取代基取代，該組由以下各項(xiàng)組成：鹵素、C 1-C3烷基、C1-C3鹵代烷基、C1-C 3烷氧 基、C1-C3齒代烷氧基、C1-C 6烷基-S (O)P-J1-C6齒代烷基-S (O)p-、氰基以及硝基。
6. 根據(jù)權(quán)利要求5所述的化合物，其中R2是任選地被一個(gè)或多個(gè)選自下組的取代基取 代的苯基，該組由以下各項(xiàng)組成：鹵素、C 1-C3烷基、C1-C3鹵代烷基、C2-C 3烯基、C1-C3烷氧基、 C1-C3鹵代烷氧基、甲硫基-、氰基以及硝基。
7. 根據(jù)以上權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的化合物，其中R3選自下組，該組由以下各項(xiàng)組成： 氫、鹵素以及C1-C 6燒基。
8. 根據(jù)以上權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的化合物，其中R4選自下組，該組由以下各項(xiàng)組成： 氫、鹵素、C1-C 6烷基以及C1-C6鹵代烷基。
9. 根據(jù)以上權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的化合物，其中R5是氫或鹵素。
10. 根據(jù)以上權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的化合物，其中R6選自下組，該組由以下各項(xiàng)組 成：氫、鹵素以及甲基。
11. 一種除草組合物，包括根據(jù)以上權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的一種除草化合物和一種 農(nóng)業(yè)上可接受的配制佐劑。
12. 根據(jù)權(quán)利要求11所述的除草組合物，進(jìn)一步包括至少一種另外的殺有害生物劑。
13. 根據(jù)權(quán)利要求12所述的除草組合物，其中該另外的殺有害生物劑是一種除草劑或 除草劑安全劑。
14. 一種在一個(gè)場(chǎng)所控制雜草的方法，該方法包括向該場(chǎng)所施用雜草控制量的根據(jù)權(quán) 利要求11至13中任一項(xiàng)所述的組合物。
15. 如在權(quán)利要求1中所定義的具有化學(xué)式（I)的化合物作為一種除草劑的用途。
【文檔編號(hào)】C07D401/12GK104220436SQ201380017850
【公開日】2014年12月17日 申請(qǐng)日期:2013年3月27日 優(yōu)先權(quán)日:2012年3月29日
【發(fā)明者】G·米歇爾, 0·A·薩若 申請(qǐng)人:先正達(dá)有限公司