技術(shù)特征：

1.一種耐超高溫的金屬紅外反射涂層，其特征在于，所述金屬紅外反射涂層自襯底向外依次包括擴散阻擋層、金屬紅外反射層和擴散阻擋層；

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的耐超高溫的金屬紅外反射涂層，其特征在于，所述金屬紅外反射層中ta原子百分比為0.5?at%-3?at%；所述擴散阻擋層中zr原子百分比為2?at%-8?at%。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的耐超高溫的金屬紅外反射涂層，其特征在于，所述金屬紅外反射層中ta原子百分比為1?at%-2.4at%；所述擴散阻擋層中zr原子百分比為3?at%-7at%。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的耐超高溫的金屬紅外反射涂層，其特征在于，所述金屬紅外反射層的厚度在100nm以上。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的耐超高溫的金屬紅外反射涂層，其特征在于，靠近襯底的擴散阻擋層厚度為10-20nm，遠離襯底的擴散阻擋層厚度為5-15nm。

6.根據(jù)權(quán)利要求1-5任一項所述的耐超高溫的金屬紅外反射涂層的制備方法，其特征在于，包括步驟：

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的耐超高溫的金屬紅外反射涂層的制備方法，其特征在于，多靶磁控濺射時氣壓為0.2-0.3?pa。

8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的耐超高溫的金屬紅外反射涂層的制備方法，其特征在于，所述襯底包括二氧化硅、不銹鋼、硅片和熱硅中任一種；

9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的耐超高溫的金屬紅外反射涂層的制備方法，其特征在于，金屬靶材ag和w采用的功率為1.5-4?w/cm2。

10.根據(jù)權(quán)利要求6所述的耐超高溫的金屬紅外反射涂層的制備方法，其特征在于，金屬靶材ta采用的功率范圍為0-0.8?w/cm2；金屬靶材zr采用的功率范圍為0-0.5?w/cm2。

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明涉及光學(xué)薄膜技術(shù)領(lǐng)域，公開一種耐超高溫的金屬紅外反射涂層及其制備方法，所述金屬紅外反射涂層自襯底向外依次包括擴散阻擋層、金屬紅外反射層和擴散阻擋層；所述金屬紅外反射層為AgTa合金薄膜，所述擴散阻擋層為WZr合金薄膜。制備方法包括步驟：選取金屬Ag、Ta、W和Zr作為共濺射靶材，在預(yù)處理后的襯底上多靶磁控濺射，施加等離子體轟擊輔助，依次制備擴散阻擋層、金屬紅外反射層和擴散阻擋層，形成所述金屬紅外反射涂層。該涂層具有更高溫度下（>600℃）的熱穩(wěn)定性和高紅外反射性能，適用于各種選擇性吸收涂層用于降低其紅外發(fā)射率，且制備工藝簡單，可重復(fù)性好。

技術(shù)研發(fā)人員：曹鴻濤,楊登,高俊華,熊輝,辛若晨,丁文靜
受保護的技術(shù)使用者：中國科學(xué)院寧波材料技術(shù)與工程研究所
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2025/1/6