技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明提供一種化學(xué)機械拋光方法，包括：提供襯底，其中所述襯底包括氧化硅和氮化硅；提供拋光漿料；提供拋光墊，包括：具有組合物的拋光層，所述組合物是多個成分的反應(yīng)產(chǎn)物，包括：多官能異氰酸酯和胺引發(fā)的多元醇固化劑；其中對所述胺引發(fā)的多元醇固化劑與所述多官能異氰酸酯的化學(xué)計量比進行選擇以調(diào)節(jié)所述拋光層的去除率選擇性；在拋光表面和所述襯底之間形成動態(tài)接觸；將所述拋光漿料分散到在所述拋光表面和所述襯底之間的界面處或界面附近的所述拋光墊上；并且，將至少一些所述氧化硅和所述氮化硅從所述襯底上去除。

技術(shù)研發(fā)人員：錢百年;郭毅;M·W·德格魯特;G·C·雅各布
受保護的技術(shù)使用者：羅門哈斯電子材料CMP控股股份有限公司;陶氏環(huán)球技術(shù)有限責(zé)任公司
文檔號碼：201610950906
技術(shù)研發(fā)日：2016.10.26
技術(shù)公布日：2017.05.10