1.一種化學(xué)機(jī)械拋光襯底的方法，包括：
提供所述襯底，其中所述襯底包括氧化硅和氮化硅；
提供拋光漿料，包括：
水；和
二氧化硅研磨劑，其中所述二氧化硅研磨劑具有在拋光pH為1至6時(shí)測(cè)得的正表面電荷；
提供化學(xué)機(jī)械拋光墊，包括：
具有組合物的拋光層、拋光表面和氧化硅材料與氮化硅材料之間的去除率選擇性，其中所述組合物為多個(gè)成分的反應(yīng)產(chǎn)物，包括：
(a)平均每分子具有至少兩個(gè)未反應(yīng)的異氰酸酯(NCO)基的多官能異氰酸酯；
(b)胺引發(fā)的多元醇固化劑，其中所述胺引發(fā)的多元醇固化劑每分子包含至少一個(gè)氮原子，且其中所述胺引發(fā)的多元醇固化劑平均每分子具有至少三個(gè)羥基；和
(c)可選的多個(gè)微量元素；
其中，對(duì)(b)的所述胺引發(fā)的多元醇固化劑中的活性氫基與(a)的所述多官能異氰酸酯中的所述至少兩個(gè)未反應(yīng)的異氰酸酯(NCO)基的化學(xué)計(jì)量比進(jìn)行選擇以調(diào)節(jié)所述去除率選擇性；并且其中，(b)的所述胺引發(fā)的多元醇固化劑中的活性氫基與(a)的所述多官能異氰酸酯中的所述至少兩個(gè)未反應(yīng)的異氰酸酯(NCO)基的化學(xué)計(jì)量比為1.25到1.8；
在所述拋光表面和所述襯底之間的界面處形成動(dòng)態(tài)接觸以拋光所述襯底的表面；
將所述拋光漿料分散到所述拋光表面和所述襯底之間的界面處或界面附近的所述化學(xué)機(jī)械拋光墊上；并且
將至少一些所述氧化硅和所述氮化硅從所述襯底上去除。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，進(jìn)一步包括：
提供具有旋轉(zhuǎn)壓板、旋轉(zhuǎn)頭和旋轉(zhuǎn)調(diào)節(jié)器的拋光機(jī)；其中將所述拋光層安裝在所述旋轉(zhuǎn)壓板上；其中將所述襯底固定到所述旋轉(zhuǎn)頭上；其中所述旋轉(zhuǎn)壓板以93轉(zhuǎn)/分鐘的壓板速度旋轉(zhuǎn)；其中所述旋轉(zhuǎn)頭以87轉(zhuǎn)/分鐘的桿頭速度旋轉(zhuǎn)；其中所述襯底以3psi的下壓力壓靠所述拋光層的拋光表面；其中所述拋光漿料以200mL/min的流速施用到所述拋光表面。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其中所述旋轉(zhuǎn)調(diào)節(jié)器為金剛石磨盤；其中利用所述旋轉(zhuǎn)調(diào)節(jié)器研磨所述拋光表面；其中所述旋轉(zhuǎn)調(diào)節(jié)器以垂直于所述拋光表面的7lbs的調(diào)節(jié)力壓靠所述拋光表面。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所提供的所述拋光層的組合物為包含所述胺引發(fā)的多元醇固化劑的所述多個(gè)成分的反應(yīng)產(chǎn)物；其中所述胺引發(fā)的多元醇固化劑平均每分子包含兩個(gè)氮原子和四個(gè)羥基；并且其中所述胺引發(fā)的多元醇固化劑的數(shù)均分子量MN為200到400。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所提供的所述拋光層的組合物為包含所述多個(gè)微量元素的所述多個(gè)成分的反應(yīng)產(chǎn)物，其中所述多個(gè)微量元素選自截留的氣泡、填充氣體的空心核聚合物材料、填充液體的空心核聚合物材料、水溶性材料和不溶相材料。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所提供的所述拋光層的組合物為包含所述多個(gè)微量元素的所述多個(gè)成分的反應(yīng)產(chǎn)物，其中所述多個(gè)微量元素為填充氣體的空心核聚合物材料。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，其中所提供的所述拋光層的組合物包含10體積％至25體積％的填充氣體的空心核聚合物材料。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所提供的所述化學(xué)機(jī)械拋光墊更包括：
具有頂表面和底表面的子墊，其中所述頂表面在所述拋光層的與所述拋光表面相對(duì)的一側(cè)上與所述拋光層接合；和
壓敏壓板粘合劑，其中所述壓敏壓板粘合劑安置在所述子墊的底表面上。
9.一種化學(xué)機(jī)械拋光墊，包括：
具有組合物的拋光層、拋光表面和氧化硅材料與氮化硅材料之間的去除率選擇性；其中所述組合物為多個(gè)成分的反應(yīng)產(chǎn)物，包括：
(a)平均每分子具有至少兩個(gè)未反應(yīng)的異氰酸酯(NCO)基的多官能異氰酸酯；和
(b)胺引發(fā)的多元醇固化劑，其中所述胺引發(fā)的多元醇固化劑每分子包含至少一個(gè)氮原子，且其中所述胺引發(fā)的多元醇固化劑平均每分子具有至少三個(gè)羥基；
其中(b)的所述胺引發(fā)的多元醇固化劑中的活性氫基與(a)的所述多官能異氰酸酯中的所述至少兩個(gè)未反應(yīng)的異氰酸酯(NCO)基的化學(xué)計(jì)量比為1.25到1.8；并且其中對(duì)(b)的所述胺引發(fā)的多元醇固化劑中的活性氫基與(a)的所述多官能異氰酸酯中的所述至少兩個(gè)未反應(yīng)的異氰酸酯(NCO)基的化學(xué)計(jì)量比進(jìn)行選擇以調(diào)節(jié)所述去除率選擇性。
10.一種制造用于化學(xué)機(jī)械拋光墊的拋光層的方法，包括：
提供(a)平均每分子具有至少兩個(gè)未反應(yīng)的異氰酸酯(NCO)基的多官能異氰酸酯；并
提供(b)胺引發(fā)的多元醇固化劑，其中所述胺引發(fā)的多元醇固化劑每分子包含至少一個(gè)氮原子，且其中所述胺引發(fā)的多元醇固化劑平均每分子具有至少三個(gè)羥基；
將所述多官能異氰酸酯和所述胺引發(fā)的多元醇固化劑組合以形成組合物；其中在所述組合物中，所述胺引發(fā)的多元醇固化劑中的活性氫基與所述多官能異氰酸酯中的所述至少兩個(gè)未反應(yīng)的異氰酸酯(NCO)基的化學(xué)計(jì)量比為1.25到1.8；并且其中在所述組合物中，對(duì)(b)的所述胺引發(fā)的多元醇固化劑中的活性氫基與(a)的所述多官能異氰酸酯中的所述至少兩個(gè)未反應(yīng)的異氰酸酯(NCO)基的化學(xué)計(jì)量比進(jìn)行選擇以調(diào)節(jié)所述拋光層的二氧化硅對(duì)氮化硅的去除率選擇性。