1.一種具有吸塵功能的晶片研磨設(shè)備，包括用于支撐研磨設(shè)備的基臺(tái)、用于固定晶片的晶片托臺(tái)、用于支撐所述晶片托臺(tái)的工作臺(tái)、位于所述工作臺(tái)上方的研磨機(jī)構(gòu)和位于所述研磨機(jī)構(gòu)上方的加壓機(jī)構(gòu)，所述工作臺(tái)內(nèi)部設(shè)置有空腔，所述研磨機(jī)構(gòu)包括研磨頭、固定所述研磨頭的連接件和設(shè)置在研磨頭上方的驅(qū)動(dòng)電機(jī)；所述工作臺(tái)內(nèi)部設(shè)置有第一驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，所述第一驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)包括電機(jī)和傳動(dòng)結(jié)構(gòu)，所述傳動(dòng)結(jié)構(gòu)包括輸出齒輪、調(diào)速齒輪和從動(dòng)齒輪，所述輸出齒輪與所述電機(jī)的輸出軸連接，所述調(diào)速齒輪與所述輸出齒輪嚙合，所述調(diào)速齒輪與所述從動(dòng)齒輪同軸連接，所述調(diào)速齒輪與所述從動(dòng)齒輪均設(shè)置在轉(zhuǎn)軸上，其特征在于，所述工作臺(tái)表面設(shè)置有連通工作臺(tái)內(nèi)部的第一通孔，所述轉(zhuǎn)軸穿過通孔用于支撐所述晶片托臺(tái)，在所述晶片托臺(tái)和所述從動(dòng)齒輪之間的轉(zhuǎn)軸上設(shè)置有扇葉，所述工作臺(tái)下方連接有油箱，所述工作臺(tái)底部設(shè)置有連通所述油箱的第二通孔，所述油箱連接有輸油管，所述輸油管的出油口設(shè)置在第一通孔處。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有吸塵功能的晶片研磨設(shè)備，其特征在于，所述從動(dòng)齒輪分別嚙合有第二從動(dòng)齒輪和第三從動(dòng)齒輪，所述第二從動(dòng)齒輪和第三從動(dòng)齒輪分別同軸連接有第二轉(zhuǎn)軸和第三轉(zhuǎn)軸，所述第二轉(zhuǎn)軸和第三轉(zhuǎn)軸的上端穿過所述工作臺(tái)的第一通孔后，分別連接有所述晶片托臺(tái)，所述第二轉(zhuǎn)軸和第三轉(zhuǎn)軸上均固設(shè)有所述扇葉。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有吸塵功能的晶片研磨設(shè)備，其特征在于，所述晶片托臺(tái)上設(shè)置氣孔。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有吸塵功能的晶片研磨設(shè)備，其特征在于，所述連接件包括活動(dòng)支架和支臂，支臂的一端固定連接于活動(dòng)支架上，所述研磨頭分布設(shè)置在所述支臂上，所述研磨頭的覆蓋范圍小于晶片表面。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有吸塵功能的晶片研磨設(shè)備，其特征在于，所述工作臺(tái)還包括第二驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，所述第二驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)位于所述工作臺(tái)的底部，所述第二驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)包括用以驅(qū)動(dòng)所述工作臺(tái)產(chǎn)生徑向往復(fù)運(yùn)動(dòng)的第一絲杠和用以驅(qū)動(dòng)所述工作臺(tái)產(chǎn)生前后往復(fù)運(yùn)動(dòng)的第二絲杠。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有吸塵功能的晶片研磨設(shè)備，其特征在于，所述加壓機(jī)構(gòu)采用氣壓裝置。